劉立起
(中國電子科技集團公司第四十六研究所,天津300220)
第二代半導(dǎo)體材料砷化鎵(GaAs)材料可以分為半絕緣和半導(dǎo)體兩大類。半絕緣砷化鎵材料主要制作 MESFET、HEMT和HBT結(jié)構(gòu)的集成電路,主要用于手機、雷達、衛(wèi)星電視廣播、微波及毫米波通信、超高速計算機及光纖通信等領(lǐng)域。半導(dǎo)體砷化鎵材料主要應(yīng)用于半導(dǎo)體發(fā)光二極管(LED)、光通信有源器件(LD)、可見光激光器、近紅外激光器、量子阱大功率激光器和高效太陽能電池。
近年來隨手機、無線通信、LED照明和LED背光應(yīng)用市場快速擴大,促進了國內(nèi)砷化鎵襯底材料產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展。但是為了砷化鎵產(chǎn)業(yè)擴大,就必須解決砷化鎵多晶料合成的產(chǎn)量問題。由于砷化鎵是二元化合物,砷的蒸汽壓高,并且鎵、砷容易氧化,使得合成砷化鎵多晶就很不容易。砷化鎵多晶合成有4種:(1)水平布里奇曼法;(2)低壓氧化硼液封砷注入合成法;(3)高壓氧化硼液封直接合成法;(4)高壓無液封砷化鎵多晶合成法。最后一種是中國電子科技集團公司第三十六研究所獨創(chuàng)的合成方法。隨著本所摻硅半導(dǎo)體VB法GaAs單晶和GaAs液相外延(LPE)用砷化鎵多晶產(chǎn)品規(guī)模的擴大,原有的單臺臥式合成爐的產(chǎn)量已經(jīng)不能滿足生產(chǎn)的需要,同時,原有合成爐在使用過程中也暴露出許多設(shè)計上的缺陷,這些缺陷造成砷化鎵多晶合成操作和設(shè)備維護不易實現(xiàn)。在充分研究了原有的臥式合成爐的結(jié)構(gòu)和原理基礎(chǔ)上,根據(jù)現(xiàn)有高壓無液封砷化鎵多晶合成工藝要求,同時結(jié)合工藝操作人員對爐體改進設(shè)想,設(shè)計和制造出立式GaAs多晶合成爐。新型合成爐的密封結(jié)構(gòu)、傳感器位置、進排氣口徑、爐體的清潔等方面與原臥式合成爐相比都進行了改進。進而提升了爐體的可靠性、操作簡便性和工藝可重復(fù)性。在保證了合成料的一致性的同時,極大地提高了合成料的產(chǎn)量。
原臥式合成爐爐體是前后平面機構(gòu),側(cè)面為圓柱形結(jié)構(gòu),銅電極位于爐體后平面上,通過直角石墨電極板與石墨加熱器鏈接。圓柱形底面造成石墨系統(tǒng)放置不平穩(wěn),與電極板絕緣不能可靠保證。銅電極在多次合成過程中容易沉積砷揮發(fā)物,降低銅電極與爐體的絕緣。爐體側(cè)面進、排氣口高壓密封距離石墨系統(tǒng)太近,密封結(jié)構(gòu)容易砷沉積,同時合成時溫度也較高,造成了爐體密封高壓不可靠性。因爐體這種結(jié)構(gòu),造成改變合成坩堝尺寸、增大合成投料量不可執(zhí)行。
爐體的測溫熱電偶位于石墨系統(tǒng)軸心正下方,測溫點選擇在坩堝的底部,測溫桿高度遠高于石墨底座。造成了爐體的清潔和石墨系統(tǒng)的拆、裝不便,熱偶在清潔爐體和裝料過程中也很容易被損壞。熱電偶的安裝不良,會造成爐體的密封性不好和干擾檢測溫度的真實性。從而降低工藝可重復(fù)性、穩(wěn)定性。
合成時采用陶瓷熱解氮化硼坩堝,這種坩堝非常脆,在垂直坩堝壁的方向受很小力,就會造成坩堝壁的損壞,但順坩堝壁的方向可以承受較大力。操作人員通過雙手的食指、中指和拇指捏住坩堝上壁,順坩堝壁的方向雙手均勻用力裝、取砷化鎵料,很好保證氮化硼坩堝不受損。原爐體結(jié)構(gòu)和原有石墨系統(tǒng)造成裝取向上提起空間小(見圖1),同時要求坩堝向外平移。造成坩堝損壞的幾率非常大,也使裝、取砷化鎵料變得不容易。

圖1 原臥式GaAs多晶合成爐照片
