專利創(chuàng)造性要求及應(yīng)用制度回應(yīng)

摘 要：【目的】探究專利創(chuàng)造性對(duì)于應(yīng)用制度的要求及應(yīng)用制度的回應(yīng)，以促進(jìn)專利應(yīng)用的質(zhì)量和效率的提升。【方法】通過文獻(xiàn)分析法、比較分析法，梳理當(dāng)前全面推進(jìn)專利應(yīng)用中存在的問題。【結(jié)果】忽視專利的創(chuàng)造性特點(diǎn)，推進(jìn)專利應(yīng)用可能產(chǎn)生三種制度偏差：普通強(qiáng)制許可制度使得基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利應(yīng)用急功近利化、從屬專利許可制度難以適用使得較高創(chuàng)造性專利不能得到應(yīng)用化、開放許可制度助力低創(chuàng)造性專利應(yīng)用化。【結(jié)論】筆者認(rèn)為專利創(chuàng)造性不僅是對(duì)專利授權(quán)的要求，還應(yīng)是對(duì)專利應(yīng)用制度的要求。具體要求和制度回應(yīng)為滿足基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利緩和應(yīng)用要求，規(guī)制普通強(qiáng)制許可對(duì)基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利的適用；保障高創(chuàng)造性專利重點(diǎn)應(yīng)用的通道暢通要求，清除從屬專利許可制度的障礙；削弱低創(chuàng)造性專利的投機(jī)應(yīng)用要求，建立開放許可制度低創(chuàng)造性專利限助機(jī)制。

關(guān)鍵詞：專利創(chuàng)造性；專利應(yīng)用；創(chuàng)造性要求；專利許可

中圖分類號(hào)：D923.42" " "文獻(xiàn)標(biāo)志碼：A" " 文章編號(hào)：1003-5168（2023）21-0104-08

DOI：10.19968/j.cnki.hnkj.1003-5168.2023.21.023

Patent Invention Requirements and Application System Responses

LI Wenjiang QIU Yongtao

（Henan University of Technology Law School， Zhengzhou 450000，China）

Abstract： [Purposes] This paper aims to explore the requirements of patent inventiveness on the application system and the response of the application system， so as to promote the improvement of the quality and efficiency of patent application. [Methods] Through the method of literature analysis and comparative analysis， the existing problems in the comprehensive promotion of patent application are sorted out. [Findings] Despite of the creative characteristics of different patents， promoting the application of patents across the board may produce three system deviations： the ordinary compulsory license system makes the application of basic creative patents eager for quick success and instant benefits， and the subordinate patent licensing system is difficult to apply so that higher creative patents cannot be applied and open The licensing system facilitates the application of low-invention patents. [Conclusions] It can be considered that patent inventiveness is not only a requirement for patent authorization， but also a requirement for the patent application system. Specific requirements and institutional responses are to meet the requirements for moderate application of basic creative patents， and regulate the application of ordinary compulsory licenses to basic creative patents; we should ensure the smooth access requirements for key applications of high creative patents， and remove the obstacles of the subordinate patent licensing system; we should weaken the speculation of low creative patents application requirements， establishment of an open licensing system and a low-invention patent restriction mechanism.

Keywords： patent inventiveness; patent application; inventiveness requirement; patent license

0 引言

以習(xí)近平同志為核心的黨中央立足于世界百年未有之大變局，堅(jiān)持推進(jìn)科技自立自強(qiáng)，為完善我國科技創(chuàng)新體系作出系統(tǒng)的戰(zhàn)略部署。專利事業(yè)作為我國科技創(chuàng)新體系的重要一環(huán)，進(jìn)入新時(shí)代取得全面發(fā)展的同時(shí)，面對(duì)高質(zhì)量發(fā)展的時(shí)代課題，需要思考如何更高質(zhì)量產(chǎn)出和應(yīng)用。專利創(chuàng)造性作為提高專利創(chuàng)新質(zhì)量的概念，且專利應(yīng)用本質(zhì)是對(duì)其創(chuàng)造性的應(yīng)用，貫穿高質(zhì)量產(chǎn)出和應(yīng)用全過程。當(dāng)前在知識(shí)產(chǎn)權(quán)強(qiáng)國背景下，我國推進(jìn)專利實(shí)施應(yīng)用步伐明顯加快，各類轉(zhuǎn)化應(yīng)用指標(biāo)數(shù)據(jù)均呈現(xiàn)不同程度上升。然而全面加快專利實(shí)施應(yīng)用的過程中可能產(chǎn)生三種偏差：一是使應(yīng)當(dāng)儲(chǔ)備的基礎(chǔ)性應(yīng)用的創(chuàng)造性專利草草應(yīng)用而無法發(fā)揮戰(zhàn)略作用；二是一定時(shí)期內(nèi)的專利轉(zhuǎn)化資源是有限的，一刀切式推進(jìn)應(yīng)用使得真正需要轉(zhuǎn)化應(yīng)用的高創(chuàng)造性專利得不到重視；三是考慮到我國低創(chuàng)造性專利基數(shù)較大，激勵(lì)加快應(yīng)用使本將無續(xù)交年費(fèi)動(dòng)力的低創(chuàng)造性專利淘汰機(jī)制失效。基于此，結(jié)合專利創(chuàng)造性與專利應(yīng)用的緊密關(guān)系，本研究認(rèn)為專利創(chuàng)造性不僅是專利授權(quán)的要求，而且是對(duì)專利應(yīng)用的要求，為避免三種不良傾向，專利應(yīng)用制度應(yīng)有所回應(yīng)，以促進(jìn)專利事業(yè)高質(zhì)量產(chǎn)出和應(yīng)用。

1 專利創(chuàng)造性與應(yīng)用的互動(dòng)關(guān)系

專利創(chuàng)造性是專利乃至專利制度的起點(diǎn)，專利應(yīng)用一定程度上是專利創(chuàng)造性的歸宿。二者在實(shí)踐中的互動(dòng)緊密，主要體現(xiàn)在以下兩方面。

