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黑孔化直接電鍍技術(shù)的發(fā)展與展望

2015-01-29 02:15:02遇世友黎德育
電鍍與環(huán)保 2015年5期
關(guān)鍵詞:工藝

遇世友, 李 寧, 汪 浩, 黎德育

(哈爾濱工業(yè)大學(xué) 化工學(xué)院,黑龍江 哈爾濱150001)

0 前言

基于化學(xué)鍍的孔金屬化技術(shù)存在以下缺點[1-3]:(1)化學(xué)鍍銅使用的甲醛是一種致癌物,對人體有害;(2)化學(xué)鍍銅液的穩(wěn)定性差,壽命短;(3)用水量大,廢水處理困難;(4)鍍速慢,生產(chǎn)率低;(5)化學(xué)鍍過程中產(chǎn)生氫氣,容易造成孔內(nèi)空洞。

目前傳統(tǒng)工藝已不能滿足印刷線路板不斷升級的生產(chǎn)要求。人們期待可替代化學(xué)鍍銅的孔金屬化技術(shù)。1963年,Radovsky D A[4]率先利用膠體鈀在印刷線路板的通孔內(nèi)沉積一層薄的鈀金屬半導(dǎo)電膜,電鍍時孔內(nèi)直接沉積銅??捉饘倩苯与婂兙哂形廴拘 ⑷菀卓刂啤⒊善仿矢?、廢水處理簡單等優(yōu)點,所以又被稱為“環(huán)保電鍍”。孔金屬化直接電鍍發(fā)展至今大體分為以下三類:(1)膠體鈀法[5];(2)黑孔化(碳懸濁液法);(3)導(dǎo)電聚合物法[6-7]。三者的優(yōu)缺點對比,如表1所示。

黑孔化工藝以碳材料為導(dǎo)電介質(zhì),其成本為傳統(tǒng)化學(xué)鍍銅工藝的一半,處理時間僅需幾分鐘,大大提高了生產(chǎn)效率,是目前應(yīng)用最廣泛的直接電鍍工藝。本文闡述了黑孔化技術(shù)的原理、歷史發(fā)展及檢驗方法,并對黑孔化技術(shù)的未來進行了展望。

表1 三種孔金屬化直接電鍍工藝對比

1 黑孔化技術(shù)的歷史和發(fā)展

黑孔化工藝最早始于1986年美國Hunt公司公開的專利:用分散的碳粉懸濁液對孔壁進行處理,而后電鍍。這是第一次將碳應(yīng)用于孔金屬化處理。該工藝被稱為“Black Hole”——黑孔。隨后,該公司陸續(xù)發(fā)表專利對該工藝進行了補充[8-10]。

為確保黑孔的效果,在前處理的清潔劑中加入陽離子聚合物。其目的是將孔壁的負電荷調(diào)整成正電荷,更好地吸附帶負電荷的炭黑膠團。該步驟關(guān)系到整個工藝的質(zhì)量,被稱作電荷調(diào)整。初期調(diào)整液的pH值保持在3~5之間,但酸性調(diào)整容易影響后續(xù)堿性炭黑分散液的pH值,因此,將調(diào)整液由酸性改為弱堿性,保證了連續(xù)生產(chǎn)的穩(wěn)定性。1989年,Hunt公司與Olin公司合并,并推出黑孔水平生產(chǎn)線。為了改善電鍍性能,向?qū)щ娨褐屑尤雽?dǎo)電聚合物鹽(如聚苯胺等),可使鍍層的生長速率加快。另外,在炭黑層上再沉積一層導(dǎo)電石墨層,也可顯著改善電鍍效果。但玻纖板中的玻璃纖維吸附炭黑較為困難,為確保黑孔化的可靠性,在1993年后將原單槽黑孔處理改為兩道,稱為“Black Hole-II”。隨后該技術(shù)轉(zhuǎn)售麥德美公司,并沿用至今。

早期石墨用于孔處理的嘗試均以失敗告終,直到美國電化學(xué)公司將經(jīng)特殊工藝制造的人造石墨應(yīng)用于黑孔工藝中,并將該工藝命名為“Shadow”——黑影。石墨的導(dǎo)電性要好于炭黑的。僅經(jīng)過一次石墨導(dǎo)電液處理,孔電阻就可以滿足電鍍要求。人造石墨的粒徑中值在1μm 左右,處理液能夠在孔壁形成完整覆蓋的導(dǎo)電層。盡管如此,人造石墨的粒徑仍比炭黑的大,經(jīng)過石墨導(dǎo)電液處理的印刷線路板局部仍可能存在過厚的石墨。需要添加一道定影工序[11-12]。

