芯片制造技術獲得重大突破

本報綜合消息 IBM和英特爾分別于近日宣布，在芯片制造技術上獲得了重大突破。

兩家公司的技術突破是類似的，他們都在研究一種極其重要的材料——高K(high-K)材料，它比標準的二氧化硅絕緣性好，用它能制造出更小的晶體管，而且因為這種材料的絕緣性能更好、漏電少，晶體管雖然更小卻不會降低效率。

此外，英特爾表示，將用這種新材料生產全球首款45納米處理器Penryn原型產品，預計該產品將會在今年后半年正式上市。英特爾表示，45納米技術芯片的面世意味著，處理器產業進入了一個全新的紀元，Penryn是英特爾40年以來最大的一次技術革新。

業內人士稱，有了這樣的技術突破，摩爾定律將會繼續有效。這對用戶來說也是一個好消息，因為微處理器容納的晶體管越多，PC的運行速度就會越快。

這種新材料的出現還意味著，制造商們可以在芯片上蝕刻出尺寸更微小的晶體管，而且更重要的是，這樣的芯片可以批量生產，因此采用這類芯片的PC價格不會過高，能夠為用戶所接受。英特爾公司的有關人士預計，此項突破將確保摩爾定律延繼到2010年。

分析師點評：

The Envisioneering Group公司高級分析師Richard Doherty說，有了這個重大的技術突破，廠商們就可以為PC、蜂窩電話、iPod等制造出更快和更高效的芯片。英特爾的優勢是，這種新技術即將投入生產。而IBM的計劃可能更重要，在芯片中集成金屬柵；英特爾則是將金屬柵疊加在經過驗證的芯片架構之上。