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純鎳金相腐蝕中化學(xué)拋光方法的研究

2014-09-14 07:26:00趙堂昌
有色金屬材料與工程 2014年2期
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趙堂昌,

(金川集團(tuán) 鎳鈷研究設(shè)計(jì)院,甘肅 金昌 737100)

純鎳金相腐蝕中化學(xué)拋光方法的研究

趙堂昌,凌得魁

(金川集團(tuán) 鎳鈷研究設(shè)計(jì)院,甘肅 金昌737100)

對純鎳化學(xué)拋光方法中拋光劑的組成、拋光溫度和拋光時(shí)間進(jìn)行了研究.結(jié)果表明:用正交試驗(yàn)方法確定金屬的拋光配方可行,此方法可以用于其他金屬或合金;純鎳拋光的較佳腐蝕液配方的體積分?jǐn)?shù)為正磷酸4.8%、硫酸66.7%和鹽酸28.5%,腐蝕時(shí)間為15min;該方法可以一次進(jìn)行多組試樣的化學(xué)拋光.

化學(xué)拋光; 拋光劑; 拋光溫度; 拋光時(shí)間; 正交試驗(yàn)

0 前 言

一些小的科研院所具有為生產(chǎn)單位提供金相檢測的職能,但又不具有相關(guān)的金相檢測設(shè)備,需使用其他單位的檢測設(shè)備,輔助時(shí)間耗時(shí)較長,同時(shí)傳統(tǒng)機(jī)械拋光機(jī)一次磨拋的樣品數(shù)量有限,造成檢測效率低下;在實(shí)際檢測工作中發(fā)現(xiàn)純鎳的金相樣品制備較難掌握,需要有一定的經(jīng)驗(yàn)積累.為此急需找到一種易于操作、效率高和不依賴拋光設(shè)備的拋光方法.

本文通過對純鎳化學(xué)拋光方法中拋光劑的組成、拋光時(shí)間以及拋光溫度對拋光效果的影響進(jìn)行了探討,提出了合理的純鎳化學(xué)拋光工藝.

1 試驗(yàn)方法

1.1 拋光劑的選擇

選擇硫酸、鹽酸和磷酸作為拋光劑的主要成分.根據(jù)前期試驗(yàn),分析了各成分的主要作用.

硫酸為主要腐蝕劑,如果成分比例太多,會(huì)在純鎳表面形成一層鈍化膜,阻止酸液的繼續(xù)腐蝕.

鹽酸為輔助腐蝕劑,有助于純鎳試樣表面鈍化膜的溶解.

正磷酸起防護(hù)作用,在試樣表面形成一層保護(hù)膜,防止腐蝕過度.

表1為腐蝕劑中各組分最大的體積分?jǐn)?shù).

表1 腐蝕劑中各組分最大體積分?jǐn)?shù)Tab.1 Maximum volume fraction of each component in etchant

1.2 試驗(yàn)方案

根據(jù)腐蝕液各成分的最大比例和正交試驗(yàn)法,確定從大到小等級、試驗(yàn)次數(shù)和試驗(yàn)量.將試樣用1 200目水砂紙打磨作為最終精磨.鎳拋光正交試驗(yàn)得到的參數(shù)見表2.

表2 鎳拋光參數(shù)Tab.2 Nickel polishing parameters

1.3 試驗(yàn)驗(yàn)證

(1) 試樣隨著腐蝕程度的增加,劃痕變少、變深,有較深的劃痕被腐蝕出來.所以確定不同試驗(yàn)編號試樣的劃痕深度進(jìn)行評級,用顯微鏡進(jìn)行拍照、存底.

(2) 對試驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行計(jì)算,得出最佳配方重新進(jìn)行驗(yàn)證.

(3) 拋光效果判斷標(biāo)準(zhǔn):可以清楚看到晶界,劃痕少.

通過試驗(yàn)驗(yàn)證得到的位級明細(xì)見表3.

表3 位級明細(xì)Tab.3 Bit-level schedule

2 結(jié)果及分析

試驗(yàn)結(jié)果的分析原則為:

(1) 腐蝕程度與劃痕深度成正比,與劃痕數(shù)量成反比,在一定范圍內(nèi)與試樣微觀表面平整度成正比.

(2) 可以用劃痕深度表示腐蝕程度.腐蝕效果好:深度H=1;腐蝕過度:深度H>1;腐蝕不足:深度H<1;完全沒反應(yīng):深度H=0.5.

圖1為通過不同參數(shù)拋光的16組試樣腐蝕后的金相組織照片.對金相照片進(jìn)行判斷確定各編號試樣的腐蝕深度見表4.

表4 各編號試樣腐蝕深度Tab.4 Corrosion depth of each sample

根據(jù)正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)法對腐蝕深度進(jìn)行計(jì)算分析見表5.各參數(shù)效果計(jì)算見表6.

