劉 妍
(中國(guó)社會(huì)科學(xué)院研究生院,北京 100020)
局部外觀設(shè)計(jì)主要指的是針對(duì)產(chǎn)品局部展開(kāi)的新設(shè)計(jì),其中主要包括形狀、圖案、色彩等多方面內(nèi)容,相較于整體外觀設(shè)計(jì),局部外觀設(shè)計(jì)最突出的特征就是其“局部性”。在開(kāi)展產(chǎn)品局部外觀設(shè)計(jì)保護(hù)工作的過(guò)程中,我國(guó)在專利授權(quán)以及侵權(quán)判定相關(guān)環(huán)節(jié)仍然面臨著一定問(wèn)題,因此有必要結(jié)合實(shí)際問(wèn)題及其“局部性”特征展開(kāi)探討,從而有效完成對(duì)判斷主體及判斷對(duì)象的確定,加強(qiáng)局部外觀設(shè)計(jì)的保護(hù)。
國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局在2015年4月1日對(duì)《中華人民共和國(guó)專利法修改草案(征求意見(jiàn)稿)》的修改進(jìn)行了公布,其中最突出的內(nèi)容就是針對(duì)第二條第四款對(duì)外觀設(shè)計(jì)的定義,將“外觀設(shè)計(jì)”規(guī)定為“產(chǎn)品整體或局部在形狀、圖案、色彩的新設(shè)計(jì)”,在此基礎(chǔ)上,我國(guó)又進(jìn)一步推進(jìn)了相關(guān)保護(hù)制度,從而也引起了社會(huì)上的廣泛關(guān)注。現(xiàn)階段,隨著社會(huì)經(jīng)濟(jì)水平的不斷提升,產(chǎn)品外觀設(shè)計(jì)技術(shù)已經(jīng)進(jìn)入到較為成熟的領(lǐng)域,因此在整體設(shè)計(jì)的創(chuàng)新上難度也比較大。針對(duì)這樣的情況,更對(duì)會(huì)選擇從局部的角度出發(fā)對(duì)外形設(shè)計(jì)進(jìn)行修改與優(yōu)化,但卻受制于專利法卻無(wú)法對(duì)該設(shè)計(jì)進(jìn)行保護(hù),大大降低了設(shè)計(jì)人員開(kāi)展局部設(shè)計(jì)創(chuàng)新的積極性與主動(dòng)性。我國(guó)在局部設(shè)計(jì)專利保護(hù)方面仍然存在較大的發(fā)展空間,相較于美國(guó)、日本、韓國(guó)等國(guó)家更是存在一定差距。因此為更好地滿足國(guó)際化與現(xiàn)代化發(fā)展要求,我國(guó)在《專利法》第四次修改中加入局部外觀設(shè)計(jì)制度相關(guān)內(nèi)容,但具體的設(shè)計(jì)與構(gòu)建還需要開(kāi)展進(jìn)一步地深入探討[1]。
總的來(lái)說(shuō),外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)應(yīng)包含在民事權(quán)利的范圍中,但是局部外觀專利與整體外觀專利在權(quán)利客體上存在著一定差異,也正是由于這樣的不同,建立單獨(dú)的局部外觀專利保護(hù)制度迫在眉睫。在當(dāng)前外觀設(shè)計(jì)專利法律體系下,主要存在兩方面困境:
我國(guó)早在1984年在立法的時(shí)候就已經(jīng)涉及關(guān)于外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)的相關(guān)內(nèi)容,并在2008年對(duì)《專利法》進(jìn)行修改的時(shí)候又在原有基礎(chǔ)上加入了外觀設(shè)計(jì)的定義。結(jié)合現(xiàn)行《專利法》第二條第四款關(guān)于“外觀設(shè)計(jì)”的定義來(lái)看,其中只表明外觀設(shè)計(jì)屬于針對(duì)產(chǎn)品本身的新設(shè)計(jì),但并沒(méi)有提及整體外觀設(shè)計(jì)以及局部外觀設(shè)計(jì)的內(nèi)容。而站在產(chǎn)品本身的角度上來(lái)說(shuō),產(chǎn)品的外觀設(shè)計(jì)應(yīng)包含整個(gè)產(chǎn)品的外觀設(shè)計(jì)以及局部外觀設(shè)計(jì)兩部分,因此當(dāng)前的《專利法》條文中對(duì)專利保護(hù)范圍的規(guī)定并沒(méi)有將局部外觀設(shè)計(jì)排除在外[2]。