1.1 專利創(chuàng)造性蘊(yùn)含促進(jìn)應(yīng)用的內(nèi)涵

從創(chuàng)造性產(chǎn)生淵源看，專利創(chuàng)造性誕生是為了提高專利創(chuàng)新質(zhì)量，避免因細(xì)微改進(jìn)而授予專利，體現(xiàn)一定的規(guī)避專利叢林和更高質(zhì)量應(yīng)用的內(nèi)涵。與專利新穎性相比，可簡(jiǎn)化認(rèn)為，與現(xiàn)有技術(shù)相比，如果存在差別，則可認(rèn)為具有新穎性，若差別足夠大，則可認(rèn)為具有創(chuàng)造性，單純時(shí)間上的新穎性之“新”尚不足以產(chǎn)生競(jìng)爭(zhēng)力，故創(chuàng)造性相較于新穎性是更具有深刻意義的“新”。而與專利實(shí)用性相比，專利實(shí)用性存在得不到重視的情況，正如有學(xué)者指出：“在機(jī)械和電學(xué)類領(lǐng)域的發(fā)明創(chuàng)造中，很少涉及有無實(shí)用性的爭(zhēng)議，即使是被認(rèn)為沒有價(jià)值的玩具，也能滿足實(shí)用性的要求。”^［1］因此，實(shí)用性不能有效促進(jìn)專利應(yīng)用，專利創(chuàng)造性因其提高專利創(chuàng)新質(zhì)量、保持競(jìng)爭(zhēng)力的特質(zhì)，在專利應(yīng)用中扮演重要角色。

從具體有關(guān)專利創(chuàng)造性制度中，面向?qū)＠麆?chuàng)造性判斷。首先，選取本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員的判斷標(biāo)準(zhǔn)，既是保證判斷標(biāo)準(zhǔn)客觀的需要，也是奠定面向應(yīng)用生產(chǎn)的趨向基調(diào)。其次，創(chuàng)造性具備與否的核心是判斷其所解決的問題和帶來的技術(shù)啟示是否達(dá)到了實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步程度，這既是授權(quán)專利的關(guān)鍵，也是專利應(yīng)用的根本動(dòng)力。同時(shí)，在專利公開制度中，有關(guān)權(quán)利說明書和要求書與創(chuàng)造性相比，雖屬于不同的法律要求，但顯然兩者是以該專利的創(chuàng)造性為基礎(chǔ)的，因此，通過專利公開制度的有關(guān)要求和約束也間接促進(jìn)了專利創(chuàng)造性的實(shí)現(xiàn)。

1.2 專利應(yīng)用檢驗(yàn)和發(fā)展創(chuàng)造性的內(nèi)容

專利應(yīng)用是對(duì)專利創(chuàng)造性的檢驗(yàn)。在專利三性中，專利應(yīng)用的本質(zhì)是對(duì)其創(chuàng)造性的應(yīng)用。盡管國內(nèi)外學(xué)者對(duì)專利審查階段的創(chuàng)造性進(jìn)行了大量完善研究，然而只能是專利申請(qǐng)文件的“創(chuàng)造性”，可以稱之為“理論創(chuàng)造性”或者“前創(chuàng)造性”，而專利應(yīng)用中轉(zhuǎn)化為貨真價(jià)實(shí)生產(chǎn)力的創(chuàng)造性，可以稱之為“實(shí)踐創(chuàng)造性”或者“后創(chuàng)造性”。從社會(huì)發(fā)展實(shí)踐出發(fā)，后創(chuàng)造性經(jīng)過應(yīng)用制度檢驗(yàn)，其遠(yuǎn)比前創(chuàng)造性更具實(shí)際意義。同時(shí)，專利應(yīng)用既是輔助判斷專利創(chuàng)造性的標(biāo)準(zhǔn)之一，也是接受整體社會(huì)的檢驗(yàn)方式，典型如專利創(chuàng)造性存在問題，可能會(huì)被提起無效宣告等。

專利應(yīng)用促進(jìn)專利創(chuàng)造性改進(jìn)和標(biāo)準(zhǔn)化。專利權(quán)授予需要充分公開其技術(shù)方案，基本涵蓋其專利創(chuàng)造性內(nèi)容。專利創(chuàng)造性在實(shí)施應(yīng)用中，得到驗(yàn)證的同時(shí)，也會(huì)激發(fā)新的技術(shù)啟示和思路，這對(duì)更好推動(dòng)專利科技進(jìn)步具有重要意義，因此許多國家專利制度中均規(guī)定對(duì)于改進(jìn)專利的從屬專利許可制度。如果說專利改進(jìn)是縱向延伸專利創(chuàng)造性，那么專利在應(yīng)用過程中，將其具有潛質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)創(chuàng)造性的專利納入標(biāo)準(zhǔn)的過程中，便具備公共產(chǎn)品統(tǒng)一性的特征，即搭乘“公共產(chǎn)品”的便車，橫向延伸了專利創(chuàng)造性。然而因?qū)＠乃綑?quán)性和標(biāo)準(zhǔn)的公共性矛盾存在，對(duì)于創(chuàng)造性內(nèi)容也有較高的要求。

專利創(chuàng)造性與專利應(yīng)用的實(shí)踐互動(dòng)，一定程度上貫穿專利制度的始終。因此，為提高專利制度的高質(zhì)量運(yùn)行，需要思考如何促進(jìn)二者協(xié)調(diào)互動(dòng)，以始終保持正效應(yīng)影響。

2 應(yīng)用制度與專利創(chuàng)造性互動(dòng)偏差

專利應(yīng)用制度與專利創(chuàng)造性互動(dòng)偏差，指的是實(shí)踐中應(yīng)用專利時(shí)，相關(guān)政策和制度在有意或者無意地違背專利創(chuàng)造性規(guī)律，使得專利應(yīng)用行為偏離專利創(chuàng)造性實(shí)現(xiàn)的整體目標(biāo)，客觀上產(chǎn)生負(fù)效應(yīng)影響，阻礙專利制度的高質(zhì)量運(yùn)行，即形成制度偏差。當(dāng)前在專利實(shí)施率低和知識(shí)產(chǎn)權(quán)強(qiáng)國背景下，存在未細(xì)化“輕重緩急”促進(jìn)專利應(yīng)用的制度偏差。實(shí)踐表征如下。

