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Sn1-xGexTe 的高溫高壓合成及熱電性能

2022-02-18 10:19:08周緒彪李尚升李洪濤宿太超楊曼曼杜景陽胡美華
高壓物理學報 2022年1期

周緒彪,李尚升,李洪濤,宿太超,楊曼曼,杜景陽,胡美華,胡 強

(1. 河南理工大學材料科學與工程學院,河南 焦作 454000;2. 中華人民共和國上海海關,上海 200135)

近年來,隨著能源和環境問題的日益嚴峻,能量轉換材料的開發和應用受到人們的廣泛關注。其中,熱電材料能夠實現熱能與電能的直接轉換[1],在利用工業余熱、汽車尾氣等低品位熱源發電領域應用潛力巨大。熱電材料的轉換效率主要由其熱電優值(Z)決定,Z=S2σ/κ(S為材料的Seebeck 系數,σ 為電導率,κ 為熱導率)[2],其中S2σ 又稱功率因子,用來表征材料的電輸運性能。由熱電優值的表達式可見,高性能熱電材料需要具有較高的功率因子以及較小的熱導率。

PbTe 是目前中溫熱電材料(工作溫度400~800 K)中最成熟的材料之一。然而,Pb 屬于重金屬,對環境有一定的危害,因此PbTe 的應用在很多領域受到限制。SnTe 與PbTe 同屬Ⅳ-Ⅵ族半導體材料,具有相同的晶體結構和相似的能帶結構,而前者對環境的危害較小,因此SnTe 被視為有望替代PbTe 的熱電材料,受到熱電材料研究領域的高度關注。目前,SnTe 的熱電性能相比PbTe 仍有差距,主要原因有以下3 方面:(1) SnTe 晶體中的大量本征Sn 空位使其具有較高的空位濃度(1020~1021cm-3)[3-4],雖然較大的載流子濃度有利于提升材料的電導率,但是卻降低了Seebeck 系數,并顯著增大了電子熱導率[5];(2) SnTe 價帶中的重帶與輕帶能量差較大(0.3~0.4 eV),遠大于PbTe(0.17 eV),不利于通過重帶參與電輸運,限制了Seebeck 系數的提升,另外SnTe 的帶隙約為0.18 eV,較小的帶隙使得SnTe 在高溫下的熱電性能受到顯著影響,容易產生本征激發,引起雙極擴散[6-7];(3) SnTe 的本征晶格熱導率較大(室溫下約為3.5 W·m-1·K-1,遠高于PbTe 的2.3 W·m-1·K-1)[8]。目前,SnTe 的熱電性能優化途徑主要包括載流子工程[9-10]、能帶工程[11-19]、聲子工程[20-22]等。

摻雜作為一種常用的改性方式,可以調控材料的晶體結構和顯微結構,進而影響材料性能。為此,本研究利用高壓方法對Ge 摻雜SnTe 基熱電材料GexSn1-xTe(x= 0,0.1,0.2,0.3)進行合成研究,并對其微觀結構和熱電性能進行測試與分析。

1 實驗過程

將純度為99.999%的Ge 粉、99.9%的Sn 粉和99.9%的Te 粉按GexSn1-xTe(x= 0,0.1,0.2,0.3)化學計量比稱量后放入不銹鋼球磨罐,抽真空后通入高純Ar 氣進行保護。將球磨罐放入行星式球磨機后以轉速250 r/min 濕法球磨200 min。濕磨后將產物置于真空干燥箱內進行干燥處理,將得到的干燥粉末放入模具壓制成塊體。圓柱形樣品組裝后放入六面頂高壓設備中進行高溫高壓合成。合成壓力設定為4 GPa,升溫至第一預定溫度1 000 ℃燒結15 min 后,降溫至第二預定溫度750 ℃燒結15 min。

將高壓合成樣品切割拋光后,進行結構和性能測試。采用日本真空理學D/MAX-RA 衍射儀進行X 射線衍射(X-ray diffraction,XRD)測試,采用Magellan-400 型掃描電子顯微鏡(scaning electron microscope,SEM)觀察微觀形貌。采用Seebeck 系數/電阻分析系統LSR-3(德國林賽思),在氦氣氣氛下進行電導率和Seebeck 系數測試,熱導率通過κ=Dρcp計算得出,其中:熱擴散系數D由德國耐馳Netzsch LFA457 激光導熱儀測得,比定壓熱容cp由杜隆珀替定律計算,密度ρ 由排水法測得。熱電性能測試中,Seebeck 系數、電阻率及熱導率的測試誤差分別為 ± 7%、 ± 10%和 ± 8%。

2 實驗結果及討論

2.1 GexSn1-xTe 的XRD 譜和SEM 圖像

圖1(a)為高壓合成GexSn1-xTe 樣品的XRD 譜。可見,SnTe 樣品特征衍射峰的位置和相對峰強與SnTe 的標準衍射卡片(65-314)數據基本一致,說明SnTe 化合物被成功合成。如圖1(b)所示,隨著摻雜量的提高,衍射主峰向高角度偏移,說明離子半徑較小的Ge2+(73 pm)取代Sn2+(112 pm)形成了替位摻雜缺陷。此外,摻入Ge 后樣品的衍射峰明顯寬化,并出現少量Ge-Te 第二相。衍射峰展寬說明樣品的晶粒變小,結晶度降低。

圖2 為GexSn1-xTe 樣品的SEM 圖像。如圖2 所示,SnTe 的致密度較高,且晶粒尺寸較大。摻入Ge 后,樣品的晶粒明顯減小,并且有大量的納米晶粒析出。通過能譜分析發現,納米晶粒是富Ge 相,與XRD 的雜質峰相對應。細小無規則的晶粒和大量的納米晶有助于散射聲子,進而降低熱導率。