相較于法律層面,其實(shí)踐層面主要體現(xiàn)在局部外觀設(shè)計(jì)申請(qǐng)專利不能獲得授權(quán),這主要是由于我國(guó)并沒(méi)有對(duì)局部外觀專利進(jìn)行承認(rèn)與保護(hù)。一方面,當(dāng)產(chǎn)品局部外觀設(shè)計(jì)作為客體申請(qǐng)專利的時(shí)候是不可以獲得授權(quán)的。例如,在實(shí)際進(jìn)行產(chǎn)品外觀設(shè)計(jì)專利申請(qǐng)的時(shí)候,需要提交相應(yīng)的附圖,其中需要進(jìn)行保護(hù)的部分應(yīng)用實(shí)線表示,而不需要保護(hù)的部分則用虛線表示。但在《專利審查指南》中規(guī)定外觀設(shè)計(jì)專利申請(qǐng)附圖不能以“虛線” “點(diǎn)劃線”等表示形狀,因此往往就需要將原來(lái)附圖中的虛線部分改回實(shí)線,那么其中所有的內(nèi)容都將會(huì)被作為審查對(duì)象。由此也可以進(jìn)一步看出,我國(guó)針對(duì)產(chǎn)品局部外觀設(shè)計(jì)的保護(hù)采用的仍然是整體外觀專利的方式,進(jìn)而難以滿足局部外觀設(shè)計(jì)的實(shí)際需求。另一方面,申請(qǐng)人在向其他國(guó)家提交局部外觀專利申請(qǐng)作為優(yōu)先權(quán)的時(shí)候,向我國(guó)申請(qǐng)專利優(yōu)先權(quán)是不被承認(rèn)的。在這樣的情況下,第三人往往會(huì)將申請(qǐng)內(nèi)容主題不同作為無(wú)效宣告請(qǐng)求的依據(jù)。
結(jié)合現(xiàn)階段發(fā)展的實(shí)際情況來(lái)看,加強(qiáng)局部外觀設(shè)計(jì)制度建設(shè)存在著很強(qiáng)的必要性,因此有必要針對(duì)其制度構(gòu)建展開(kāi)探討。
在針對(duì)《專利法》進(jìn)行第四次修改的過(guò)程中,其最突出的改變就是試圖將局部外觀設(shè)計(jì)制度引入其中。當(dāng)前,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局已經(jīng)針對(duì)局部外觀設(shè)計(jì)的具體概念進(jìn)行了相應(yīng)的闡述,也就是對(duì)產(chǎn)品某一局部進(jìn)行的創(chuàng)新設(shè)計(jì)。一般來(lái)說(shuō),這樣的“局部性”主要是相對(duì)于“整體性”來(lái)說(shuō)的,而“局部”也是產(chǎn)品整體中不可分割的一部分。在這樣的情況下,對(duì)于產(chǎn)品上可以安裝拆卸的零部件來(lái)說(shuō),就可以將其納入整體設(shè)計(jì)保護(hù)范疇中,也可以納入局部設(shè)計(jì)保護(hù)范疇中。而有部分學(xué)者針對(duì)這一問(wèn)題也提出了不同的觀點(diǎn),其認(rèn)為局部外觀設(shè)計(jì)應(yīng)包含不可分割部分和可分割部分的創(chuàng)新設(shè)計(jì)兩部分,雖然可分割部分的設(shè)計(jì)可以與產(chǎn)品整體分離,但是其仍然屬于局部設(shè)計(jì)的范疇內(nèi)。因此面對(duì)這樣的問(wèn)題應(yīng)給予設(shè)計(jì)者相應(yīng)的選擇權(quán),由設(shè)計(jì)人員自行完成局部外觀設(shè)計(jì)與整體外觀設(shè)計(jì)的確定。
針對(duì)局部設(shè)計(jì)專利侵權(quán)問(wèn)題的研究,我國(guó)仍然存在著較大的空白,而結(jié)合日本的研究情況來(lái)看,其主要具備兩個(gè)思考方向:第一是“獨(dú)立說(shuō)”,也就是將局部設(shè)計(jì)看作一個(gè)獨(dú)立的設(shè)計(jì)個(gè)體;第二是“要部說(shuō)”,也就是將局部設(shè)計(jì)放在整體產(chǎn)品中進(jìn)行考量,主要涉及位置、大小和范圍等因素,進(jìn)而判斷出設(shè)計(jì)的侵權(quán)情況。結(jié)合實(shí)際應(yīng)用情況來(lái)看,“要部說(shuō)”判斷標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)用性要更強(qiáng)一些,才過(guò)采用“獨(dú)立說(shuō)”作為判斷標(biāo)準(zhǔn),那么僅需要考慮兩個(gè)設(shè)計(jì)個(gè)體的相同或相似,對(duì)其位置、大小以及范圍都沒(méi)有加以考量,這樣很容易就會(huì)造成評(píng)斷的不嚴(yán)謹(jǐn)。如果兩個(gè)局部設(shè)計(jì)存在相似,但其位置、大小以及范圍存在差異,那么也會(huì)是兩個(gè)不同的設(shè)計(jì),是不能一概而論的。因此只有兩個(gè)設(shè)計(jì)的局部設(shè)計(jì)相似,且位置、大小和范圍等相同或相似的時(shí)候才可以稱之為侵權(quán)。“要部說(shuō)”侵權(quán)判斷標(biāo)準(zhǔn)的使用可以有效避免局部設(shè)計(jì)保護(hù)范圍過(guò)寬的問(wèn)題,同時(shí)還可以最大限度地提升局部外觀設(shè)計(jì)保護(hù)的合理性,有效維護(hù)個(gè)人利益與社會(huì)利益。
