采用回轉窯制備四氟化硅的方法

本發明公開了一種采用回轉窯制備四氟化硅的方法，該方法是將氟硅酸鈉與硫酸預反應后送入回轉窯中進一步反應，回轉窯窯內壓力為-5～-2 kPa，窯內由前向后3段分別控制溫度在 160～190℃、191～220℃、221～250℃， 反應完成后，將四氟化硅與HF混合氣分離。本發明采用回轉窯作為反應設備進行反應，原料可采用磷肥廠的副產物氟硅酸鈉，且裝置主要固廢硫酸鈉仍可被磷肥廠回收用來生產氟硅酸鈉；本發明通過設計三段式加熱方式，使得原料充分反應；另外，全過程無難處理的“三廢”，無需廢酸濃縮裝置，大大節省了裝置投入。