世界首個8英寸無色散常閉式/增強型硅基GaN功率器件問世
比利時微電子研究中心(I M E C)在2 0 0 m m/8英寸(20.32cm)硅基上成功開發出了200V和650V無色散常閉式/增強型氮化鎵(GaN)功率器件。該器件具有超低動態導通電阻(20%以下)、先進的性能和再現性,以及良好的可靠性。
IMEC研制的硅基GaN功率器件無需采用金屬材料,符合晶圓處理和污染要求。該器件結構的關鍵部分是緩沖層,需要適應AlGaN/ GaN材料體系與硅襯底之間晶格參數和熱膨脹系數的巨大差異。IMEC突破了緩沖層設計技術,在大直徑200mm晶圓上實現了650V GaN緩沖層的生長。此外,研究人員通過將硅襯底的厚度和摻雜相結合,使得200mm氮化鎵襯底的產量不斷增加,可以低成本生產氮化鎵功率器件。研究人員還優化了清洗和介電沉積條件,并將繼續研究場板設計,以持續改善器件的性能。該器件在25℃~150℃全溫度范圍、650V內呈現出低于20%的動態導通電阻。這意味著從關斷狀態切換后的晶體管導通狀態幾乎沒有變化。
下一步,IMEC將基于該常閉式/增強型氮化鎵功率器件開展原型設計、小批量生產,以及相關技術轉移工作。 (固 技)