目前國內(nèi)印刷線路板生產(chǎn)大都沿用成本較高的貴金屬鈀催化沉銅工藝。黑孔工藝需要國外公司提供的技術(shù)和藥水,增加了生產(chǎn)成本。由于技術(shù)壁壘和推廣問題,僅有少數(shù)撓性線路板生產(chǎn)廠家使用黑孔工藝。

2 黑孔化處理工藝流程

2.1 電荷調(diào)整和導(dǎo)電液處理

黑孔化技術(shù)最為關(guān)鍵的兩個步驟是電荷調(diào)整和導(dǎo)電液處理。

鉆孔和除鉆污后,印刷線路板的環(huán)氧基團被破壞,形成羥基和羧基,孔壁表面帶負電荷。與碳分散液顆粒所帶的負電荷相排斥,直接影響導(dǎo)電膜層的成膜效果。通過除去板面上的油污使孔壁帶上正電荷,以便于吸附石墨和炭黑。

調(diào)整液一般包括清潔劑、電荷調(diào)整劑、黏結(jié)劑等組分。調(diào)整液呈弱堿性,包含一種或多種陽離子化合物。其分子構(gòu)架上的氨基(如叔胺鹽、季胺鹽等)用以調(diào)整樹脂表面所帶電荷。調(diào)整液中還包含帶有堿基的物質(zhì)(如氨水、氫氧化鉀、碳酸鹽等),用于調(diào)節(jié)pH值呈堿性。

2.2 黑孔導(dǎo)電液

黑孔導(dǎo)電液一般由導(dǎo)電碳材料、水性分散劑、分散介質(zhì)、黏合劑等組成。

(1)導(dǎo)電碳材料

導(dǎo)電碳材料最先采用的是炭黑。它是由烴類化合物經(jīng)不完全燃燒或熱裂解而產(chǎn)生的超細粉末。而這種無定形碳雖具有石墨的結(jié)構(gòu),但碳原子層狀結(jié)構(gòu)零亂且不規(guī)則,帶有晶體缺陷和少量雜質(zhì)。黑孔化要選擇顆粒小、導(dǎo)電性高的炭黑,以激光粒度儀測量粒徑中值為十幾到幾十納米為宜。而黑孔化的另一種導(dǎo)電材料石墨為層狀結(jié)構(gòu),在層中碳的孤對電子形成離域π鍵使石墨有良好的導(dǎo)電性。溶液中碳的質(zhì)量分數(shù)一般在1%~4%之間。

(2)分散介質(zhì)

用于碳分散的分散介質(zhì)包括水和極性有機溶劑等。適宜的液體介質(zhì)是水,最好使用去離子水,不僅保證了溶液膠團的穩(wěn)定,還降低了外來離子對電鍍的干擾。

(3)分散劑

分散劑具有疏水端和親水端表面活性劑。要求分散劑的疏水端對碳和黏合劑具有吸引力,而親水端伸進周圍的水中。當(dāng)碳被足量的分散劑包覆時,圍繞在每個粒子周圍支鏈的空間位阻及同種電荷彼此排斥,將碳顆粒分散。分散劑的加入量以達到充分分散的最小有效量為宜。

(4)黏合劑

采用黏結(jié)碳顆粒的水溶性或水分散性的黏合劑??墒褂玫酿ず蟿┌▎翁?、多糖、多糖膠、多糖衍生物,以及可聚合單體和聚合體的樹脂。添加量應(yīng)使碳顆粒有效地黏結(jié)到基底上,在溶液中的質(zhì)量分數(shù)約為1.5%~3.0%。

(5)制備工藝

在制備碳分散液時,先將這幾種關(guān)鍵性組分與任何其他優(yōu)選的組分充分混合在一起。可通過球磨、砂磨、高速剪切、超聲波或其他混合技術(shù)制成碳濃縮分散液。當(dāng)溶液徹底分散后,在攪拌下用水稀釋成所需濃度。