2.1 基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利應(yīng)用急功近利化

2023年2月21日習(xí)近平總書記在二十屆中共中央政治局第三次集體學(xué)習(xí)時(shí)指出，要健全同基礎(chǔ)研究長(zhǎng)周期相匹配的成果應(yīng)用轉(zhuǎn)化制度。當(dāng)前基礎(chǔ)研究已有新的變化，一些基礎(chǔ)性問題變得更加具體，基礎(chǔ)研究與應(yīng)用研究間的界限越來越模糊^［2］。在這一背景下，從專利創(chuàng)造性角度理解，與基礎(chǔ)研究相關(guān)的創(chuàng)造性專利將成為一個(gè)重要角色。同時(shí)，也有學(xué)者以不同視角相同含義將其定義為基礎(chǔ)性專利，解釋為那些在科學(xué)發(fā)現(xiàn)或理論突破基礎(chǔ)上形成的基礎(chǔ)性發(fā)明的專利化存在形式^［3］。筆者認(rèn)為，基礎(chǔ)一詞既然解釋為事物發(fā)展的根本或起點(diǎn)，通過上文的對(duì)專利創(chuàng)造性與專利應(yīng)用的溯源，不妨將與基礎(chǔ)研究相關(guān)的創(chuàng)造性專利定義為基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利，此也與本研究主體相同。基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利因承繼基礎(chǔ)研究特征，與專利應(yīng)用相關(guān)的鮮明特征包括“長(zhǎng)期性”和“溢出性”等，而這類特征也與當(dāng)前一刀切推進(jìn)專利應(yīng)用不相符。

在具體制度方面，專利強(qiáng)制許可制度在基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利的應(yīng)用方面存在“一刀切”的問題。具體可表現(xiàn)在《專利法》第53條第一款規(guī)定的普通強(qiáng)制許可，以明確的時(shí)間點(diǎn)規(guī)定可進(jìn)行專利強(qiáng)制許可，這是罔顧不同專利創(chuàng)造性特點(diǎn)，違背基礎(chǔ)創(chuàng)造專利的應(yīng)用實(shí)際和規(guī)律的。雖然專利強(qiáng)制許可制度尤其是普通專利強(qiáng)制許可制度能夠促進(jìn)專利應(yīng)用目標(biāo)的實(shí)現(xiàn)，但同時(shí)也存在不利于基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利培育的制度偏差。一方面，導(dǎo)致片面追求顯示度高的成果，而忽視顯示度低、有長(zhǎng)遠(yuǎn)效益的工作，對(duì)未產(chǎn)生直接收益的知識(shí)溢出成果重視不足等^［4］。另一方面，擠壓專利基礎(chǔ)性、戰(zhàn)略性的創(chuàng)造性關(guān)鍵內(nèi)核特點(diǎn)，相對(duì)忽視了其在維護(hù)國家科技安全、創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展新格局構(gòu)建、國家競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)培育、科技自立自強(qiáng)及助力其向產(chǎn)業(yè)鏈高端攀升中發(fā)揮的引領(lǐng)保障作用，使得基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利對(duì)于自主創(chuàng)新的支撐呈現(xiàn)出“虛化”“弱化”的現(xiàn)象^［5］。

2.2 高創(chuàng)造性專利應(yīng)用缺乏精準(zhǔn)化

除上文所述的基礎(chǔ)創(chuàng)新外，大部分創(chuàng)新是接續(xù)奮斗的結(jié)果。根據(jù)亨特（Hunt）連續(xù)發(fā)明理論，高創(chuàng)造性專利需要依賴基礎(chǔ)專利許可支持，方能穿越專利叢林的復(fù)雜情形順利實(shí)施^［6］。因此面對(duì)日益增多且龐大的專利數(shù)量，需要思考如何在推進(jìn)專利應(yīng)用時(shí)，依據(jù)高創(chuàng)造性專利特征而適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行制度和政策傾斜，使得專利應(yīng)用制度與專利創(chuàng)造性特點(diǎn)更加協(xié)調(diào)，確保高創(chuàng)造性的專利“好鋼”用在刀刃上，以提高專利科技成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)化水平。

在具體制度方面，從屬專利制度中從屬專利概念與創(chuàng)造性概念相似，以“顯著的經(jīng)濟(jì)意義”和“重大的技術(shù)進(jìn)步”為特點(diǎn)使得其與高創(chuàng)造性專利有極高的匹配度。因此從屬專利相對(duì)于基礎(chǔ)專利作為高創(chuàng)造性專利，應(yīng)當(dāng)?shù)玫骄珳?zhǔn)化重點(diǎn)應(yīng)用。為此，《專利法》規(guī)定了申請(qǐng)?jiān)S可和交叉許可，以促進(jìn)高創(chuàng)造性的從屬專利適用。但實(shí)踐中，礙于原始專利權(quán)人和從屬專利權(quán)人存在利益對(duì)立，鮮有從屬專利順利適用，這一制度的架空明顯產(chǎn)生制度偏差。將導(dǎo)致在一定時(shí)期內(nèi)，專利制度持續(xù)維護(hù)非高創(chuàng)造性的基礎(chǔ)專利，而真正高創(chuàng)造性專利卻因不能得到重點(diǎn)應(yīng)用而湮沒在專利叢林中。因此，需要完善從屬專利制度，保障除原始創(chuàng)造外高創(chuàng)造性專利的應(yīng)用通道暢通。

2.3 低創(chuàng)造性專利盲目助力應(yīng)用化

一定時(shí)期促進(jìn)專利科技成果應(yīng)用的資源是有限的。專利創(chuàng)造性特點(diǎn)一定程度上決定專利應(yīng)用的難度，目前更多采取平均主義的資源投入。一方面，較高創(chuàng)造性的專利受到相對(duì)較少的轉(zhuǎn)化支撐資源，在兩次“死亡之谷”跳躍時(shí)，可能疊加更高的風(fēng)險(xiǎn)承擔(dān)，而未能有效轉(zhuǎn)化。另一方面，較低創(chuàng)造性的專利受到相對(duì)較多的轉(zhuǎn)化支撐資源，而低創(chuàng)造性專利無法有效具有保持競(jìng)爭(zhēng)力的特質(zhì)，在已經(jīng)飽和或者瀕臨飽和的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)式微，影響專利制度的運(yùn)行效率和質(zhì)量。

在具體制度方面，專利開放許可制度推進(jìn)專利實(shí)施應(yīng)用中，基本無參與門檻，且目前的資助優(yōu)惠包括年費(fèi)減免、參與獎(jiǎng)勵(lì)等，難以避免存在低創(chuàng)造性的專利受到資助、政府給予專利權(quán)人及相關(guān)主體過度激勵(lì)等情況。專利領(lǐng)域的過度激勵(lì)可能會(huì)產(chǎn)生專利申請(qǐng)主體和專利權(quán)的“逆向”淘汰，專利開放許可年費(fèi)減免可能會(huì)使“垃圾專利”更難以被清除出市場(chǎng)，造成專利制度運(yùn)行的資源浪費(fèi)，也使公眾難以有效區(qū)分高價(jià)值專利與“垃圾專利”，形成一定的制度偏差^［7］。這種對(duì)低創(chuàng)造性專利的助用存在較大的盲目性，其本質(zhì)是對(duì)專利應(yīng)用數(shù)量的盲目追求。其后果將弱化高質(zhì)量、高價(jià)值專利的培育應(yīng)用，與專利創(chuàng)造性概念突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步精神不符。因此，當(dāng)前需要思考防止從申請(qǐng)階段的粗獷授權(quán)的坑，在意識(shí)到問題糾正時(shí)，又跳進(jìn)實(shí)施階段粗獷推進(jìn)應(yīng)用的坑，且提供更多適宜低創(chuàng)造性專利的土壤。使得專利制度申請(qǐng)階段的“惡行循環(huán)”未得到解決，又產(chǎn)生新的問題。

