世界半導體業兩年內計劃建設150條生產線
SEMI(國際半導體設備和材料協會)日前發表一份名為SEMI’s WorldFab Forecast的報告稱,2010~2011年2年內世界半導體業將共投資830億美元,計劃建設150多條生產線,涵蓋大/小產能的晶圓廠、MEMS以及包括LED在內的分立器件廠。
報告指出,2010年在建的晶圓廠有54個,總計投資約45億美元,其中半數為LED晶圓廠,且大半在中國。2011年晶圓廠計劃基建數量減少,但規模較大,總投資約55億美元。SEMI預計,2010年世界晶圓生產設備總投資將成長133%,達到340億美元。增長速度之所以那么高,是因為2009年的投資已處于歷史低水平。其實,2010年投資僅比2008年增長了27%,相比2007年還減少了11%,2011年世界晶圓生產設備投資將續增18%,達到390億美元的規模,才算超越了2007年的水平。
2010年投產的晶圓廠約為22座,其中一半為LED廠,2011年則將有28座晶圓廠投產,其中4座是存儲器廠。預計到2010年底,世界已建晶圓廠的產能(不包括分立器件)為(折合成8英寸晶圓)每月1440萬片,2011年可望成長8%,達到每月1580萬片。存儲器廠所占產能最大,2010~2011年均占41%左右,晶圓代工廠其次,分別占24%和26%。
中小尺寸FPD市場出貨量達23億片
用于智能手機、平板電腦及其他眾多移動電子產品的中小尺寸LCD顯示器,2010年世界市場將闊步前進,激增28.1%,出貨量達23億片,高于去年的增長10.3%(18億片),是2007年竄升49.8%后最近3年內增長最快的一年。市場調查公司iSuppli預計,2011年后市場將放慢腳步,2009~2014年間市場將以平均每年8.9%的速度前進,屆時出貨量可望達到27億片以上。
在iPhone的牽引下,2010年的智能手機出貨量將攀升35.5%,平板電腦更在Apple公司iPad的領跑下更大放異彩,熱力四射,預期將驚人增長790%。目前這些產品所用TFT-LCD顯示器為了加大視角、改善畫質、節省電能都將采用IPS(in-planeswitching)技術,所有廠商或聯合或自主都在開發這一技術以供應市場。此外,在Android智能手機興起的驅動下,AMOLED顯示技術或將發起挑戰。
半導體加工工藝走向15nm轉折點
世界上的巨型半導體企業如Intel和臺積電等將率先從2011年后啟動開發22nm以下的微細化量產技術,同時還都認為,2013年后可望量產化的15nm技術是半導體加工工藝發展道路上的一個轉折點。其表現為邏輯電路上現用的CMOS平面體管,將轉變為具有3維溝道導向的立體晶體管。這一轉變勢必嚴重影響未來各公司的微細化工藝競爭態勢。

對于晶體管技術界限,各公司至今還是未有明確的說法。但是,到15~14nm級時,作為LSI基本器件的CMOS晶體管預計將變為立體構造,11nm以后,則將使用Ge和Ⅲ-v族半導體開發高遷移率溝道,迄今一統的si材料早晚生變。至于工藝微細化的關鍵一一光刻技術,勢將加速采用EUV(遠紫外)和EB(電子束)光刻技術。