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冶金法制備太陽(yáng)能級(jí)硅研究

2016-05-14 18:08:07孫坤澤

孫坤澤

摘 要:能源危機(jī)和環(huán)境污染的雙重壓力導(dǎo)致世界各個(gè)國(guó)家對(duì)于新能源的探索和研究,太陽(yáng)能作為一種清潔能源,得到了世界廣泛重視與支持。這幾年,太陽(yáng)能硅電池的快速發(fā)展帶來(lái)了巨大的多晶硅需求,冶金法制備太陽(yáng)能級(jí)多晶硅具有低投資,低成本,較短能源收回期,無(wú)污染的特點(diǎn)。文章主要研究冶金法制備太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的工藝,實(shí)驗(yàn)考查各種不同工藝的參數(shù)。

關(guān)鍵詞:太陽(yáng)能級(jí)硅;冶金法;造渣精煉;酸洗;真空熔煉;定向凝固

中圖分類號(hào):TG146 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1006-8937(2016)20-0179-02

1 概 述

1.1 太陽(yáng)能電池材料

半導(dǎo)體材料具有很多獨(dú)特的性能:電阻率特性:①它的電阻率對(duì)溫度,磁場(chǎng),壓力,雜質(zhì)濃度等因素非常敏感,可以被人為的進(jìn)行調(diào)控;②導(dǎo)電特性:即有兩種導(dǎo)電的載流子,一種是帶負(fù)電荷的電子,一種是帶正電荷的空穴;③負(fù)的電阻率溫度系數(shù),它的電阻率和溫度成反比,這點(diǎn)剛好和金屬相反;④整流特性:即可以有電子導(dǎo)電的n型半導(dǎo)體和以空穴導(dǎo)電的p型半導(dǎo)體,組成p-n結(jié),實(shí)現(xiàn)單向?qū)щ姡虎莨怆娞匦裕茨茉谔?yáng)光在照射下產(chǎn)生光生電荷載流子效應(yīng)。

1.2 太陽(yáng)能多晶硅的制備方法

太陽(yáng)能硅多晶硅的主要制備方法有西門(mén)子法[11,12],硅烷法[13]、流化床法[14]和冶金法[15,16],其中西門(mén)子法占據(jù)了80%以上的市場(chǎng)份額[17]。

1.3 冶金法太陽(yáng)能硅技術(shù)綜述

①工業(yè)硅精制;②濕法提純;③吹氣造渣精煉;④真空精煉(含電子束精煉;⑤定向凝固;⑥等離子體氧化精煉;⑦合金法;⑧高純炭和高純硅還原技術(shù)。

2 冶金法提純工業(yè)硅的研究

2.1 造渣氧化除硼的研究

2.1.1 實(shí)驗(yàn)原料

本實(shí)驗(yàn)采用的原料為精制過(guò)的高純工業(yè)硅,通過(guò)電感耦合等離子發(fā)射光譜(ICP-AES)檢測(cè)。

2.1.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備、研究流程圖及步驟

實(shí)驗(yàn)研究采用中頻感應(yīng)爐作為精煉設(shè)備,石墨坩堝作為熔化坩堝,氧氣作為氧化性氣體,電感耦合等離子發(fā)射光譜(ICP-AES)。

2.1.3 渣金比的影響

本實(shí)驗(yàn)對(duì)渣金比進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)對(duì)比。 參數(shù)選堿度(CaO/SiO2)為1,反應(yīng)時(shí)間30 min和1 600 °C,通氣時(shí)間選擇15 min,對(duì)比不同的渣金比對(duì)于雜質(zhì)的影響。

實(shí)驗(yàn)測(cè)試結(jié)果發(fā)現(xiàn),后續(xù)的研究將主要把硼作為主要考慮對(duì)象。

2.1.4 渣系酸堿度對(duì)于除硼的影響

在造渣過(guò)程中,酸堿度是衡量渣性能的重要指標(biāo),CaO為堿性物質(zhì),SiO2酸性物質(zhì),兩者比例代表了渣中的酸堿度,考慮酸堿度對(duì)于除硼的影響,采用CaO/SiO2作為指標(biāo),進(jìn)行下面的實(shí)驗(yàn),渣金比取1,反應(yīng)時(shí)間30 min和1 600 °C,通氣時(shí)間選擇 15 min。