3 專利創(chuàng)造性對(duì)應(yīng)用制度要求及回應(yīng)

高質(zhì)量發(fā)展階段，對(duì)我國專利知識(shí)產(chǎn)權(quán)制度提出了更加聚焦質(zhì)量和效率的要求^［8］。同時(shí)，專利效率與質(zhì)量決定著創(chuàng)新型國家和創(chuàng)新型企業(yè)建設(shè)的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)^［9］。針對(duì)應(yīng)用制度與專利創(chuàng)造性互動(dòng)中的偏差，筆者認(rèn)為創(chuàng)造性不僅是對(duì)專利審查授權(quán)制度的要求，也是對(duì)專利應(yīng)用制度的要求，且應(yīng)用制度須有所回應(yīng)，以提高專利制度運(yùn)行的質(zhì)量和效率。

3.1 基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利緩和應(yīng)用要求的普通強(qiáng)制許可限制適用回應(yīng)

現(xiàn)行《專利法》普通強(qiáng)制許可制度作為重要的促進(jìn)專利應(yīng)用的制度，以三年或四年內(nèi)未實(shí)施及未充分實(shí)施較為模糊的申請(qǐng)理由規(guī)定，僅具有實(shí)施條件，從根本上講并未對(duì)專利的創(chuàng)造性作出貢獻(xiàn)，加之基礎(chǔ)創(chuàng)造性不確定性因素多，非緩和性的強(qiáng)制許可應(yīng)用將極不利于基礎(chǔ)研究環(huán)境。

3.1.1 普通強(qiáng)制許可對(duì)基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利緩和應(yīng)用的沖擊。

①既有的例外規(guī)定對(duì)象單一。《專利法》第 57條從行業(yè)和產(chǎn)業(yè)角度明確限制了半導(dǎo)體技術(shù)的適用情形，即強(qiáng)制許可涉及的發(fā)明創(chuàng)造為半導(dǎo)體技術(shù)的，其實(shí)施情形僅限于公益目的或作為反壟斷行為的救濟(jì)，不得依據(jù)商業(yè)行為。由集成電路為核心元件構(gòu)成的半導(dǎo)體芯片成為幾乎整個(gè)電子行業(yè)的基礎(chǔ)構(gòu)件，蘊(yùn)含著巨大的經(jīng)濟(jì)價(jià)值和戰(zhàn)略價(jià)值，可認(rèn)為屬于典型的基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利，且也屬我國目前著力攻關(guān)的基礎(chǔ)“卡脖子”技術(shù)，其身影遍布電氣、通信、自動(dòng)化和軍工等領(lǐng)域。追溯我國這一規(guī)定的源頭，其依據(jù)為 TRIPS 協(xié)議第 31 條（c）款的規(guī)定，但從更深遠(yuǎn)的立法緣起看，其是美國在SCPA法案中保護(hù)半導(dǎo)體基礎(chǔ)研究的地位，而設(shè)置的免于被強(qiáng)制許可保護(hù)。當(dāng)前我國已經(jīng)在許多基礎(chǔ)科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域取得長(zhǎng)足的進(jìn)步，并且為實(shí)現(xiàn)高水平科技自立自強(qiáng)而著力推進(jìn)基礎(chǔ)領(lǐng)域創(chuàng)新。在以半導(dǎo)體技術(shù)為代表的基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利由過去被動(dòng)希望得到強(qiáng)制許可，轉(zhuǎn)變?yōu)槲磥砀玫匕l(fā)展基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利而規(guī)制其強(qiáng)制許可，以達(dá)到能夠緩和應(yīng)用的目的，而目前法條僅有關(guān)于半導(dǎo)體例外規(guī)定。

②正當(dāng)理由未實(shí)施抗辯模糊。《專利法》第52條規(guī)定的“三年”和“四年”期間內(nèi)未實(shí)施和未充分實(shí)施中，一般將未實(shí)施和未充分實(shí)施解釋為是否滿足商業(yè)上的需求，如英國專利法強(qiáng)調(diào)的是沒有進(jìn)行商業(yè)規(guī)模的實(shí)施，并且影響到法國、印度、加拿大等國家，均出現(xiàn)類似是否在商業(yè)上滿足合理需求的規(guī)定^［10］。我國在《專利法實(shí)施細(xì)則》第七十三條中的解釋也傾向于在商業(yè)上滿足與否，這一點(diǎn)也可以從“實(shí)施”一詞本身含義理解，即“實(shí)施”一詞為《專利法》第11條中明確規(guī)定的為生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)目導(dǎo)向的商業(yè)行為。然而對(duì)于基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利應(yīng)用長(zhǎng)期性的特點(diǎn)，顯然無法從時(shí)間上滿足。正如學(xué)者John Jewkes在著作中總結(jié)雷達(dá)這一可屬基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利，從1904年授予專利，歷時(shí)多年至1935年才正式形成產(chǎn)品，類似專利還包括激光等^［11］。當(dāng)前較為火熱的量子技術(shù)、AI技術(shù)專利更多處于試驗(yàn)應(yīng)用階段，但均存在巨大的商業(yè)需求，對(duì)于具有實(shí)施條件的主體易從形式上滿足和申請(qǐng)專利強(qiáng)制開放許可，影響基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利緩和性應(yīng)用。因此需要“正當(dāng)理由未實(shí)施”的支持，但從目前看關(guān)于正當(dāng)理由規(guī)定模糊。

