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鋁合金化學鍍鎳層的制備及表征

2015-01-29 02:14:58初立英王占軍
電鍍與環保 2015年4期

初立英, 王占軍

(吉林航空維修有限責任公司 技術工程部,吉林 吉林132102)

0 前言

化學鍍鎳層不僅具有良好的耐磨性,還具有良好的耐蝕性[1-2]。本文主要是對鋁合金表面進行酸洗、堿洗、浸鋅等前處理,并在鋁合金表面化學鍍鎳-磷合金鍍層。研究表明:其在氯化鈉溶液中具有良好的耐蝕性。

1 實驗

1.1 實驗材料

以鋁合金為基體材料,其規格為3.0cm×3.0 cm×0.5cm。

1.2 工藝流程

1.3 性能檢測

利用掃描電鏡(SEM)觀察合金鍍層的表面形貌。利用X 射線衍射儀(XRD)測試合金鍍層的相組成。利用LK9805 型電化學工作站,在3.5%的氯化鈉溶液中測定電化學極化曲線。

2 結果與討論

2.1 溫度對鎳-磷合金鍍層表面形貌的影響

圖1為不同溫度下所得合金鍍層的表面形貌。由圖1可知:溫度對合金鍍層的表面形貌有較大的影響。在低溫下,合金沉積較慢,晶粒細小,表面出現針孔等缺陷。隨著溫度的升高,合金沉積速率加快,晶粒尺寸也逐漸增大,合金層變得更加致密均勻。但當溫度升高至92℃以后,合金沉積加快,晶粒尺寸異常變大,表面也出現針孔等缺陷;另外,鍍液溫度過高,鍍液揮發也變大,不利于鍍液的穩定。所以,本實驗中溫度在84℃下可獲得結晶致密均勻的鎳-磷合金鍍層。

圖1 不同溫度下所得合金鍍層的表面形貌

2.2 鎳-磷合金鍍層的組織相分析

圖2為不同溫度下所得合金鍍層的XRD 衍射圖。鎳-磷合金鍍層是典型的過渡金屬-非金屬二元非晶合金。鍍層中的磷原子會阻礙鎳原子的正常排列,使鍍層由晶體轉變為微晶。微晶是指每顆晶粒只由幾千個或幾萬個晶胞并置而成的晶體。隨著磷的質量分數的繼續增大,微晶尺寸將進一步減小,鍍層中原子在三維空間里不再呈周期性重復排列,最終變為非晶結構,見圖2。結果表明:溫度對合金鍍層的晶體結構沒有太大的影響。鍍層在沒有經過熱處理的情況下,在2θ=38°、45°、65°、78°處出現明顯的尖峰,說明合金鍍層中磷的質量分數較低,鍍層發生了一定程度的晶化,鍍層處于微晶和非晶體的混合狀態,即Ni和Ni12P5的兩項混合物。其X 射線衍射花樣為寬化的漫散射峰。

圖2 不同溫度下所得合金鍍層的XRD 衍射圖

2.3 鎳-磷合金鍍層的耐蝕性分析

當磷的質量分數大于12%時,鎳-磷合金鍍層為非晶態結構。它不具有晶態合金中的晶體特征,因此,它無法構成腐蝕微電池,表現出的耐蝕性明顯優于晶態合金的。同時,在非晶態的合金鍍層表面容易形成氧化膜,進一步提高了耐蝕性。

圖3為不同施鍍時間下所得合金鍍層在3.5%的氯化鈉溶液中的極化曲線。由圖3可知:隨著沉積時間的增加,鍍層變厚,鍍層完全覆蓋基體表面,致使鍍層表面孔隙率減小,其自腐蝕電位正移較大,耐蝕性提高。在120min的沉積時間內,自腐蝕電位最大達到0.49V。

圖3 不同施鍍時間下所得合金鍍層的極化曲線

圖4為不同溫度下所得合金鍍層在3.5%的氯化鈉溶液中的極化曲線。化學鍍鎳過程中涉及的氧化還原反應需要熱能,即在一定的溫度范圍內才能啟動化學沉積反應。沉積速率隨溫度的升高而迅速提高,但溫度過高會使鍍液揮發速率加快,鍍液成分難以控制,鍍液性能惡化。為了得到較高的沉積速率,又保證鍍液的穩定性,最適宜的溫度定為84~88℃。此時鍍液既有較快的反應速率又有較高的穩定性。溫度為84℃時所得合金鍍層的自腐蝕電位最高,達到-0.56V。在此溫度下可以獲得較好的耐蝕性。

圖4 不同溫度下所得合金鍍層的極化曲線

圖5為不同施鍍溫度下所得合金鍍層在3.5%的氯化鈉溶液中電化學腐蝕后的表面形貌。由圖5可知:在84℃下所得合金鍍層的腐蝕程度最小,表面沒有出現明顯的腐蝕孔;而在低溫或高溫下,試樣表面均出現腐蝕孔。這也與圖4電化學極化曲線的測試結果相符合。更進一步證明了在84℃下可以獲得耐蝕性較好的合金鍍層。

圖5 不同溫度下所得合金鍍層電化學腐蝕后的表面形貌

3 結論

(1)溫度對合金鍍層的表面形貌影響較大。低溫下所得合金鍍層的晶粒尺寸較小;隨著溫度的升高,合金鍍層的晶粒尺寸逐漸增大。在84℃下可以獲得更加均勻細致的合金鍍層。

(2)極化曲線測試結果表明:溫度對合金鍍層的耐蝕性也有一定的影響。在84℃下獲得的合金鍍層更加均勻致密,其自腐蝕電位最正(達到-0.56V),具有較好的耐蝕性。

[1]LIU C M,LIU W L,HSIEH S H,etal.Interfacial reactions of electroless nickel thin films on silicon[J].Applied Surface Science,2005,243(1):259-264.

[2]徐瑞東,郭忠誠,朱曉云.新型光亮劑EN65D在化學鍍Ni-P合金上的應用[J].表面技術,2001,30(6):19-21.

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