【中國專利信息】

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編者注：本期刊登的是2010年11月份國家知識產權局公布的有關表面處理系列類專利信息。如需專利全文，請與我部聯系（聯系人：吳海玲；電話：020–61302516）。

離子液體氯化鎵/氯化1–甲基–3–乙基咪唑體系電鍍液

公開號 101876082

公開日 2010.11.03

申請人 沈陽師范大學

地址 遼寧省沈陽市沈北新區道義南大街8號

離子液體氯化鎵/氯化 1–甲基–3–乙基咪唑體系電鍍液的組成如下：無水氯化鎵(GaCl3)：420 ～ 450 g/kg，氯化1–甲基–3–乙基咪唑(EMIC)500 ～ 530 g/kg，金屬鎵(Ga)10 ～ 30 g/kg，糊精10 ～ 20 g/kg，氯化鈉(NaCl)10 ～ 20 g/kg。離子液體是一種綠色溶劑，具有較寬的電化學窗口，在室溫下即可得到在高溫熔鹽中才能電沉積得到的金屬與合金，但沒有高溫熔鹽那樣的強腐蝕性；同時，在離子液體中可以電沉積制得大多數在水溶液中得到的金屬，且無副反應，因而所得金屬的性能更好。離子液體的上述特性及其良好的導電率、低的蒸氣壓使之成為電沉積研究中嶄新的電鍍液。

一種離子液體電沉積溶液以及在該溶液中電沉積制備銥層的方法

公開號 101892498

公開日 2010.11.24

申請人 北京航空航天大學

地址 北京市海淀區學院路37號

本發明公開了一種離子液體電沉積溶液以及用其進行電沉積制備銥層的方法，所述的離子液體電沉積溶液由10 mL的三氯化鋁型離子液體中加入0.001 ～ 0.200 g無水三價銥鹽組成；或者是由10 mL的非三氯化鋁型離子液體中加入0.001 ～ 0.200 g無水三價銥鹽組成；有或是由 10 mL的三氯化鋁型離子液體中加入0.001 ～ 0.200 g無水三價銥鹽和1 ～ 20 mL乙二醇組成。本發明的電沉積制備銥層的技術方案是：在真空手套箱中的電沉積槽內加入離子液體電沉積溶液，用惰性材料作陽極，待電沉積材料作陰極，采用恒電流方式在70 ～ 120 °C下進行電沉積，從而在陰極材料表面獲得銥層。

無氰化學鍍金鍍液及無氰化學鍍金方法

公開號 101892473

公開日 2010.11.24

申請人 深圳市榮偉業電子有限公司

地址 廣東省深圳市龍崗區南聯簡二村下龍塘25號

本發明公開了一種無氰化學鍍金鍍液，主要成分為：蘋果酸7 ～20 g/L，EDTA-2Na 5 ～ 18 g/L，乳酸12 ～ 35 g/L，氨水20 ～ 45 g/L，防老化劑1 ～ 3 g/L，加速劑0.1 ～ 0.5 g/L，穩定劑0.1 ～ 0.5 g/L，檸檬酸金鉀1 ～ 4 g/L，鍍液的pH為5.0 ～ 5.2。采該鍍液用于鍍金時，溫度為89 ～ 93 °C，時間為7 ～ 30 min。本發明采用新的配方比例，并以無氰鹽類作為穩定劑，實現了電路板等制品的無氰化鍍金工藝，由于不使用氰鹽類物質，為鍍金工藝提供了一種新型的無公害、成本低的途徑，本發明的推廣應用具有極好的經濟效益和社會效益。

一種銅–鉻–鉬三元合金鍍層及其制備方法

公開號 101892502

公開日 2010.11.24

申請人 華南理工大學

地址 廣東省廣州市天河區五山路381號

本發明公開了一種銅–鉻–鉬三元合金鍍層及其制備方法。制備方法及步驟為：用蒸餾水將檸檬酸溶解，加入六水鉬酸鈉攪拌溶解，調節pH至1.5 ～ 3.3；再依次加入氯化鑭、硫酸銨和甲酸銨，調節pH至2.1 ～ 4.0；然后依次加入五水硫酸銅、六水硫酸鉻和硼酸，加入余下的蒸餾水，調節pH至2.0 ～ 3.8，得到電鍍液。將基材表面經磨光和化學清洗后，放入電鍍槽，浸漬在電鍍液中，在40 ～ 55 °C下電鍍沉積30 ～ 60 min，電鍍完畢后取出基材，沖洗，烘干，得到銅–鉻–鉬三元合金鍍層。本發明可根據具體要求改變表面合金成分，來提高表面硬度、強度和耐磨性能，而心部仍為高電導率和熱導率的Cu。

采用電沉積制備氟化鍶或稀土摻雜氟化鍶薄膜的方法

公開號 101892504

公開日 2010.11.24

申請人 浙江大學

地址 浙江省杭州市西湖區浙大路38號

本發明公開了一種采用電沉積制備氟化鍶或稀土摻雜氟化鍶薄膜的方法。包括如下步驟：1──用丙酮清洗ITO導電玻璃2 ～ 3次，再用去離子水將ITO導電玻璃放在超聲波清洗器里清洗10 ～ 30 min，接著將ITO導電玻璃放在10%的硝酸溶液中活化10 ～ 30 s，最后用去離子水清洗，待用；2——0.01 ～ 0.5 mol/L乙二胺四乙酸二鈉與鍶離子的配合物溶液中，加入抗壞血酸鈉，再加入氟化銨溶液，調節pH為6 ～ 9，得到電解液，待用；3──以ITO導電玻璃為工作電極，鉑電極為對電極，甘汞電極為參比電極，置于電解液中進行電沉積，相對于甘汞電極的陽極沉積電位為0.8 ～ 1.4 V，得到氟化鍶薄膜。本發明的優勢在于設備簡單，低成本，常壓低溫。除了適合于科學研究外，有望實現大規模工業化生產。

[ 編輯：周新莉 ]