Ｆｅ／Ｃｕ巨磁阻多層薄膜的ＸＰＳ研究
2003-04-29 00:00:00鄭大方等
吉林大學學報(理學版) 2003年1期
提要：利用磁控濺射方法在Si襯底上制備了Cu／Pe多層薄膜，采用XPS方法及Ar離子對薄膜樣品進行刻蝕．研究表明，在多層薄膜的濺射界面存在合金，并觀測到濺射層向基體擴散的現象．
關鍵詞：Fe／Cu多層薄膜；磁控濺射；合金；結構分析
中圖分類號：TGl46．1
文獻標識碼：A
文章編號：1671—5489(2003)0l—0091—03
