超凈高純電子化學試劑
——異丙醇制備方法

梁 凱

（黑龍江省化工研究院,黑龍江 哈爾濱 150078）

隨著半導體技術的迅速發展，對超凈高純試劑的要求越來越高。在集成電路（IC）的加工過程中，超凈高純試劑主要用于芯片及硅園片表面的清洗和刻蝕，其純度和清潔度對集成電路的成品率、電性能及可靠性有著十分重大的影響。超凈高純異丙醇作為一種重要的微電子化學品已經廣泛用于半導體、大規模集成電路加工過程中的清洗、干燥等方面。隨著IC的加工尺寸已經進入亞微米、深亞微米時代，對與之配套的超凈高純異丙醇提出了更高的要求，要求顆粒和雜質含量降低1～3個數量級，達到國際半導體設備和材料組織制定的SEMI-C12標準，其中金屬陽離子含量小于0.1×10-9，顆粒大小控制在0.5μm以下。

目前，超凈高純異丙醇通常是以工業級異丙醇為原料純化精致而成。精餾是工業化提純異丙醇的主要方法，包括共沸精餾、萃取精餾等。但是用于微電子化學品工業的超凈高純異丙醇對其中金屬雜質，顆粒大小含量和陰離子的要求十分苛刻，精餾工藝已經無法滿足要求。

現有文獻公布的超凈高純異丙醇的制備方法，以工業異丙醇為原料，以碳酸鹽調節pH值，加入脫水劑，進行回流反應，經精餾、蒸餾、膜過濾，得到符合國際半導體設備和材料組織制定的SEMI-C12標準的超純異丙醇。這一公開報道的制備方法無法穩定控制產品質量，特別是產品中金屬離子含量以及顆粒雜質大小。

本項目引進、吸收、消化俄羅斯的先進技術，克服現有技術的高純異丙醇產品質量不穩定，不能滿足超大規模集成電路加工要求的不足，提供一種工藝連續性強、分離效果好、純度高、雜質含量低的超凈高純異丙醇的制備方法及其裝置。……