得出實(shí)驗(yàn)后續(xù)選擇的堿度為1。

2.1.5 反應(yīng)時(shí)間對(duì)于除硼的影響

反應(yīng)時(shí)也是很重要的一個(gè)因素,實(shí)驗(yàn)條件取渣金比為1,堿度為1,通氣時(shí)間15 min,溫度為1 600 °C的情況下,對(duì)除硼效果進(jìn)行考察。得出實(shí)驗(yàn)后續(xù)取20 min作為反應(yīng)時(shí)間。

2.1.6 通氣時(shí)間對(duì)于除硼的影響

通氣在本實(shí)驗(yàn)中,主要的作用是為熔體提供足夠的氧離子,起到攪拌的作用,使得渣和硅在熔體中更加充分接觸。

實(shí)驗(yàn)條件取渣金比為1,堿度為1,溫度為1 600 °C,反應(yīng)時(shí)間選擇20 min的情況下,考察通氣時(shí)間對(duì)于除硼效果的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果得出實(shí)驗(yàn)采用10 min作為通氣時(shí)間。

2.1.7 溫度對(duì)于除硼的影響

溫度提高,擴(kuò)散的速度加快,有利于硼在金屬硅和渣中界面的擴(kuò)散,但是隨著溫度的升高,硅的損耗加大,設(shè)備的損耗也加大,所以有必要對(duì)反應(yīng)溫度做一個(gè)參數(shù)實(shí)驗(yàn)。

實(shí)驗(yàn)條件:渣金比選擇1,堿度1,時(shí)間20 min,通氣時(shí)間選擇10 min;得出,取1 550 ℃作為我們后續(xù)的溫度。

2.1.8 小 結(jié)

通過(guò)上述參數(shù)實(shí)驗(yàn),原料為含1.0 ppmw硼的硅,本實(shí)驗(yàn)采用渣金比為1,堿度為1,反應(yīng)時(shí)間為20 min,通氣時(shí)間為10 min,溫度1 550 °C,通過(guò)中頻爐熔煉,可以把硼降低到0.3 ppmw,符合太陽(yáng)能級(jí)多晶硅對(duì)于元素硼的要求。

2.2 濕法提純工業(yè)硅的研究

2.2.1 實(shí)驗(yàn)原料

本實(shí)驗(yàn)采用的原料為2.1造渣過(guò)的工業(yè)硅,通過(guò)電感耦合等離子發(fā)射光譜(ICP-AES)檢測(cè)。

實(shí)驗(yàn)采用的鹽酸,氫氟酸,硝酸,雙氧水等均采用分析純,清洗用的水為去離子的蒸餾水。

2.2.2 實(shí)驗(yàn)參數(shù)研究及數(shù)據(jù)分析

①不同類型酸對(duì)提純的影響。

綜合文獻(xiàn)資料及硅的性質(zhì),于是分別選取HF,HCl,HNO3作為考慮的酸的類型,同時(shí)對(duì)他們進(jìn)行組合,包括王水,HCl和HF混合溶液。并且同時(shí)考慮引入強(qiáng)氧化劑H2O2進(jìn)行研究,為了生產(chǎn)流程的需要,采用造渣后的硅作為原料,固液比去1:3,反應(yīng)時(shí)間為3 h,硅粉粒度取100~200目,溫度為常溫(20 °C)。

可以得到以下結(jié)論:

第一,在單酸或者混酸的處理中,HCl(15%)+HF(5%)具有很好的浸出效果,鐵和鈣的去除效率分別達(dá)到了98.4%和99.87%,具有較大的去除效率;

第二,H2O2的加入,對(duì)反應(yīng)的改善沒(méi)有明顯的效果,后續(xù)的實(shí)驗(yàn)將主要考慮HCl+HF混合溶液,同時(shí)考慮到酸洗對(duì)于硼,磷,鋁的影響不大,后續(xù)的實(shí)驗(yàn)將對(duì)鐵,鈣作為主要的考察對(duì)象。

②HCl濃度對(duì)雜質(zhì)去除效果的影響。

濕法浸出需要對(duì)酸的濃度進(jìn)行考察。首先對(duì)HCl的濃度進(jìn)行參數(shù)實(shí)驗(yàn),取的實(shí)驗(yàn)條件為HF濃度為5%,固液比去1:3,反應(yīng)時(shí)間為3 h,硅粉粒度取100~200目,溫度為常溫(20 ℃)。當(dāng)HCl濃度為10%時(shí),F(xiàn)e,Ca含量趨向于穩(wěn)定。

③硅粉粒度對(duì)雜質(zhì)去除效果的影響。

④固液比對(duì)雜質(zhì)去除效果的影響。

取實(shí)驗(yàn)條件為HCl為10%,HF濃度為3%,硅粉粒度取80-200目,反應(yīng)時(shí)間為3h,溫度為常溫(20℃),進(jìn)行不同的固液比實(shí)驗(yàn)。

