吳進東
(皖西學院,安徽六安237012)
溫度是植物生長的必要條件,然而低溫卻是限制植物生長的重要因素。低溫脅迫會導致植物生物膜透性增大、活性氧(ROS)積累引起氧化脅迫。植物可以通過調節抗氧化酶活性和積累滲透調節物質來增強抗逆性[1-2]。
霍山 石 斛(Dendrobium huoshanense Tang et Cheng),為蘭科石斛屬多年生草本植物,產于大別山區安徽霍山及鄰近地區,為中藥石斛中的上品。其含有人體所需的多種有益成分,具有抗腫瘤、抗衰老、增強機體免疫力等作用[3]。霍山石斛對生態環境要求嚴格,生長適溫為18~32 ℃,最適生長期溫度為25 ℃左右,在5 ℃以下或35 ℃以上會停止生長[4]。研究表明,金釵石斛在25℃條件下植株長勢最佳[5],鐵皮石斛在20 ℃具有更高的多糖含量[6]。霍山及鄰近地區冬季易遭遇低溫,探尋緩解霍山石斛低溫脅迫的有效途徑是其科學栽培生產中的當務之急。通過噴施植物生長調節劑提高植物抗冷性措施在生產上已得到了廣泛應用。張艷嫣等[7]發現外源硒可以提高鐵皮石斛幼苗的抗寒性;胡春霞[8]指出多效唑、6-芐基嘌呤可以提高南果梨苗木抗寒性;羅立津等[9]報道脫落酸對甜椒幼苗抗寒性有誘導效應。油菜素內酯(brassinosteroids,BR)具有極強生理活性,在促進作物生長,提高產量,改善品質,增強抗逆性等方面具有顯著效應[10-12]。
目前,有關霍山石斛的研究主要集中在種苗繁殖 與栽培技 術[13-14]以 及 藥 效 成 分 分 析[15-16]等 方 面,有關利用外源物質調控霍山石斛抗逆性的研究報道不多,BR 對低溫脅迫下霍山石斛抗冷性影響的研究未見報道,因此本試驗開展了這方面的研究,以期為霍山石斛的科學栽培管理提供理論參考。……