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RG-281 堿性鋅-鎳合金工藝的研究

2015-01-29 02:14:50呂明威
電鍍與環保 2015年1期
關鍵詞:工藝質量

馬 靜, 呂明威

(武漢奧邦表面技術有限公司,湖北 武漢430023)

0 前言

隨著現代工業和科學技術的飛速發展,人們對防護性鍍層的要求越來越高,傳統的純鋅鍍層已不能滿足生產要求。鋅-鎳合金中鎳的質量分數一般為10%~15%,其耐蝕性和耐磨性為鍍鋅層的3~5倍[1]。

本文研究了鋅-鎳合金工藝,進行了鍍液性能和鍍層性能測試,并將最優條件下得到的鋅-鎳合金鍍層的耐蝕性與純鋅鍍層的進行對比。

1 試驗

1.1 儀器與設備

LZ-1型赫爾槽試驗儀,武漢隆澤電子有限公司;501型超級恒溫水浴槽,上海圣威科學儀器有限公司;能量色散X 熒光光譜儀,江蘇天瑞儀器股份有限公司;276 mL 赫爾槽,南京整流器廠;SYD-13型電鍍陰極移動裝置,上海實用電子研究所;SCQ-1201型超聲波清洗儀,上海聲嚴超聲波儀器有限公司;恒溫干燥箱,上海光地儀器設備有限公司;YWX/Q-150型鹽霧試驗箱,安特穩實驗設備有限公司。

1.2 鋅-鎳合金鍍液的配制

RG-281鋅-鎳合金鍍液的配方為:氧化鋅8~12g/L,氫氧化鈉100~140g/L,RG-281 配位劑80~110mL/L,RG-281 鎳補加劑8~12 mL/L,RG-281光亮劑1~3mL/L,溫度20~30℃,攪拌速率3~5r/min,過濾速率4~6 循環/h,電流密度1~5A/dm2。

鍍液的配制方法:加入1/4體積去離子水于鍍槽中,加入計量的氧化鋅,并調制成糊狀,邊攪拌邊緩慢加入計量的氫氧化鈉,與氧化鋅一起調制成清液狀態。加入去離子水至鍍槽體積的2/3處,冷卻至4℃以下。均勻加入計量的RG-281 配位劑和RG-281鎳補加劑的混合液,加入計量的RG-281光亮劑,補加去離子水至刻度,攪拌均勻,小電流電解數小時,即可試鍍。

1.3 試樣的制備

將赫爾槽放在恒溫水浴槽中,在恒定的電流密度下試驗。

取厚度為0.2mm 的經布輪拋光成鏡面的冷軋紫銅片(尺寸為5cm×5cm)作為陰極試片。

1.4 耐蝕性試驗

分別采用表面積為1.0dm2、厚度為2 mm 的08F鋼板試樣,在完全相同的條件下,以2 A/dm2的電流密度電鍍30min,并進行彩色鈍化和黑色鈍化,繼而進行中性鹽霧試驗,記錄表面出現白銹和紅銹的時間[3-5]。

1.5 鍍液分散能力試驗

分散能力采用赫爾槽試片法測試。在試片的中心劃一條橫線,再在中心線以上10mm 處劃一條與中心線平行的橫線,將兩線間用垂直線分隔成等距的10個方格,即每格間距10mm,棄去兩端各1格,還剩余8 格。將近陽極的高電流端的鍍層厚度記為δ1,以后依次為δ2,δ3……δ8。分散能力的計算公式為:

式中:δi為被選擇的任一方格的鍍層厚度;δ1為1號方格的鍍層厚度。

測試條件:槽液溫度25℃,施加電流2A,電鍍時間10min。

1.6 電流效率試驗

用庫侖計測定法測試。庫侖溶液為硫酸(d=1.84g/cm3)25 mL/L,硫酸銅125g/L,己醇50 mL/L。在θ=25℃,Jk=2A/dm2的條件下,以銅片為陰極,電鍍30min。電流效率的計算公式為:

式中:m1為鍍液中陰極增重;m0為庫侖溶液中陰極增重;K為被測鍍液陰極析出物質的電化學當量。

2 結果與討論

2.1 鍍液成分及工藝條件對鍍層中鎳的影響

2.1.1 氧化鋅

氧化鋅是鍍液的主鹽,提供鋅離子,可在較大的范圍內變化。當氧化鋅的質量濃度過高時,鍍液的分散能力和深鍍能力變差,工件尖角處鍍層粗糙,幾何形狀復雜的工件很可能出現陰陽面;當氧化鋅的質量濃度過低時,沉積速率慢。本工藝中氧化鋅的質量濃度在8~12g/L之間。

2.1.2 氫氧化鈉

氫氧化鈉對鋅起配位作用,促使陽極溶解,提高鍍液的導電性。當氫氧化鈉的質量濃度過高時,會加速陽極溶解,電流效率下降,而且堿的濃度高,易黏附于工件表面,不易清洗干凈,影響鈍化膜的質量,鍍層泛白;當氫氧化鈉的質量濃度過低時,鍍液的導電性變差,槽電壓上升,陽極易發生鈍化,電流密度范圍變窄,鍍層發暗、粗糙。本工藝中氫氧化鈉的質量濃度在100~140g/L之間。

2.1.3 RG-281配位劑

由于鋅和鎳的電極電位相差較大,兩者在溶液中無法發生共沉積[6-7]。而加入了RG-281 配位劑后,使兩者分別以配合物的形式存在,并且形成穩定的配合物。這樣使得鋅、鎳離子配合物的沉積電位相近而發生共沉積,并且阻止鎳離子和氫氧化鈉反應生成沉淀,從而獲得更好的鍍層。本工藝中RG-281配位劑的體積分數在80~110mL/L之間。

2.1.4 RG-281鎳補加劑

RG-281鎳補加劑是鍍液中鎳離子的來源,是保證整個工藝性能良好的關鍵。鍍液中鎳的質量濃度直接影響鍍層中鎳的質量分數。本工藝中RG-281鎳補加劑的體積分數在8~12mL/L之間。

2.1.5 RG-281光亮劑

RG-281光亮劑可改善低電流密度區的光澤度,提高鍍層的光亮度和均勻性,使鍍層的可塑性增強;此外,還可以提高鍍液的分散能力,增大Zn2+在陰極的極化,并對Ni2+在陰極的沉積起去極化作用。本工藝中RG-281光亮劑的體積分數在1~3mL/L之間。

2.1.6 溫度

適當的溫度,可以提高沉積速率和電流效率。溫度偏低時,可增強陰極極化作用,但會降低電流效率,陰極析氫嚴重,使鍍層產生氫脆或起泡;溫度升高,鍍液的黏度下降,加快離子的擴散速率,提高鍍液的導電性,電流效率也相應地提高;但溫度過高,添加劑的吸附能力將下降,陰極極化值減小,鍍液的深鍍能力和分散能力變差,鍍層粗糙,鈍化后發霧,對合金組分影響也大。本工藝中溫度控制在20~30℃之間。

圖1為溫度對鍍層中鎳的質量分數的影響。從圖1中可以看出:溫度對鍍層成分的影響不大,隨著溫度的升高,鍍層中鎳的質量分數先緩慢升高然后下降。這是因為鍍液中放電離子的遷移速率隨溫度的變化而變化。

圖1 溫度對鍍層中鎳的質量分數的影響

2.1.7 電流密度

電流密度大,出光快。但電流密度過大,導致陰極電極電位更負,表面活性劑發生脫附,引起鍍層粗糙、發黑,出現氣流、條紋,后續鈍化工序困難。電流密度過小,沉積速率慢,光亮度差。本工藝中電流密度控制在1~5A/dm2之間。

電流密度對鍍層中鎳的質量分數的影響,如圖2所示。從圖2中可以看出:在很大的電流密度范圍內,鍍層中鎳的質量分數都處于一個相對穩定的狀態。故本工藝中電流密度可以取一個相對較廣的范圍。