③缺乏強(qiáng)制許可的濫用規(guī)制。《專利法》第62條第二款有關(guān)專利強(qiáng)制許可的終止的規(guī)定，結(jié)合法條可以總結(jié)出兩種終止方式，一是專利行政部門規(guī)定的強(qiáng)制許可期限到期，二是強(qiáng)制許可理由消失。對(duì)于基礎(chǔ)專利緩和應(yīng)用的要求，兩種終止方式顯然是得到了專利行政部門的認(rèn)可方才給予強(qiáng)制許可，但支持強(qiáng)制許可后勢(shì)必打亂基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利的應(yīng)用實(shí)施節(jié)奏，難以達(dá)到緩和應(yīng)用的目的。結(jié)合上文分析，基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利易滿足“三年”和“四年”無法實(shí)施或者充分實(shí)施，疊加基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利應(yīng)用一般具有較大的經(jīng)濟(jì)效益，為濫用強(qiáng)制許可留下巨大空間。考察當(dāng)前專利制度，尚缺乏強(qiáng)制許可的濫用規(guī)制措施，不利于基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利緩和應(yīng)用。

3.1.2 普通強(qiáng)制許可適用限制回應(yīng)。

①規(guī)定基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利作為商業(yè)目的強(qiáng)制許可的例外。承上文所述，《專利法》第 57條從行業(yè)和產(chǎn)業(yè)角度明確限制了半導(dǎo)體技術(shù)的適用情形，其依據(jù)是以美國和日本為代表的半導(dǎo)體專利研究大國，為保護(hù)本國半導(dǎo)體發(fā)展，而努力爭(zhēng)取到的TRIPS條款^［12］，本質(zhì)在于為基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利代表的半導(dǎo)體發(fā)展創(chuàng)造良好環(huán)境，尊重其創(chuàng)新應(yīng)用規(guī)律和技術(shù)貢獻(xiàn)價(jià)值未來市場(chǎng)回報(bào)。近年來我國將基礎(chǔ)研究提到了空前的高度，按照相關(guān)學(xué)者觀點(diǎn)，基礎(chǔ)研究的原始性創(chuàng)新成果，在科學(xué)高度成熟、科學(xué)和國家利益緊密結(jié)合階段，將更多地表現(xiàn)為與重大科學(xué)發(fā)現(xiàn)和重大理論突破伴生的重大技術(shù)和方法的發(fā)明。因此，出于我國當(dāng)下和未來打造基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利的良好環(huán)境和規(guī)律遵循的需要，可考慮修改《專利法》第 57條為：強(qiáng)制許可涉及的發(fā)明創(chuàng)造為基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利的，其實(shí)施限于公共利益的目的和本法第五十三條第（二）項(xiàng)規(guī)定的情形。如此更好保障基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利的利益，而專利法作為專利領(lǐng)域的基礎(chǔ)法，修改后可改變先前為半導(dǎo)體單獨(dú)規(guī)定法條的“突兀”，且如前所述我國國情與當(dāng)時(shí)吸收接受TRIPS條款時(shí)已經(jīng)發(fā)生變化。

②給予基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利未實(shí)施從寬認(rèn)定正當(dāng)理由。為更好規(guī)范專利強(qiáng)制許可實(shí)行，國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局發(fā)布和修訂《專利實(shí)施強(qiáng)制許可辦法》。此也為基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利未實(shí)施從寬認(rèn)定正當(dāng)理由提供依據(jù)，可在該辦法第三章“強(qiáng)制許可請(qǐng)求的審查和決定”第十七條中規(guī)定增加“涉及基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利的，應(yīng)當(dāng)充分聽取基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利權(quán)人意見”。或者在第十八條專利權(quán)人申請(qǐng)聽證的，第三款中增加“涉及基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利的，應(yīng)當(dāng)充分聽取基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利權(quán)人意見”。理由為2012年新修訂的《專利實(shí)施強(qiáng)制許可辦法》第十七條便增加了需要實(shí)地核查，國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局指派兩名工作人員進(jìn)行實(shí)地核查內(nèi)容，體現(xiàn)了對(duì)強(qiáng)制許可的嚴(yán)謹(jǐn)，此時(shí)在該處規(guī)定也與提醒基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利限制普通強(qiáng)制許可的相符。

③規(guī)定禁止強(qiáng)制許可濫用原則。縱觀《專利實(shí)施強(qiáng)制許可辦法》尚未發(fā)現(xiàn)有關(guān)于濫用強(qiáng)制申請(qǐng)?jiān)S可的規(guī)定，綜合上文對(duì)于基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利緩和應(yīng)用的需求，可以在《專利實(shí)施強(qiáng)制許可辦法》總則中增加“專利申請(qǐng)人應(yīng)當(dāng)誠信申請(qǐng)、禁止濫用專利強(qiáng)制許可”。理由一是如何規(guī)制申請(qǐng)人濫用強(qiáng)制許可申請(qǐng)是比較棘手的問題，不僅是上文所述的基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利具有較為天然符合強(qiáng)制許可條件，也因?yàn)樵诜缮弦?guī)制濫用申請(qǐng)權(quán)的復(fù)雜性及原則性。從民法角度看，《民法典》規(guī)定禁止權(quán)利濫用原則、誠信原則等尚存在研究空間。從行政法角度看，權(quán)利濫用問題涉及行政復(fù)議、信息公開等諸多領(lǐng)域而未有所了結(jié)。專利法涉及公法和私法的交叉，在權(quán)利濫用問題上相對(duì)于民法和行政法，典型的專利申請(qǐng)、專利訴訟等領(lǐng)域的權(quán)利濫用，一定程度上可認(rèn)為有過之而無不及，因此做一項(xiàng)原則性規(guī)定具有更多解釋空間。理由二是考慮到基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利因前沿性高，對(duì)于申請(qǐng)人的實(shí)施條件勢(shì)必也要求較高，如果申請(qǐng)人不能基于誠信原則，在不具有基礎(chǔ)創(chuàng)造性專利實(shí)施條件時(shí)，濫用申請(qǐng)取得成功后，將因不能實(shí)施而使得該項(xiàng)專利強(qiáng)制許可毫無意義。

3.2 高創(chuàng)造性專利重點(diǎn)應(yīng)用要求的從屬專利許可適用保障

從屬專利許可作為廣義專利強(qiáng)制許可的一種，與普通強(qiáng)制許可存在差別，從專利創(chuàng)造性的角度看，前者以其相較于基本專利具有顯著的進(jìn)步的專利創(chuàng)造性貢獻(xiàn)，而后者則僅是自身具有實(shí)施專利的條件而已。因此根據(jù)專利“技術(shù)貢獻(xiàn)—回報(bào)”理論，應(yīng)當(dāng)以從屬專利許可制度保障高創(chuàng)造性的從屬專利得到重點(diǎn)應(yīng)用。