為消除原合成爐存在以上缺陷,我們設(shè)計了一種立式合成爐,并且增加了爐體直徑和高度,其加熱器和坩堝同樣豎直放置(見圖2)。為以后合成工藝中增加投料量、增加合成料的高度留出了冗量。上爐體可整體升降,這樣爐體清潔變得容易了,石墨系統(tǒng)的安裝和裝、取合成料也變得簡單了。

圖2 新立式GaAs多晶合成爐照片
爐體按照Ⅱ類壓力容器設(shè)計,材質(zhì)0Cr18Ni9(304),爐體外形為鐘罩形式,爐體頂部和爐體側(cè)壁為整體結(jié)構(gòu),爐體內(nèi)部拋光,爐體內(nèi)部容積準300 mm×400 mm,爐體下口與底盤之間用法蘭連接,底盤平面上預(yù)留加熱電極孔一對、控溫熱偶孔一個、坩堝底部測溫孔一個、充/放氣共用孔一個。
爐體的升降采用推拉桿形式,使爐體平滑升降,當?shù)竭_適合高度時爐體可以在水平面上根據(jù)需要左右扭轉(zhuǎn),使得工藝人員在加裝GaAs料和加熱器等操作時得心應(yīng)手。
爐體下部留有抽真空管路,考慮防止砷沉淀物堵塞管路,真空泵和爐體之間加裝高壓截至閥,并能實現(xiàn)控制抽氣速率,在截止閥外設(shè)計有裝熱偶真空規(guī)管的安裝孔。在高壓截止閥與爐體之間的管路上,加裝安全閥、充氣孔、放氣孔和壓力表。
爐體工作最大壓力9.8MPa,爐體采用水冷方式進行冷卻,正常使用時,爐體外壁溫度不超過100℃;爐體內(nèi)部最高工作溫度≤1 400℃。
真空壓力范圍101 325~1 Pa;
微啟式安全閥,啟動點≥8.0 MPa安全啟動;
壓力表表盤準150 mm,量程:0~16 MPa,精度:0.05 MPa;
充氣限流閥充氣速率控制0.3MPa/m in;
要求爐體和電極冷卻水套耐壓壓力0.5 MPa;
每個冷卻支路安裝水流量計,流量可調(diào);
水壓表0~1.0 MPa,回水溫度低于50℃;
爐體漏氣速率:<0.025MPa/h;
爐體真空度要求:<10 Pa。
上爐體升降速率350 mm/m in,行程500mm。
電氣控制原理框圖見圖3。

圖3 電氣控制原理框圖
本控溫系統(tǒng)除了保證高精度的控制外,屬于典型傳統(tǒng)的控溫系統(tǒng)。
加熱電源的基本參數(shù):輸出直流電壓60 V,電流700 A。變壓器100 kVA。顯示電壓表0~80 V,電流表0~800 A。輸出電纜選用400mm2毛絲線塑膠電纜,所有測控儀表均選用國產(chǎn)宇電公司儀表,加熱器選用國產(chǎn)宇電AL-808P表進行溫度設(shè)定及控制,該儀表具備手動/自動無擾動切換功能、自整定功能(AT)及全新的精細控制功能。在7.0 MPa條件下最高加熱溫度1300℃±2℃。加熱器采用石墨加熱器,設(shè)有測溫及控溫2個熱電偶,利用控溫熱電偶實現(xiàn)閉環(huán)控制,而測溫熱電偶只起到一個溫度檢測作用。極端情況下(如控溫熱電偶在生產(chǎn)過程中間發(fā)生斷偶等意外問題時)測溫熱電偶完全可以完成GaAs多晶合成的任務(wù)。
六套冷卻水流量計控制冷卻水的流量,他們分別對合成爐外壁、爐體底盤上部、爐體底盤下部、一對加熱電極、直流電源變壓器、直流電源電極進行冷卻。冷卻系統(tǒng)的報警采用水壓報警控制,爐體水冷卻設(shè)有渦輪式水流量計進行信號回傳,變壓器電源水冷單獨設(shè)一路水源,串聯(lián)浮子流量計進行設(shè)定及控制。直流輸出電纜不加水冷。爐體及加熱電極水冷水流量傳感器前級要加裝機械式水壓表,以便于對前級主管路水壓進行觀察。水流量欠壓報警設(shè)兩級報警:水流量下下限報警時主電源將無法啟動,水流量下限報警時可能設(shè)備處于運行狀態(tài),此時報警只提醒工藝人員對水流量進行適當調(diào)節(jié)。特別說明:該設(shè)備是特種高壓設(shè)備,為安全起見不設(shè)報警消除開關(guān)!