圖1 各編號試樣腐蝕情況Fig.1 Corrosion of each sample

表5 各試樣腐蝕參數(shù)與腐蝕深度Tab.5 Depth and parameters of corrosion

表6 各參數(shù)效果計(jì)算Tab.6 Calculation of the effect of parameter

通過上述試驗(yàn)分析可知:

(1) 影響因素從大到小的順序?yàn)?硫酸>時(shí)間>鹽酸>正磷酸;

(2) 最優(yōu)化配方組合的體積為:正磷酸30 ml;硫酸90 ml;鹽酸30 ml;時(shí)間15 min.

根據(jù)優(yōu)化后的配方進(jìn)行腐蝕情況驗(yàn)證,如圖2所示.

從圖2可以看出,試樣1和試樣2腐蝕效果不明顯.因?yàn)閳D1中編號5已出現(xiàn)腐蝕結(jié)果相對較好的情況,所以認(rèn)為這種情況是腐蝕情況過度或不足造成的.因此改變試驗(yàn)時(shí)間,增加試樣的腐蝕程度.試樣1腐蝕時(shí)間20 min,試樣2腐蝕時(shí)間25 min,腐蝕效果如圖3所示.

將圖3(a)、圖3(b)與圖2中的照片進(jìn)行對比,發(fā)現(xiàn)改變腐蝕時(shí)間后,試樣的腐蝕效果變化不大.圖3(c)為用乙醇+三氯化鐵溶液對圖3(a)進(jìn)行擦拭后的照片.從圖3(c)中可以清晰地看見晶粒.經(jīng)檢查,方法和步驟沒有問題,唯一的問題是腐蝕深度.各編號試樣腐蝕深度見表7.對照片的腐蝕程度認(rèn)定出現(xiàn)了錯(cuò)誤,需要重新修訂腐蝕深度.

2.1 腐蝕深度修訂

重新確定腐蝕程度標(biāo)準(zhǔn):最大腐蝕程度為1;微可見晶粒為0.8;無反應(yīng)為0.5.

根據(jù)正交試驗(yàn)設(shè)計(jì)法對重新修訂的結(jié)果進(jìn)行分析.各試樣腐蝕參數(shù)與腐蝕深度見表8.各參數(shù)效果計(jì)算見表9.

表7 各編號試樣腐蝕深度Tab.7 Corrosion depth of each sample

表8 各試樣腐蝕參數(shù)與腐蝕深度Tab.8 Depths and parameters of corrosion

表9 各參數(shù)效果計(jì)算Tab.9 Calculation of the parameter effects

2.2 小 結(jié)

(1) 影響因素從大到小:硫酸>鹽酸>時(shí)間>正磷酸;

(2) 最優(yōu)化的配方組合:正磷酸的體積分?jǐn)?shù)為4.8%;硫酸的體積分?jǐn)?shù)為66.7%;鹽酸的體積分?jǐn)?shù)為28.5%;時(shí)間為15 min.

2.3 結(jié)果驗(yàn)證

按修訂后的配方進(jìn)行腐蝕的照片見圖4.從圖4中可以看出明顯的晶粒,說明腐蝕效果良好.

圖4 使用最終配方的腐蝕效果Fig.4 Corrosion using the final formulation

3 結(jié) 論

(1) 用正交試驗(yàn)方法確定金屬的拋光配方可行,此方法可用于其他金屬或合金.

(2) 純鎳拋光配方的體積分?jǐn)?shù)為正磷酸4.8%、硫酸66.7%、鹽酸28.5%、腐蝕時(shí)間15 min.

(3) 由于化學(xué)拋光的局限性,只能限于晶粒觀察,對夾雜物分析等無效.

(4) 本方法可以一次進(jìn)行多組試樣的化學(xué)拋光.

[1]林曉晴.QC小組基礎(chǔ)教程[M].北京:中國社會(huì)出版社,2005.

AStudyonMetallurgicalCorrosionofPureNickelbyChemicalPolishing

ZHAOTong-chang,LINGDe-kui

(Nickel&CobaltResearchandEngineeringInstitute,
JinchuanGroupCo.,Ltd.,Jinchang737100,China)

The experiments were conducted on the polishing agent that is used in the chemical polishing of pure nickel.The study of the composition of the agent,polishing temperature and polishing time proves the feasibility of the orthogonal method in determining the formulation and the applicability of this method to other metals or alloys.It is also found that by means of the orthogonal method favorable results can be obtained from a series of pure nickel metallographic samples by chemical polishing.

chemical polishing;polishing agent; polishing temperature; polishing time; orthogonal experiment

1005-2046(2014)02-0061-05

10.13258/j.cnki.snm.2014.02.004

2012-12-13

趙堂昌(1982-),男,工程師,主要從事與金屬材料相關(guān)的現(xiàn)場技術(shù)工作.E-mail:tangchang2769@163.com.

TG175.3

A

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