3.2.1 高創(chuàng)造性從屬專利許可應(yīng)用困境。

①正確認(rèn)定從屬專利困難。關(guān)于從屬專利的概念，目前僅有《專利法》第56條和《專利實(shí)施強(qiáng)制許可辦法》中有相同規(guī)定，尚沒有規(guī)范予以拓展界定。從屬專利本質(zhì)上是一種專利，其主要為發(fā)明和實(shí)用新型，應(yīng)當(dāng)滿足專利三性的基本要件，還應(yīng)當(dāng)滿足重大的技術(shù)進(jìn)步和顯著的經(jīng)濟(jì)意義。這里的重大技術(shù)進(jìn)步的創(chuàng)造性難以準(zhǔn)確認(rèn)定，此本就是創(chuàng)造性判定的一大難題，而顯著的經(jīng)濟(jì)意義也十分模糊，難以量化。

②前置事先協(xié)商效率低。《專利法》第59條事前協(xié)商規(guī)定從對(duì)基礎(chǔ)專利權(quán)保護(hù)出發(fā)，規(guī)定了前置事先協(xié)商程序，盡量達(dá)成協(xié)商自愿許可的角度出發(fā)無可厚非。但是從實(shí)用主義看存在一定的問題。首先，如何證明從屬專利以合理的條件、合理的時(shí)間提出申請(qǐng)比較煩瑣。其次，基礎(chǔ)專利權(quán)人合理時(shí)間內(nèi)未許可，多是由于許可費(fèi)用不達(dá)預(yù)期或是清楚該專利不屬從屬專利，后續(xù)的《專利法》第62條雙方談攏合理的使用費(fèi)、調(diào)解出能夠接受的費(fèi)用可能性甚微，最終雙方多是就是否符合從屬專利許可或?qū)＠S可費(fèi)用不服提起訴訟。從屬專利申請(qǐng)?jiān)S可按上述發(fā)展，《專利法》第59條規(guī)定的事前協(xié)商效率極低。

③從屬專利許可權(quán)利限制過多。關(guān)于從屬專利權(quán)利人限制主要在《專利法》第60條和第61條，其中第60條限制其從屬專利的實(shí)施范圍是國家專利部門根據(jù)申請(qǐng)理由的確定，第61條規(guī)定限制從屬專利權(quán)人不享有獨(dú)占的實(shí)施權(quán)，并且無權(quán)允許他人實(shí)施。這些范圍的限制更多在普通專利許可和公共利益許可等，更具有操作性和合理性。但是對(duì)于從屬專利許可，如上文所述，其相對(duì)于其他幾種強(qiáng)制許可單純實(shí)施，是專利權(quán)人作出創(chuàng)造性貢獻(xiàn)且為更高的創(chuàng)造性貢獻(xiàn)，等同限制加支付許可費(fèi)用及交叉許可請(qǐng)求，將不同程度上挫傷從屬專利權(quán)利人申請(qǐng)?jiān)S可的熱情。此外，關(guān)于《專利法》第61條規(guī)定，中國人大網(wǎng)法律釋義與問答對(duì)該條解釋為“取得專利實(shí)施強(qiáng)制許可的單位或者個(gè)人并不是專利權(quán)人，他沒有權(quán)利允許他人實(shí)施該項(xiàng)專利”^［13］，如此顯然是不妥當(dāng)?shù)模缜八銎胀◤?qiáng)制許可中，強(qiáng)制許可申請(qǐng)人僅具有實(shí)施條件，可認(rèn)為并不是專利權(quán)人，而從屬專利已經(jīng)從專利法法條中明確其為專利權(quán)人，這一點(diǎn)從創(chuàng)造性貢獻(xiàn)角度也很好理解。因此可認(rèn)為從屬專利權(quán)人會(huì)因申請(qǐng)專利受到較大限制，而處于等待觀望狀態(tài)。

3.2.2 從屬專利許可保障的制度回應(yīng)。

①構(gòu)建寬嚴(yán)適宜的從屬專利認(rèn)定制度。關(guān)于從屬專利規(guī)定的“重大技術(shù)進(jìn)步”，因其為獨(dú)立的專利，在正常授權(quán)專利時(shí)，應(yīng)相較基礎(chǔ)專利具有創(chuàng)新性，方能得到授權(quán)，因此對(duì)于“重大技術(shù)進(jìn)步”判斷意義甚微。關(guān)于“顯著的經(jīng)濟(jì)意義”判斷，受到專利實(shí)施水平、市場(chǎng)波動(dòng)等情況的影響，判斷難度也較大，因此可認(rèn)為只要覆蓋了其基礎(chǔ)專利創(chuàng)造性特點(diǎn)，便可認(rèn)定為成立從屬專利。此較低的標(biāo)準(zhǔn)也是考慮到目前我國從屬專利在內(nèi)的專利強(qiáng)制許可數(shù)量較少，使得強(qiáng)制許可制度各種功能難以有效發(fā)揮。在具體認(rèn)定中，應(yīng)結(jié)合所在的行業(yè)特點(diǎn)，生物醫(yī)藥行業(yè)一般對(duì)從屬專利認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)低，而計(jì)算機(jī)等更新迭代速度快的領(lǐng)域?qū)膶賹＠J(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)高。此外，要防止“搭便車”的行為，存在明顯競(jìng)爭(zhēng)關(guān)系的認(rèn)定需要從嚴(yán)掌握，行業(yè)關(guān)聯(lián)性低的認(rèn)定可以適當(dāng)從寬^［14］。

②提高雙方協(xié)商達(dá)成從屬專利許可應(yīng)用的效率。承上文所述的前置協(xié)商實(shí)用性的困難，可從兩方面進(jìn)行入手。其一，是否可以在事前協(xié)議前置申請(qǐng)一次后，賦予從屬專利權(quán)利人改為通知規(guī)則，并附上更加有誠意地為基礎(chǔ)權(quán)利人提供自動(dòng)的交叉許可等。或者參考日本等國家，建立相關(guān)仲裁前置的規(guī)則。其二，提高交叉許可對(duì)基礎(chǔ)權(quán)利人的保障力度。由于從屬專利權(quán)人掌握著更高創(chuàng)造性的從屬專利，使基礎(chǔ)專利權(quán)利人在交叉許可后中處于被動(dòng)地位。而對(duì)于從屬專利，即便具備更高創(chuàng)造性的特征，也要遵循萬丈高樓平地起的規(guī)則，不能忽略基礎(chǔ)專利權(quán)人的技術(shù)貢獻(xiàn)，因此，可考慮在通知規(guī)則下，配套設(shè)置從屬專利人實(shí)施幫助義務(wù)，保障基礎(chǔ)專利權(quán)人正當(dāng)權(quán)益下提高其事前協(xié)商的積極性。