《專利審查指南(2010年)》和《專利糾紛司法解釋(一)》中都對(duì)相似性判斷主體的確定進(jìn)行規(guī)范,也就是對(duì)外觀設(shè)計(jì)及常用設(shè)計(jì)手法具備一定了解的一般消費(fèi)者。然而對(duì)于中間產(chǎn)品或組裝產(chǎn)品來(lái)說(shuō),在進(jìn)行一般消費(fèi)者確定的時(shí)候就會(huì)存在一定分歧,其主要對(duì)象包括完成制造、組裝的人員以及最終購(gòu)買(mǎi)該產(chǎn)品的人員。結(jié)合實(shí)際情況來(lái)看,針對(duì)這部分中間、組裝產(chǎn)品,應(yīng)將制造、拼接、維修人員作為其一般消費(fèi)者,因?yàn)橹挥羞@部分人員才會(huì)關(guān)注其局部外觀設(shè)計(jì),而這部分設(shè)計(jì)內(nèi)容往往并不會(huì)對(duì)終端消費(fèi)者的購(gòu)買(mǎi)行為產(chǎn)生影響。與此同時(shí),如果將終端消費(fèi)者作為判斷主體反而會(huì)給整體過(guò)程的推進(jìn)帶來(lái)一定弊端,這部分人員并不能對(duì)兩者的外觀設(shè)計(jì)進(jìn)行有效辨別,長(zhǎng)此以往還會(huì)降低公眾的積極性。因此,作為局部外觀設(shè)計(jì)相同或相似性的判斷主體,應(yīng)對(duì)其具體設(shè)計(jì)情況具備足夠了解。
總體來(lái)說(shuō),完善的局部外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)制度應(yīng)包括主體、客體、申請(qǐng)、審查、權(quán)利等多個(gè)環(huán)節(jié)的內(nèi)容,在《專利法》增加產(chǎn)品局部外觀設(shè)計(jì)相關(guān)內(nèi)容的基礎(chǔ)上還需要對(duì)《指南》中的相關(guān)條款進(jìn)行需改,充分表現(xiàn)出其新穎性、創(chuàng)造性的同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)相關(guān)原則的綜合運(yùn)用,從而有效為社會(huì)公眾實(shí)施檢查提供科學(xué)的參考依據(jù)。隨著社會(huì)經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展,相關(guān)部門(mén)應(yīng)不斷結(jié)合實(shí)際發(fā)展情況對(duì)專利權(quán)的客體范圍進(jìn)行優(yōu)化與調(diào)整,從而充分體現(xiàn)出立法的科學(xué)性。近年來(lái),我國(guó)針對(duì)局部設(shè)計(jì)專利保護(hù)的研究不斷深入,在原有的基礎(chǔ)上又進(jìn)一步豐富了外觀專利申請(qǐng)、審查以及侵權(quán)判定等環(huán)節(jié)的先進(jìn)經(jīng)驗(yàn),進(jìn)而為局部外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)規(guī)則構(gòu)建奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)[3]。在未來(lái)的發(fā)展過(guò)程中,產(chǎn)品局部外觀設(shè)計(jì)專利保護(hù)還會(huì)遇到新的影響因素,這也要求我國(guó)應(yīng)進(jìn)一步提升對(duì)審查授權(quán)以及侵權(quán)司法實(shí)踐等環(huán)節(jié)的重視程度,以以往的先進(jìn)經(jīng)驗(yàn)為基礎(chǔ)提出更加科學(xué)的發(fā)展模式。
綜上所述,加強(qiáng)對(duì)局部設(shè)計(jì)專利的保護(hù)不僅是我國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展的重要趨勢(shì),也是國(guó)際化發(fā)展的必然要求。現(xiàn)階段,我國(guó)的產(chǎn)品設(shè)計(jì)水平已經(jīng)趨于成熟,因此有必要進(jìn)一步針對(duì)產(chǎn)品局部設(shè)計(jì)加以優(yōu)化,同時(shí)也應(yīng)提出相配套的專利保護(hù)制度。結(jié)合現(xiàn)階段的發(fā)展情況來(lái)看,局部專利保護(hù)在法律層面與實(shí)踐層面仍然具備一定的問(wèn)題,因此相關(guān)部門(mén)應(yīng)重點(diǎn)針對(duì)其制度構(gòu)建展開(kāi)研究,進(jìn)一步提升局部設(shè)計(jì)專利的保護(hù)力度。