乳膠源硼擴散的SENTAURUS模擬

劉 劍，宋玲玲

（中國電子科技集團公司第四十七研究所，沈陽110032）

乳膠源硼擴散的SENTAURUS模擬

劉 劍，宋玲玲

（中國電子科技集團公司第四十七研究所，沈陽110032）

利用半導體TCAD工具Sentaurus對硅片的乳膠源摻硼擴散工藝進行模擬，用淀積后的退火處理過程替代注入后退火的模擬方案，以多種實測條件為標準，用兩種條件進行模擬，并結合實測數據，對模型結果進行比較，找到模擬的最終可行方案，彌補Sentaurus軟件功能模塊上的不足。

乳膠源硼擴散；SENTAURUS模擬；半導體TCAD；Sentaurus Process模塊

1 引 言

Sentaurus TCAD是對半導體工藝過程進行計算機仿真模擬的重要工具；乳膠源旋涂硼擴散法是半導體工藝線上常用的固態源擴散手段之一。然而現有版本的Sentaurus軟件皆以“注入＋擴散”為實現硅摻雜的主要方式，并不包含乳膠源擴散的模型及語句。鑒于此，本文將嘗試利用介質材料摻雜的近似方法，將兩者結合起來，找到一種可以用Sentaurus對乳膠源硼擴散工藝進行模擬的方案，以便在實際生產研發過程中降低新工藝的實驗成本。

2 一組乳膠源硼擴散實例以及模擬建模的考慮

表1是一組實測數據，最終目標值范圍為：方阻大約50～200Ω／，結深大約1.5～3.0μm，這反映了半導體制造過程中的常見工藝要求。其實現工藝是先采用乳膠旋涂（硼源），然后進行預擴散、再擴散二次退火實現最終結果。

從結果來看，采用這種方法實現的擴散，具有濃度大、溫度低、時間短的特點，這是“注入＋擴散”方法所難以達到的。由于Sentaurus軟件當中不存在乳膠源的語句，為了達到模擬目的，必須借助于現有的“摻雜淀積＋退火”模型，用語句中包含的其他材料來代替作為硼摻雜源的有機乳膠液。

表1 一組隨機選取的有代表性的實測數據

3 模擬近似方案及程序語句

在Sentaurus軟件的工藝模塊Sentaurus Process當中，可以在模擬淀積工藝的同時指定其摻雜條件。考慮到本文針對的實例為硅基摻雜，此處近似模擬采用二氧化硅、多晶硅兩種淀積方案。具體程序語句如下：

具體模擬過程在Workbeach界面中的分段參數及模擬結果如圖1所示。

圖1 參數及模擬結果

在此次模擬過程中，乳膠源旋涂厚度采用光刻模擬中常用的 3μm，單晶片襯底的電阻率為3Ω·cm，皆與實測數據所在實驗的取值相同。退火條件也是嚴格按照實際的工藝條件設置。唯一要反復調試的，只有淀積材料中的雜質含量，此處直接以單位體積濃度的形式給出，并根據最終的方阻、結深的結果進行增減，圖中的取值即為反復賦值調試之后得出的。

4 模擬結果與實測數據的對比

從表2中可以看到，通過賦予不同的初始濃度值，用二氧化硅淀積法與多晶硅淀積法所模擬出的結果方阻大致相同，結深相差極小，這兩種方法基本上可以互為替換、等效使用。

表2 兩種模擬方案的結果與實測方案的對比

二者的模擬結果在不同數值方向上與實測值符合的程度略有不同，但對實測值的接近程度都在可以接受的范圍之內。

5 結束語

實際可行的模擬方案如上所述，在Sentaurus軟件無法直接實現乳膠源擴散模擬的情況下，利用“摻雜淀積＋退火”的方式，完全可以實現近似的模擬。本文給出的實測值來自于特定的生產條件，最終確定此生產條件所用的乳膠源相當于摻雜濃度為5.1×1022cm-3的二氧化硅，或是摻雜濃度為6× 1021cm-3的多晶硅，模擬結果與實測結果在給定的范圍內基本符合，可以滿足模擬需要。對于其他生產線，由于所用源材與生產條件的差異，摻雜濃度必然與本文不同，但本文所述的近似模擬的整體方法將仍然適用，可通過此法尋找其特有的介質濃度值，以供日后模擬使用。

［1］韓雁，丁扣寶.半導體器件TCAD設計與應用［M］.北京：電子工業出版社，2013.3.

［2］Synopsys公司.Sentaurus Process User Guide手冊F-2011.09版［Z］.Synopsys公司，2011.9.

A SENTAURUS Simulation for Emulsion Boron Diffusion

LIU Jian，SONG Ling-ling
（The 47th Research Institute of China Electronics Technology Group Corporation，Shenyang 110032，China）

By means of Sentaurus TCAD，a Boron diffusion process with emulsion source is simulated.The anneal after deposition step is used instead of themethod of implantion.Combining with the various of practical results of the process，a feasible method，compensating for the lack of the function，is found to simulate emulsion boron diffusion for.

Emulsion boron difusion；Sentaurus TCAD；Sentaurus Process

10.3969／j.issn.1002-2279.2014.05.006

TN4

：A

：1002-2279（2014）05-0016-02

劉劍（1982-），男，吉林通化人，學士學位，工程師，主研方向：大規模集成電路。

2013-11-12