③賦予從屬專利權(quán)人較為完整的權(quán)利。承上文所述對(duì)于從屬專利許可限制有余，可在《專利法》第60條第二款前增加“除依照本法五十六條規(guī)定的給予強(qiáng)制許可外，”理由一是從屬專利為一項(xiàng)更高創(chuàng)造性的權(quán)利，賦予更高的實(shí)施自由，可以從上文所述的“通知”規(guī)則的視角，促使基礎(chǔ)專利權(quán)人在事前協(xié)商中達(dá)成自愿許可。理由二是基于目前強(qiáng)制許可較少的狀況，潛在從屬專利權(quán)人申請(qǐng)強(qiáng)制許可意愿低應(yīng)賦予更多權(quán)利自由。關(guān)于《專利法》第61條，筆者認(rèn)為該條前半部分規(guī)定是為了限制強(qiáng)制許可專利人的權(quán)利，避免從屬專利權(quán)人進(jìn)行獨(dú)占實(shí)施，因?yàn)閷＠麖?qiáng)制許可制度本身就是對(duì)于專利獨(dú)占實(shí)施的權(quán)的一種限制，如果允許從屬專利權(quán)人獨(dú)占實(shí)施將與強(qiáng)制許可制度相悖，也極不利于基礎(chǔ)專利權(quán)人正當(dāng)權(quán)益，因此關(guān)于無獨(dú)占實(shí)施權(quán)無可厚非。但關(guān)于無權(quán)允許他人實(shí)施值得商榷，如上文所述全國人大網(wǎng)對(duì)于該條解釋存在一定不足，可以考慮將《專利法》第61條修改為“除依照本法五十六條規(guī)定的給予強(qiáng)制許可外，無權(quán)允許他人實(shí)施”，理由一是從屬專利權(quán)人允許他人實(shí)施，他人實(shí)施也要受到基礎(chǔ)專利權(quán)人的限制，因此不會(huì)侵害基礎(chǔ)專利權(quán)人的利益。考慮到基礎(chǔ)專利權(quán)人還可能因從屬專利權(quán)人實(shí)施規(guī)模不夠，而拒絕從屬專利權(quán)許可應(yīng)用情況，該條規(guī)定便成為一道障礙。理由二是此可消除從屬專利權(quán)人得到強(qiáng)制許可后，允許基礎(chǔ)專利權(quán)人實(shí)施的矛盾，以及彌合全國人大網(wǎng)關(guān)于該條解釋的不足。

3.3 低創(chuàng)造性專利限助應(yīng)用要求的專利開放許可參與機(jī)制完善

我國專利開放許可制度的建立，在推動(dòng)專利許可與轉(zhuǎn)化實(shí)施等方面發(fā)揮重要作用。為充分有效發(fā)揮專利開放許可制度的促進(jìn)專利應(yīng)用的效能，配套的激勵(lì)機(jī)制也相應(yīng)出臺(tái)，其中就包括專利年費(fèi)減免制度。在沒有相應(yīng)的參與門檻的控制下，過度激勵(lì)將反向助力低創(chuàng)造性專利的應(yīng)用，影響專利開放許可制度運(yùn)行的質(zhì)量和效率。

3.3.1 專利開放許可制度對(duì)低創(chuàng)造性專利助用。

①參與機(jī)制的便利性，低創(chuàng)造專利易“搭便車”參與應(yīng)用。目前專利開放許可制度尚處于起步階段，各省市均出臺(tái)相應(yīng)的政策進(jìn)行試點(diǎn)。雖然依據(jù)法條規(guī)定，專利只有在實(shí)施階段才能給予年費(fèi)優(yōu)惠，但是對(duì)可以免費(fèi)的參與平臺(tái)，以及可能一條龍參與服務(wù)機(jī)制，也是一種強(qiáng)有力的便利型激勵(lì)機(jī)制。在參與后，又會(huì)對(duì)潛在的被許可人進(jìn)行無條件的尋找挖掘，這將為低創(chuàng)造性專利的應(yīng)用提供“便車”。隨著參與開放許可的各主體增多，將可能出現(xiàn)更多助力渾水摸魚、碰運(yùn)氣的低創(chuàng)造性專利情形存在。正如有學(xué)者所指的由政府承擔(dān)開放專利征集和推送的供需對(duì)接角色，與《專利法》意義上的開放許可不同^［15］。

②年費(fèi)減免追繳機(jī)制缺乏，低創(chuàng)造性專利可虛假實(shí)施參與應(yīng)用。《專利法》對(duì)專利年費(fèi)減免期間規(guī)定的是“開放許可實(shí)施期間”，并非在專利開放許可聲明發(fā)布以后便給予年費(fèi)減免。制定該款規(guī)定的原因，是考慮到我國專利數(shù)量較多，但是總體質(zhì)量不高。考察英國、德國、巴西等國家專利法在專利開放許可聲明時(shí)便可進(jìn)行專利年費(fèi)的減免，若在我國專利開放許可聲明發(fā)布以后立即給予年費(fèi)優(yōu)惠，會(huì)更加明顯地助力低創(chuàng)造性專利的應(yīng)用。然而值得注意的是，相應(yīng)規(guī)定的“實(shí)施期間”目前尚沒有標(biāo)準(zhǔn)。何謂“實(shí)施期間”，如果跟蹤考核不明確，這就為低創(chuàng)造性專利虛假實(shí)施的機(jī)會(huì)主義行為留下空間。且我國目前沒有明確規(guī)定的撤回后的年費(fèi)補(bǔ)繳義務(wù)，即即使發(fā)現(xiàn)虛假實(shí)施，也可能僅使其退出開放許可機(jī)制，而追繳應(yīng)繳年費(fèi)的過程必是曲折復(fù)雜的。

