用機械破碎方法提高印刷碳納米管薄膜的場發射性能

曾凡光　朱長純　劉興輝　劉衛華

摘要：提出了一種可顯著改善絲網印刷碳納米管(CNTs)薄膜場發射特性的后處理方法，用機械壓力通過隔離層對附著于CNTs表面的無機物進行原位破碎，并用高速氣流清潔薄膜表面．同其他方法相比，機械破碎方法既不會在處理后的陰極表面留下殘留物，也不會使薄膜受損．場發射特性測試表明，與未處理薄膜相比，經過處理的CNTs薄膜的開啟場強從2．7V/μm降低到1．7V/μm，同樣面積的薄膜(印刷面·積為40mm×40mm)在乙2V／Fm場強下的發射電流由70VμA提高到了95μA，說明機械破碎處理對于提高薄膜的場發射特性有明顯作用．該方法在碳納米管場發射顯示器的制作中具有很好的實際應用價值．

關鍵詞：絲網印刷；碳納米管薄膜；場發射；后處理方法；場發射顯示器

中圖分類號：N27；0462．4文獻標識碼：A文章編號：0253—987X(2005)08—0863—04