e型電子槍中非均勻磁場偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)的聚焦特性研究
2009-02-08 01:11:24韓亮寧濤李想趙玉清
西安交通大學(xué)學(xué)報 2009年12期
韓 亮 寧 濤 李 想 趙玉清
摘要：利用永磁鐵結(jié)構(gòu)的偏轉(zhuǎn)聚焦系統(tǒng)產(chǎn)生的非均勻磁場，改進(jìn)了目前e型電子槍電子束偏轉(zhuǎn)聚焦特性，同時縮小了槍體體積，減小了功耗，采用邊界元法與等效磁荷法，模擬了偏轉(zhuǎn)聚焦系統(tǒng)的非均勻磁場，再利用龍格一庫塔法模擬出電子在該系統(tǒng)中的運(yùn)動軌跡，為獲得良好的聚焦特性，電子發(fā)射速度和發(fā)射位置應(yīng)進(jìn)行優(yōu)化選擇，同時電子束保持水平出射，研究結(jié)果表明：電子槍陽極板端點(diǎn)與陰極燈絲中心點(diǎn)保持水平可滿足電子水平出射；非均勻分布的磁場對e型電子槍中電子束具有良好的聚焦作用；所設(shè)計的偏轉(zhuǎn)聚焦系統(tǒng)在電子束流為50～100mA時，束斑小于3mm，
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