③專利調(diào)解效率孱弱，反向助力低創(chuàng)造性專利參與應(yīng)用。調(diào)解作為中華法系的優(yōu)良傳統(tǒng)具有許多優(yōu)勢(shì)，許多學(xué)者都進(jìn)行了論述，且在實(shí)踐中得以呈現(xiàn)。但是也有表現(xiàn)出因調(diào)解獲利，如民訴法中關(guān)于濫訴和調(diào)解并列規(guī)定，禁止從調(diào)解中獲得不正當(dāng)利益^［16］。現(xiàn)行《專利法》第52條未保留過去意見稿中當(dāng)事人就開放許可發(fā)生的爭(zhēng)議由國務(wù)院專利行政部門裁決或可以請(qǐng)求其裁決的規(guī)定，而突出了行政調(diào)解在爭(zhēng)議處理方式的地位。但值得思考的是，行政調(diào)解在對(duì)于善意專利權(quán)利人，可以起到較快解決糾紛的目的，但對(duì)于參與蓄意牟利的低創(chuàng)造性專利權(quán)人來講，可能在實(shí)踐中因低創(chuàng)造性無法獲得收益，卻可以利用行政調(diào)解這一工具漁利，且在實(shí)踐中也減少了其訴訟舉證不能的壓力。另外，根據(jù)《專利法》第52條規(guī)定“可以請(qǐng)求國務(wù)院專利行政部門進(jìn)行調(diào)解”，調(diào)解機(jī)關(guān)級(jí)別之高也會(huì)擴(kuò)大其漁利胃口，此對(duì)于低創(chuàng)造性的“專利流氓”無疑是起到反向助力參與應(yīng)用的效果。

3.3.2 專利開發(fā)許可對(duì)于低創(chuàng)造性專利限助應(yīng)用的完善機(jī)制。

①建立低創(chuàng)造性專利的動(dòng)態(tài)退出機(jī)制。實(shí)踐中各地開放許可平臺(tái)建設(shè)與普通專利交易平臺(tái)無異，因此筆者認(rèn)為，既然開放許可制度《專利法》使用寶貴的3個(gè)條款予以規(guī)定，應(yīng)該朝向更加精細(xì)化發(fā)展，做成一種標(biāo)桿平臺(tái)，而建立低創(chuàng)造性專利動(dòng)態(tài)推出機(jī)制對(duì)實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)應(yīng)具有重要意義。

關(guān)于具體動(dòng)態(tài)退出機(jī)制的構(gòu)建。首先，動(dòng)態(tài)退出的對(duì)象。可對(duì)參與開放許可的專利和實(shí)用新型專利進(jìn)行分類，考慮到實(shí)踐中低創(chuàng)造性專利主要分布在實(shí)用新型領(lǐng)域，起初僅對(duì)實(shí)用新型作為動(dòng)態(tài)退出的對(duì)象，這樣一方面可以規(guī)避對(duì)于較高創(chuàng)造性的發(fā)明造成誤傷，另一方面可抓住實(shí)用新型申請(qǐng)數(shù)量多而導(dǎo)致參與開放許可數(shù)量多的關(guān)鍵問題。其次，動(dòng)態(tài)退出的方式，可以許可費(fèi)用為抓手，一段時(shí)間內(nèi)許可費(fèi)用經(jīng)過若干輪從高到低的調(diào)整，仍然未出現(xiàn)被許可人實(shí)施便退出參與。最后，動(dòng)態(tài)退出的重新參與。如果被退出的實(shí)用新型專利，在退出后與他人達(dá)成許可協(xié)議，并且已經(jīng)切實(shí)具有實(shí)施效果，此時(shí)可根據(jù)該實(shí)用新型專利人相關(guān)證明重新參與開放許可，當(dāng)然其退出后與他人達(dá)成的許可協(xié)議不能是獨(dú)占許可或者排他許可方式。

②建立低創(chuàng)造性的專利虛假實(shí)施年費(fèi)追繳機(jī)制。英國和德國的專利法則均有專利權(quán)人在撤回聲明時(shí)補(bǔ)交年費(fèi)的要求。其中值得一提的是根據(jù)《英國專利法》第 47 條第3、4 款，在英國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局基于權(quán)利沖突等事由依職權(quán)撤回專利開放許可聲明的情況下，雖然并非專利權(quán)人主動(dòng)請(qǐng)求撤回該聲明，但是專利權(quán)人也應(yīng)當(dāng)補(bǔ)繳之前已經(jīng)減免的年費(fèi)，否則可能會(huì)導(dǎo)致專利權(quán)被終止^［17］。由此，專利權(quán)人在專利開放許可聲明撤回后的年費(fèi)補(bǔ)繳義務(wù)是較為嚴(yán)格的。綜合上述國家和地區(qū)對(duì)于專利年費(fèi)補(bǔ)繳的規(guī)定，可以看出專利年費(fèi)補(bǔ)繳成為較為明確的義務(wù)，尤其是英國，在《英國專利法》第 47 條第3、4 款規(guī)定了，依職權(quán)撤回專利開放許可，以規(guī)制參與專利的不誠信的行為，例如某一專利開放許可聲明與專利獨(dú)占許可合同產(chǎn)生行為。綜合我國目前低創(chuàng)造性專利數(shù)量大，有必要建立一定的依職權(quán)撤回專利開放許可，并追繳低創(chuàng)造性的專利虛假實(shí)施的年費(fèi)機(jī)制。

③建立低創(chuàng)造性專利開放許可行政裁決糾紛解決機(jī)制。針對(duì)《專利法》第52條規(guī)定的行政調(diào)解導(dǎo)致的糾紛解決效果差，可成為低創(chuàng)造性專利漁利工具。有學(xué)者主張恢復(fù)到關(guān)于專利法修改征集意見中行政裁決的形式。行政裁決具有解決糾紛效率和成本上的優(yōu)勢(shì)，但不具備行政調(diào)解的柔性，在當(dāng)前提倡多元化和多渠道下解決糾紛下，筆者認(rèn)為二者可以并存而不是替代關(guān)系，只需要在法條中增加行政裁決方式，后者出臺(tái)相應(yīng)的行政裁決辦法即可。如此一來，為低創(chuàng)造性專利開放許可行政裁決糾紛解決提供依據(jù)，對(duì)于低創(chuàng)造性專利而言，行政裁決將以行政機(jī)關(guān)公權(quán)力的公正性，削弱在糾紛調(diào)解中可能出現(xiàn)的促進(jìn)低創(chuàng)造性專利獲利行為，一定程度上規(guī)避低創(chuàng)造性專利利用開放許可制度“渾水摸魚”。

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收稿日期：2023-08-22

基金項(xiàng)目：2022年國家社科基金后期資助項(xiàng)目“專利實(shí)用性要求及制度回應(yīng)研究”（2022FFXB066）。

作者簡(jiǎn)介：李文江（1964—），男，博士，教授，研究方向：知識(shí)產(chǎn)權(quán)法學(xué)；邱永濤（1997—），男，碩士生，研究方向：知識(shí)產(chǎn)權(quán)法學(xué)。