3 黑孔化測試和檢驗方法

可根據(jù)導(dǎo)電液的電導(dǎo)檢測分散系的穩(wěn)定狀態(tài)。因碳顆粒被表面活性劑包覆,理想的碳分散系的電導(dǎo)應(yīng)較低。穩(wěn)定的石墨分散液的電導(dǎo)約為0.9mS。而由于長時間使用或暴露,會使電導(dǎo)大于1.5mS,某些情況下高達3.5 mS或更高。因此,要監(jiān)測導(dǎo)電液的電導(dǎo)在2.0mS以下。導(dǎo)電液在長時間使用或儲存不當(dāng)時,膠體顆粒易聚集產(chǎn)生沉淀,使用效能下降。將溶液通過帶有濾紙的漏斗,記錄過濾的時間、濾液在錐形瓶壁上向上擴散速度及是否出現(xiàn)分離的水跡圈,能及時判定導(dǎo)電液是否正常[13]。

黑孔化工藝需要在孔內(nèi)沉積碳的導(dǎo)電層,而碳膜的完整程度難以直接表征。通常借助鍍銅效果評價黑孔效果,主要采用背光和熱沖擊試驗。背光試驗中先對孔進行短時間電鍍(5~10min),將孔磨制到孔中心位置。測試時利用光從底面射入,用放大鏡檢查有無大面積漏鍍和針孔出現(xiàn)。以遮光率估算覆蓋率,可分為1~10級,10 級為最佳。熱沖擊試驗一般參照IPC—TM—650 標準。保證樣品鍍層厚度達到25μm,將浸潤助焊劑的通孔樣板放在溫度為288℃的熔融錫表面,每次10s后取出冷卻至室溫,重復(fù)3~5次。制作樣品切片,觀察孔內(nèi)鍍銅層有無孔銅拉斷和孔壁分離現(xiàn)象。

4 黑孔化技術(shù)的展望

盡管基于炭黑/石墨的黑孔化工藝都已經(jīng)得到實際應(yīng)用,但由于炭黑和石墨本身都具有很強的憎水性,分散需要加入大量的表面活性劑形成膠體或懸濁液。助劑的加入降低了電導(dǎo)率。外部條件改變或雜質(zhì)混入,都會使溶液發(fā)生聚沉。近幾年,碳材料方面的研究不斷取得進展,黑孔化技術(shù)的下一步發(fā)展在于對碳材料表面親水化和導(dǎo)電性改善上。

Pei S F 等[14]利用水溶性好的氧化石墨成膜后,采用氫碘酸、氫溴酸等鹵化物在較低的溫度下快速還原氧化石墨。制備出的柔性石墨烯透明導(dǎo)電膜的方阻僅為1.6kΩ。Trang L K H 等[15]利用苯乙烯磺酸鈉(PSS)修飾氧化石墨后進行化學(xué)還原,并與聚噻吩(PEDOT)聚合,形成電導(dǎo)率為9.2S/cm的復(fù)合膜層。Tien H W 等[16]用雙十二烷基二甲基溴化銨(DDAB)修飾氧化石墨。通過pH值控制親水性或憎水性,可在基體表面沉積形成透明的導(dǎo)電膜層。硝酸清洗除去DDAB顆粒,膜層的表面電阻為1.5×103Ω。

林承賢等[17]將初步提純過的碳納米管在硝酸中回流加熱48h,于管壁或端帽處引入親水性的羥基、羧基。用去離子水反復(fù)洗滌至碳納米管固體濾液的pH值為7。用該溶液處理印刷線路板時,碳納米管可以吸附在印制線路板通孔表面。經(jīng)電鍍后通孔可形成一定厚度的鍍層。薛擎天[18]將石墨烯和穩(wěn)定劑加入去離子水中,用超聲波分散后,將pH值調(diào)至9~11??捉饘倩苯与婂兒螅嚰目锥急痪鶆蚝穸鹊你~所覆蓋,且結(jié)合緊密。但由于成本和穩(wěn)定性等因素,以上新工藝并未在實際生產(chǎn)中得到應(yīng)用。

5 結(jié)語

我國是印刷線路板第一生產(chǎn)制造大國。孔金屬化是印刷線路板生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)之一。國內(nèi)現(xiàn)在沿用落后的化學(xué)鍍銅技術(shù),已經(jīng)不適應(yīng)產(chǎn)業(yè)制造不斷集成化、綠色化的需要。黑孔化直接電鍍技術(shù)具有流程短、生產(chǎn)效率高、污染物排放低等優(yōu)點,終將徹底取代落后的化學(xué)鍍銅工藝?,F(xiàn)今需要加快引進和應(yīng)用更為先進的黑孔化直接電鍍技術(shù),這將惠及整個印刷線路板生產(chǎn)行業(yè)。

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