EVG2010新品展示及市場(chǎng)預(yù)計(jì)

EV Group Regional Sales Director,Asia/Pacific Paul Kettner

盡管2009年全球經(jīng)濟(jì)依舊衰退，但也有一定技術(shù)亮點(diǎn)支撐著產(chǎn)業(yè)。現(xiàn)實(shí)證明2009年EVG 公司又是一個(gè)增長(zhǎng)的年份。我們目睹了由于對(duì)批量制造的例如CMOS 圖像傳感器封裝和晶圓級(jí)光學(xué)元件生產(chǎn)市場(chǎng)需求，來(lái)自研究機(jī)構(gòu)和著名大學(xué)訂單需求的增加，3D/TSV-相關(guān)設(shè)備的訂單額日益增加。盡管業(yè)內(nèi)專(zhuān)家對(duì)市場(chǎng)的復(fù)蘇預(yù)期不盡相同，EVG 公司對(duì)此持謹(jǐn)慎樂(lè)觀態(tài)度，因?yàn)?010年是半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，我們期望在市場(chǎng)有顯著增長(zhǎng)的機(jī)遇中作出貢獻(xiàn)。除了半導(dǎo)體領(lǐng)域，還有其他新出現(xiàn)的領(lǐng)域應(yīng)重點(diǎn)關(guān)注，包括在MEMS 許多縱向市場(chǎng)(例如，微機(jī)電系統(tǒng)和汽車(chē)應(yīng)用)，光伏和高亮度發(fā)光二極管領(lǐng)域。

中國(guó)正在成為EVG 公司半導(dǎo)體及相關(guān)產(chǎn)業(yè)日益重要的市場(chǎng)，在SEMICON China的展出對(duì)于EVG 公司建立一個(gè)強(qiáng)大的客戶(hù)網(wǎng)絡(luò)和本地化企業(yè)是至關(guān)重要的。在過(guò)去的SEMICON China 展出中，我們已經(jīng)看到EVG 打開(kāi)了新的商機(jī)-其中有些機(jī)遇已使我們能夠進(jìn)入了新的市場(chǎng)，今年我們?nèi)云诖瑯佑钟行碌臋C(jī)遇。由于SEMICON China 展覽仍在困難的經(jīng)濟(jì)時(shí)期舉行，很明顯，全球經(jīng)濟(jì)正顯現(xiàn)出明朗的復(fù)蘇跡象。因此，EVG 正在關(guān)注著各種商機(jī)的潛勢(shì)，希望抓住一切機(jī)會(huì)保持在中國(guó)市場(chǎng)的上升勢(shì)頭。

EVG 是以其市場(chǎng)領(lǐng)先的晶圓光刻和鍵合系統(tǒng)及UV 鏡頭成型設(shè)備成為晶圓級(jí)CMOS 圖像傳感器和微光學(xué)元件生產(chǎn)技術(shù)的先驅(qū)公司。最近在中國(guó)安裝的設(shè)備進(jìn)一步鞏固了我們?cè)谶@一技術(shù)領(lǐng)域的旗艦地位。與此技術(shù)密切相關(guān)的是我們的超薄晶圓處理和臨時(shí)鍵合和解鍵合(TB/ DB)的解決方案。EVG 公司開(kāi)發(fā)的這種技術(shù)，早在2001年就成為采用硅通孔(TSVs)3 維集成的關(guān)鍵。我們的臨時(shí)鍵合/解鍵合系統(tǒng)能夠減薄和處理超薄晶圓，以確保在以后的晶圓加工步驟中結(jié)構(gòu)和邊緣的完整性。EVG提供了從手動(dòng)到全自動(dòng)模式200 毫米和300 毫米設(shè)備，以解決研發(fā)到大批量制造需求。

EVG 早在這些高增長(zhǎng)市場(chǎng)的幾年之前便開(kāi)始評(píng)測(cè)其技術(shù)解決方案。我們業(yè)已，并將繼續(xù)實(shí)行公司的三"i" 體系，發(fā)明、創(chuàng)新、落實(shí)到設(shè)備，這使我們能夠及時(shí)開(kāi)發(fā)出鍵合，光刻，對(duì)準(zhǔn)和測(cè)量系統(tǒng)來(lái)滿(mǎn)足市場(chǎng)的需要。這種技術(shù)方法對(duì)于EVG 公司的市場(chǎng)變化，經(jīng)濟(jì)的穩(wěn)定發(fā)展具有至為關(guān)鍵的影響。

在2010年的SEMICON China 展會(huì)上，EVG集團(tuán)將展示其最新推出的納米壓印解決方案-EVG770 以及我們用于三維IC 集成和超薄晶圓加工的鍵合和對(duì)準(zhǔn)技術(shù)解決方案。EVG770 作為首次基于紫外光的納米壓印分步重復(fù)光刻系統(tǒng)，是專(zhuān)用于微光學(xué)器件（例如CMOS 圖像傳感器和圓片級(jí)照相機(jī)的微透鏡）制作的圖形曝光設(shè)備。該系統(tǒng)增強(qiáng)了單步工藝，并能夠?yàn)閷?zhuān)業(yè)的鏡頭制造者增添納米壓印圖形直至之后的晶圓級(jí)微透鏡制作成型的能力。實(shí)現(xiàn)高分辨率特點(diǎn)的其他應(yīng)用包括，例如波導(dǎo)管、環(huán)形諧振器的制造以及納米電子產(chǎn)品的研發(fā)等。