英特爾與ASML加速開發下一代半導體關鍵制造技術

7月9日，英特爾公司宣布與ASML控股公司簽署一系列價值總計33億歐元（約41億美元）的協議，以加速450mm晶圓技術和超紫外線（EUV）光刻技術的開發，力爭提前兩年實現支持這些技術的光刻設備的產業化應用，從而為半導體制造商大幅降低成本并提高生產力。

為了實現這些目標，英特爾加入了一個多方開發計劃，包括為ASML的相關研發項目提供現金支持以及對ASML進行股權投資。在該計劃的第一階段，英特爾承諾提供5.53億歐元（約6.8億美元）的研發資金幫助ASML加快450mm制造工具的開發和交付，以及17億歐元（約21億美元）的股權投資用以購買大約10%的ASML交易前流通股。英特爾投入的研發資金將被計入研發費用開支以及未來機臺交付的預付款。

這項計劃的第二階段需要得到ASML股東的批準，包括英特爾對ASML增加2.76億歐元（約3.4億美元）的研發投資用于加快EUV技術的開發，以及8.38億歐元（約10億美元）用于購買另外5%的ASML交易后流通股。

通過這項計劃，英特爾將持有總計15%的ASML流通股，股權投資總計25億歐元（約31億美元）。作為雙方協議的一部分，英特爾還承諾預先采購ASML 450毫米和EUV研發與生產機臺。