多層冷壓印光刻中超高精度對正的研究

王　莉　盧秉恒　崔東印　丁玉成　劉紅忠

摘要：為滿足多層冷壓印光刻中套刻的超高精度要求，提出了基于斜紋結構光柵的對正技術．利用光電接收器件陣列組合接收光柵產生莫爾條紋的零級光，得到條紋平面內X、y方向的對正誤差信號．通過調整光柵副的間隙來提高誤差信號的對比度．利用高對比度和靈敏度的誤差信號作為控制系統的驅動信號，對承片臺進行宏微兩級驅動控制，并由激光干涉儀作為控制系統的反饋環節在驅動過程中進行全程監測，實現自動對正．最終使在X、y方向上的重復對正精度達到了i20nm，滿足了100nm特征尺寸壓印光刻的對正精度要求．

關鍵詞：壓印光刻；結構光柵；莫爾條紋；超高精度；對正

中圖分類號：THll2；THll3．1文獻標識碼：A文章編號：0253—987X(2004)09-0895—05