真空系統(tǒng)采用機械泵抽空,并用高壓球閥隔離。用真空壓力變送器測量真空度。正負壓檢測采用壓力變送器進行測量,測量數(shù)據(jù)與二次儀表中的設(shè)定值進行對比判斷,異常情況時發(fā)出聲、光報警,同時在高壓管路中增加機械壓力表和高壓安全閥,作為第二高壓監(jiān)測點進行監(jiān)測和第三層安全防護,確保正常工作時不發(fā)生意外。
爐蓋升降部分采用螺旋升降機構(gòu),通過光軸及連接支架,實現(xiàn)爐蓋升降,并可旋轉(zhuǎn)>90°,便于裝料、取料、及加熱器的安裝、維修等。爐體升降采用點動式按鈕,行程上、下限有保護開關(guān)進行限位鎖定。
從2010年9月至2011年3月完成從設(shè)計到安裝和調(diào)試。合成爐體外形借鑒德國引進的Linn公司VGF爐,爐體升降借鑒美國引進的Linton公司的常壓單晶爐,爐體的電極部分的絕緣和密封借鑒Melbourne單晶爐電極結(jié)構(gòu),安全閥、壓力表和抽真空管路連接借鑒1985年我所制造的高壓砷化鎵單晶爐。綜合以上爐體優(yōu)點創(chuàng)新設(shè)計出新的砷化鎵合成爐爐體。委托天津市南洋兄弟石化設(shè)備有限公司制作耐壓9.8 MPa爐體。電氣部分采用Linton公司100 kV·A變壓器,設(shè)計控溫電路實現(xiàn)對爐體石墨加熱器溫度的控制。增加爐體溫度報警、抽真空控制等電路。
2011年4月開始裝料通過20爐體工藝調(diào)整實驗,同時改進了試用過程中電極高壓密封、熱偶的密封結(jié)構(gòu)。也穩(wěn)定了砷化鎵多晶合成工藝。至2011年11月20日,已運行合成323爐,合成砷化鎵質(zhì)量達到原合成爐水平,產(chǎn)量提高50%以上。新合成爐優(yōu)點:(1)爐體由臥式改為立式,電極從加熱器側(cè)連接變?yōu)闋t體底部,合成時電極不易沉積砷。(2)裝、取料時,電極、熱偶、加熱器完全暴露在視覺范圍之內(nèi)操作起來方便可行,沒有造成無意間損壞的擔心。(3)爐體石墨保溫罩放置穩(wěn)固可靠,有利于石墨系統(tǒng)的絕緣。(4)爐體充氣針閥優(yōu)于原爐體的充氣控制閥。(5)電氣控制的設(shè)計更加完善,操作簡便,故障率極低。
整個設(shè)備由三部分組成:主體設(shè)備部分、電源部分、控制柜部分。占用場地相對較小,適合各種工作場地安裝使用。整體造價低廉適合各種大中小型企業(yè)購買。
設(shè)備全圖見圖4

圖4 砷化鎵多晶合成設(shè)備全圖
該設(shè)備最大的優(yōu)點是工作面較低,裝、取料過程操作非常方便,加熱體、測溫熱偶、保溫結(jié)構(gòu)等它們之間相對位置合理,所以工藝人員在操作工程中得心應(yīng)手,幾乎不可能造成因誤操作而損壞,從而保證了工藝過程的安全性、重復(fù)性和可靠性,質(zhì)量得以保證;產(chǎn)量得以增加;經(jīng)濟效益得以提高。
從控制方面講由于選用了可靠的溫控儀表,整個生產(chǎn)工藝過程可以用程序段進行自動控制,全過程無需人為管理。操作簡單無需培訓,各種參數(shù)顯示清晰明了,是一臺非常實用的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)設(shè)備。