圖2 電流密度對鍍層中鎳的質量分數的影響

2.2 鍍液性能

2.2.1 赫爾槽試驗

在不同條件下電鍍10min,結果如表1所示。

表1 不同試驗條件下的赫爾槽試片

2.2.2 鍍液分散能力

δi取δ5。用赫爾槽試片法測得鍍液分散能力為48.5%。

2.2.3 電流效率

用庫侖計測得m1=0.218 5g,m0=0.222 3g,鍍層中鎳的質量分數為11.7%,計算出鍍層電化學當量K=1.290g/(A·h)。根據公式計算得出電流效率為90%。

常規的鋅-鎳合金槽液使用一段時間后極易老化,沉積速率明顯下降,維護困難。而本工藝通過查閱國外文獻改良合成路線合成的新型配位劑,解決了上述問題。加入了RG-281 配位劑后,通過長期的觀察發現:槽液的性能穩定,不需要調整依然能獲得外觀較好的鋅-鎳合金鍍層。

2.3 鍍層性能

2.3.1 結合力試驗

將100mm×20 mm×1 mm 的試件掛入溫度為25℃的鋅-鎳合金鍍液中,在1A 電流下電鍍15 min后取出,烘干;然后夾在臺鉗上反復彎曲至斷裂,斷口處無鍍層脫落。

將數十個鍍鋅-鎳合金的試件烘干,將試件置于200℃的電熱烘箱中恒溫30min,取出后立即投入冷水中驟冷。試樣鍍層無起泡或脫落。

取電鍍鋅-鎳合金并經除氫鈍化處理后的直徑6mm 的彈簧墊圈50只套在M5的螺桿上,用扳手將螺母旋緊直至墊圈開口處壓平為止,放置24h后松開,無一脆斷。

2.3.2 耐蝕性

鋅-鎳合金鍍層與純鋅鍍層的耐蝕性對比結果,如表2所示。鍍層厚度為10μm。由表2可知:鋅-鎳合金鍍層的耐蝕性遠遠高于純鋅鍍層的。

表2 鋅-鎳合金鍍層與純鋅鍍層的耐蝕性對比

3 結論

本文通過大量的試驗確定了最佳配方及工藝條件:氧化鋅8~12g/L,氫氧化鈉100~140g/L,RG-281配位劑80~100 mL/L,RG-281鎳補加劑8~12 mL/L,RG-281 光亮劑1~3 mL/L,20~30℃,1~5A/dm2。

在金屬電沉積過程中,晶粒的生長會出現擇優取向。電鍍純鋅時,電沉積過程中結晶不細致,鍍層疏松、粗糙;而鋅-鎳合金鍍層的結晶細致了很多,外觀均勻,光澤也比較好。RG-281工藝是一種高性能堿性鋅-鎳合金工藝,所得鍍層的均鍍性、整平性極佳。利用其獨特的配位技術,可以使生產穩定,很長時間內不需要調整槽液;沉積速率快,電流效率高,工藝簡單;耐蝕性是純鋅鍍層的3~6倍。

[1]蔣彤雅,吳菊珍.電鍍耐蝕性鋅-鎳合金工藝的研究[J].電鍍與環保,2010,30(2):16-18.

[2]BARCELO G,GARCIA J,SARRET M,etal.Properties of Zn-Ni alloy deposits from ammonium baths[J].Journal of Applied Electrochemistry,2004,24(12):1249-1255.

[3]肖作安,費錫明,鄒勇進.鋅鎳合金鍍層耐腐蝕性的研究[J].材料保護,2005,38(3):15-17.

[4]張安富.鋅鎳合金鍍層耐蝕性的探討[J].表面技術,1997,26(4):16-18.

[5]盧錦堂,陳錦虹,許喬瑜,等.鋅鎳合金鍍層鹽霧腐蝕行為的研究[J].材料保護,1997,30(5):8-10.

[6]馬躍宇,徐秀芝,魏緒鈞.鋅鎳合金電鍍技術的研究[J].腐蝕與防護,1998,19(4):158-160.

[7]張順清.鋅鎳合金電鍍工藝的研究[J].電鍍與環保,1989,9(6):11-13.

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