贏創開發顯示器用半導體涂覆新技術
2016-03-15 04:53:15賈磊
無機鹽工業 2016年1期
贏創開發顯示器用半導體涂覆新技術
作為手機、筆記本、臺式機的主流顯示設備，薄膜晶體管（TFT）發揮著重要的作用。目前，企業多采用非晶硅（a-Si）和低溫多晶硅（LTPS）以提升TFT半導體的性能，但在性能和尺寸方面仍受到較多限制。金屬氧化物作為半導體材料可有效提升平板顯示器的遷移率，滿足高解析度平板顯示器的要求（＞10 cm2/Vs）。與硅半導體TFT相比，金屬氧化物半導體具有能耗低、待機時間長、加工和使用便捷等優點。贏創工業集團利用獨有的技術開發了金屬氧化物半導體材料iXsenic S，該半導體并未采用較為普及的氣相沉積法（CVD），而是通過涂覆技術形成半導體層，不僅擁有和CVD法相媲美的效果，且成本大大減少，此外實現了不同尺寸的可控生產。預計在未來幾年內，iXsenic S有望投入市場。
賈磊譯自www.ixsenic.com.2015-12-17
