新型單反射面緊縮場(chǎng)數(shù)控饋源支架系統(tǒng)

譚龍慶，羅紅宇，李東升

（北京航空航天大學(xué) 機(jī)械工程及自動(dòng)化學(xué)院，北京 100191）

0 引言

緊縮場(chǎng)［1］采用精密反射器，將點(diǎn)源產(chǎn)生的球面波在近距離內(nèi)變換為平面波，從而滿足遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)試要求［2］，可用于飛機(jī)、導(dǎo)彈、坦克等的雷達(dá)散射截面（RCS）、機(jī)載天線性能及衛(wèi)星整星測(cè)試，尤其應(yīng)對(duì)隱身戰(zhàn)斗機(jī)的隱身性能檢測(cè)和高性能雷達(dá)等重要環(huán)節(jié)。

單反射面緊縮場(chǎng)作為常用緊縮場(chǎng)設(shè)計(jì)方案，其主要由暗室、吸波材料、高精度旋轉(zhuǎn)拋物面反射器、高精度轉(zhuǎn)臺(tái)、低反射支架和饋源系統(tǒng)等組成。根據(jù)單反射面緊縮場(chǎng)的工作原理，饋源相位中心必須應(yīng)精確定位在高精度反射面的旋轉(zhuǎn)拋物面焦點(diǎn)處，且饋源按指定偏饋角放置。隨著緊縮場(chǎng)測(cè)試頻率不斷提高和靜區(qū)尺寸的不斷擴(kuò)大，對(duì)饋源定位精度要求越來(lái)越高，饋源支架對(duì)緊縮場(chǎng)靜區(qū)電性能的影響逐漸增加［3］。

在北京航空航天大學(xué)研制的某緊縮場(chǎng)系統(tǒng)中，饋源系統(tǒng)具有單饋源（單一饋源且相位中心位于旋轉(zhuǎn)拋物面焦點(diǎn)）和雙饋源（兩饋源相位中心對(duì)稱(chēng)位于旋轉(zhuǎn)拋物面焦點(diǎn)兩側(cè)）兩種工作模式，并且需要頻繁更換饋源的水平極化狀態(tài)和垂直極化狀態(tài)。使用雙饋源時(shí)不同頻段的饋源要求兩饋源間距不同，還需要饋源實(shí)現(xiàn)定速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。目前國(guó)外林肯實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)研制出全自動(dòng)饋源支架，可實(shí)現(xiàn)饋源自動(dòng)切換和饋源極化狀態(tài)的自動(dòng)切換等功能［4］。根據(jù)系統(tǒng)設(shè)計(jì)要求，在更換饋源、改變饋源極化狀態(tài)、調(diào)整饋源……