圖2 高壓合成的GexSn1-xTe 的SEM 圖像:(a) x = 0,(b) x = 0.1,(c) x = 0.2,(d) x = 0.3Fig. 2 SEM patterns of GexSn1-xTe synthesized under high pressure: (a) x = 0, (b) x = 0.1, (c) x = 0.2, (d) x = 0.3

2.2 GexSn1-xTe 的電子結構

為了預測Ge 摻雜對SnTe 熱電性能的影響,對其能帶結構進行了計算。結構弛豫和電子性能計算是基于從頭計算模擬包(VASP)中的密度泛函理論(density functional theory,DFT)方法[23]。使用Perdew-Burke-Ernzerhof (PBE)[24]的廣義梯度近似(generalized gradient approximation,GGA)泛函[25]處理交換相關勢。所有結構都經過全面優化,能量收斂標準設為10-6eV,力的收斂標準設為10-2eV/?。根據能量收斂測試,將平面波擴展的臨界能量設置為300 eV,并選擇0.10 ?-1的Monkhorst-Pack 均勻k點間距,以確保總能量收斂為10-6eV。如圖3(a)所示,SnTe 的禁帶寬度約為0.05 eV,小于實驗值(由第一性原理低估帶隙所致),與文獻報道的結果[26-27]相近,而摻雜量接近1/3 的樣品的帶隙增大至0.18 eV。

圖3 SnTe (a)和Ge1/3Sn2/3Te (b)的能帶結構Fig. 3 Band structures of SnTe (a) and Ge1/3Sn2/3Te (b)

2.3 GexSn1-xTe 的熱電性能

圖4(a)顯示了GexSn1-xTe 的Seebeck 系數隨溫度的變化,所有數值均為正值,表明GexSn1-xTe 為p 型半導體。SnTe 的Seebeck 系數從室溫條件下的20 μV/K 逐漸升高到700 K 下的107 μV/K,高壓合成SnTe 樣品的Seebeck 系數及其隨溫度變化關系與采用其他方法制備的SnTe 的結果基本相近[28],說明本研究中高壓未改變SnTe 的電子結構。摻雜Ge 后樣品的Seebeck 系數與溫度的依賴關系與SnTe 明顯不同,低于450 K 時,摻雜樣品的Seebeck 系數隨溫度升高而增大,超過450 K后,Seebeck 系數隨溫度的變化不大。高溫條件下摻雜樣品的Seebeck 系數變化可歸因于摻雜后SnTe 的能帶結構變化以及Ge-Te 雜質相的本征激發[29]。

GexSn1-xTe 的電阻率隨溫度的變化如圖4(b)所示。電阻率隨著Ge 含量的增加而增大;當x= 0時,樣品電阻率隨溫度的升高而逐漸增大,表現出金屬導電特性;摻雜少量Ge(x= 0.1,0.2)時,電阻率隨著溫度的升高逐漸增大,當溫度超過450 K 后電阻率隨溫度升高而降低;x= 0.3 時,樣品電阻率在350 K 后隨溫度升高總體降低,表現出半導體的導電特性。這種金屬向半導體的轉變,表明富Ge 樣品的載流子濃度遠小于富Sn 樣品的載流子濃度,與樣品的空位缺陷濃度和禁帶寬度(如圖3 所示)等因素有關。

圖4(c)顯示了GexSn1-xTe 的熱導率隨溫度的變化情況。可以看出,在300~700 K 溫度范圍內,Ge 摻雜SnTe 樣品的平均熱導率遠低于未摻雜SnTe 樣品。這主要是由于富Ge 樣品中細晶結構的晶界對長波聲子進行散射,而納米相在晶體表面和晶界處析出可以對中短波聲子進行散射,進而引起晶格熱導率降低。隨著摻雜量的增加,低于500 K 時熱導率減小,高于500 K 時熱導率增大,當x= 0.1 時,樣品在測試溫度范圍內的熱導率均小于SnTe 樣品,進一步提高Ge 含量時樣品在高溫下的熱導率反而增大。圖4(d)顯示了GexSn1-xTe 的熱電優值隨溫度的變化情況。可以看出,除x= 0.3 時樣品的熱電優值在500~550 K 范圍內有所下降外,其他樣品的熱電優值均隨溫度的升高而逐漸增大,其中當x= 0.2時,樣品的熱電優值在700 K 時達到了0.35。

圖4 GexSn1-xTe 的熱電性能:(a) Seebeck 系數,(b) 電阻率,(c) 熱導率,(d) 品質因子Fig. 4 Electrical properties of GexSn1-xTe: (a) Seebeck coefficient, (b) resistivity, (c) thermal conductivity, (d) quality factor

3 結 論

采用高溫高壓方法實現了GexSn1-xTe(x= 0,0.1,0.2,0.3)的快速合成,通過調控元素化學計量比實現了電運輸性能調節,從而改善了GexSn1-xTe 的熱電性能。結果表明:Ge 的引入可以誘導SnTe 的電子結構發生變化,x達到1/3 后樣品的帶隙展寬,樣品由金屬導電特性轉變為半導體導電特性;摻雜Ge 還可以調控SnTe 的微觀結構,使晶粒細化并析出富Ge 的納米相,進而增強晶界散射,降低熱導率;樣品Ge0.2Sn0.8Te 在700 K 下獲得的最高熱電優值達到0.35。

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