二維材料有了“普適”技術

最近，中科院上海微系統與信息技術研究所信息功能材料國家重點實驗室研究員狄增峰團隊，開發出一種石墨烯輔助金屬電極轉印技術。該技術以鍺基石墨烯晶圓作為預沉積襯底生長金屬電極陣列，并利用石墨烯與金屬間較弱的范德華作用力（一種分子間作用力），實現了任意金屬電極陣列的無損轉移，且轉移成功率達到100%。