摘 要:鎂合金比重在所有結構用合金中屬于最輕者。我公司目前生產的電子通信設備中,其外殼、內部安裝結構件如屏蔽盒、支撐板等采用了鎂合金材料,要求具有一定的防護性及導電性。通過調整配方及工藝參數(shù)對鎂合金進行導電氧化處理,使鎂合金表面形成金黃色氧化膜,以提高其防護性能。
關鍵詞:鎂合金;導電氧化;金黃色
1 引言
鎂合金具有比重小,比強度、比鋼度高,電磁屏蔽性能、散熱性能好等優(yōu)點,是減輕武器裝備質量,實現(xiàn)武器裝備輕量化,提高武器裝備各項戰(zhàn)術性能的理想結構材料。鎂元素符號Mg,原子充數(shù)為12,電子結構為2-8-2,標準電極電位很負(-2.36V),化學活性極高,較易失去電子而發(fā)生氧化反應,從而導致鎂及鎂合金的耐腐蝕性很差。導電氧化是防腐蝕表面處理手段中最常用也是最有效的方法之一。
通過導電氧化鎂合金表面可獲得致密、均勻、耐蝕、附著力強的金黃色的鈍化膜層。
2 氧化工藝
2.1 氧化試驗材料
試驗所用的材料為AZ31B鎂合金,它的化學成分見表1。
表1 鎂合金AZ31B化學成分表
氧化樣件尺寸:60mm×60mm×1mm。
2.2 氧化過程工藝參數(shù)
2.2.1 工藝流程
堿洗→水洗→酸浸→水洗→氧化→水洗→吹干→烘干→檢驗。
2.2.2 典型工藝
(1)堿洗:20g/L Na2CO3,18g/L Na3PO4,10g/L Na3SiO3,1g/L NaOH,溫度:50~60℃,時間:5~8min。
(2)酸洗:50~100g/L HNO3,常溫,時間:2~3min。
(3)鉻酸鹽處理:3-4g/L CrO3,1-3g/L Na2Cr2O7,0.5g/L NaF,0.5g/L 緩蝕劑,溫度為常溫,PH值為1.5,時間:5-10min。
2.3 各成分作用
(1)鉻酸CrO3:鉻酸CrO3是成膜的主要成分,其含量對氧化膜的形成速度和外觀質量都有著重要影響。其含量低時,成膜速度較慢,膜較薄且不完整,色澤偏綠偏淡,耐腐蝕性能下降,含量增大,氧化膜越厚,耐蝕性好,色澤為金黃色,當含量過高時,反應速度太快,膜層結晶粗糙,不致密,色澤較深,附著力差。應控制CrO3濃度在3-4g/L。
(2)活化劑:采用含F(xiàn)- 的化合物如NaF作為鉻酸液的活化劑,可以加快成膜反應速度,F(xiàn)-主要作用是維持溶液中的游離酸度,加速鎂合金表面的氧化膜的溶解與腐蝕,但其含量不能過大或過小,過大則生成的膜層疏松,呈粉末狀,附著力差,影響強度。過小則反應時間較長,膜層較薄,耐蝕性差,甚至不能成膜。當NaF的含量為0.5 g/L效果較好。
(3)緩蝕劑:緩蝕劑在鉻酸溶液中主要起緩沖作用,使溶液中的PH值保持相對穩(wěn)定,控制溶液的氧化反應速度和改善膜層質量,使鈍化膜均勻、致密和牢固。緩蝕劑含量過高,造成成膜反應速度慢,膜層顏色變淺,甚至不能生成金黃色氧化膜。緩蝕劑用量以0.5g/L最好。
2.4 其它條件對成膜的影響
(1)溫度:溶液溫度對成膜的性能有很大影響。溫度高,成膜速度加快,有利于形成較硬的膜層,但膜層不致密,膜變薄,耐蝕性差。同時,鉻酸溶液中的有效成分揮發(fā)快,使用壽命短,溫度低,成膜色澤淡,疏松,耐蝕性差。因此,成膜反應宜在常溫下進行。
(2)攪拌:氧化過程中攪拌有利于提高反應速度,縮短反應時間,避免工件之間遮擋造成的局部無鈍化膜現(xiàn)象,可以使氧化膜成膜均勻。但過度攪拌也會使膜層反應過速,造成工件間碰撞、劃傷氧化膜,也容易使氧化膜吳粉狀膜。因此要選擇合適的攪拌強度。
(3)時間:氧化時間是影響成膜厚度和色澤的重要因素。氧化時間短,膜層生長不完整,膜層薄,顏色不均勻,氧化時間長,膜層粗糙、疏松,色澤差,易粉化,附著力差。一般控制在5~10min。
(4)PH值:鉻酸溶液的PH值對氧化膜的形成和質量有著很大影響。若溶液的PH值過低,鎂金屬溶解速度增加,成膜反應速度加快,膜層疏松,附著力差,若PH值過高,成膜反應減慢,膜層薄且色澤淺,耐蝕性差。因些,氧化液的PH值應控制在1.5左右,用98% H2SO4和濃氨水調節(jié)。
(5)水洗吹干:氧化后的水洗應迅速,一般在5-10s,以防止?jié)駪B(tài)膜水解。然后迅速用壓縮空氣吹干,否則成膜不完備,降低抗蝕性。
(6)烘干:鉻酸鹽膜在50℃以上烘干,可顯著增加速度。但溫度過高會使膜層出現(xiàn)裂紋,不利于抗蝕。烘箱溫度控制在50℃~60℃,時間:20-30min。
(7)預處理:氧化前必須對工件進行預處理,其主要目的是除去鎂合金表面的油脂、切削油等污物。預處理的方法是堿洗,堿洗過后進行進行超聲波水洗,然后酸浸,酸洗進一步除去鎂合金表面的金屬氧化物、灰渣,起活化表面的作用。堿洗的溫度:50~60℃,時間:5~8min。酸洗用50~100g/LHNO3,常溫,時間:2~3min。
3 結論
通過試驗,鎂合金化學氧化的最佳工藝為:3-4g/L CrO3,1-3g/L Na2Cr2O7,0.5g/L NaF,0.5g/L 緩蝕劑,溫度為常溫,PH值為1.5,氧化時間為5-10min。當然,鎂合金的成分或熱處理狀態(tài)不同,其表面特性也不同,可導致相同處理工藝得到不同的結果。采用新的鎂合金化學氧化工藝,可以獲得金黃色導電鈍化膜,膜層結合力強,耐蝕性好,膜層性能達到軍標要求。