當(dāng)固液比為1:1的時(shí)候,由于大量氣體的產(chǎn)生,使得固液混合物膨脹,硅粉懸浮在固液混合物中,液面上浮嚴(yán)重,在反應(yīng)完成后,發(fā)現(xiàn)攪拌槳發(fā)生斷紋,這主要由于其負(fù)荷大,攪拌阻力大的緣故。

在固液比大于1:4的時(shí)候,F(xiàn)e,Ca去除效果最好,但是由于酸量較大,對(duì)成本環(huán)境不利,我們采用更加適合的固液比1:2。

⑤反應(yīng)時(shí)間對(duì)雜質(zhì)去除效果的影響。

取的實(shí)驗(yàn)條件為HCl濃度為10%,HF濃度選擇5%,固液比去1:2,硅粉粒度取80~200目,溫度為常溫(20 °C)

在同等條件下,當(dāng)反應(yīng)時(shí)間為2 h時(shí),鐵,鈣含量趨向于穩(wěn)定。

2.3 真空熔煉去除雜質(zhì)磷的研究和運(yùn)用

2.3.1 實(shí)驗(yàn)原料

本實(shí)驗(yàn)采用的原料為2.2酸洗后的工業(yè)硅,通過(guò)電感耦合等離子發(fā)射光譜(ICP-AES)檢測(cè)。

2.3.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備、研究流程圖及步驟

本實(shí)驗(yàn)采用的真空中頻感應(yīng)爐作為研究設(shè)備,高純等靜壓石墨作為坩堝,額定功率60 kW,頻率3 000 Hz,泵的配置為旋片泵,羅茨泵,擴(kuò)散泵;冷態(tài)真空度可以達(dá)到1×10-3 Pa,預(yù)計(jì)熱態(tài)真空度可以在6.7×10-2以下。

2.3.3 實(shí)驗(yàn)參數(shù)的研究及數(shù)據(jù)分析

①真空度,溫度對(duì)真空除磷的影響。

對(duì)于真空感應(yīng)設(shè)備而言,因?yàn)闇囟壬撸婵論]發(fā)加大,影響真空度,所有無(wú)法單獨(dú)對(duì)溫度和真空度對(duì)于除磷效果的影響進(jìn)行參數(shù)研究,只能通過(guò)調(diào)整功率的方式控制溫度,溫度采用紅外測(cè)溫。

②實(shí)驗(yàn)條件為熔煉時(shí)間為化料后3 h,無(wú)添加劑。經(jīng)過(guò)2.2的濕法提純步驟,金屬元素達(dá)到了預(yù)期要求,后續(xù)的研究主要針對(duì)磷進(jìn)行研究。

實(shí)驗(yàn)的后續(xù)控制的溫度范圍為1 600 °C左右。

熔煉時(shí)間對(duì)真空除磷的影響。

精煉時(shí)間過(guò)短,磷沒(méi)有充分的揮發(fā),磷含量在熔煉3 h后基本上趨向于穩(wěn)定,而隨著時(shí)間的推移,硅的收率不斷的下降,綜合成本等考慮因素,本實(shí)驗(yàn)取熔煉時(shí)間為3 h。

③添加劑對(duì)真空除磷的影響。

加入1%的SiO2,溫度控制1 600 ℃,反應(yīng)時(shí)間3 h。但是實(shí)際操作中,當(dāng)溫度在1 600 ℃時(shí),硅液和底部的SiO2反應(yīng),生成SiO,SiO氣體擴(kuò)散到表面,造成飛濺嚴(yán)重,實(shí)驗(yàn)只能降低功率到 40 kW,溫度保持在1 500 ℃左右。由于揮發(fā)嚴(yán)重,SiO大量產(chǎn)生,真空度降低到0.3 Pa左右。處理3 h后,樣品的磷含量為 3.6 ppmw,沒(méi)有達(dá)到預(yù)期效果,同時(shí)硅的收率也只有84%。

所以盡管效果不好,但是添加劑對(duì)攪拌的良好作用將來(lái)在我們新的設(shè)備上值得考慮。

2.4 定向凝固提純硅的研究

2.4.1 實(shí)驗(yàn)原料

本實(shí)驗(yàn)采用的原料為2.3真空熔煉后的工業(yè)硅,通過(guò)電感耦合等離子發(fā)射光譜(ICP-AES)檢測(cè)。

研究的設(shè)備為某公司生產(chǎn)的450 kg定向凝固爐,其凝固速度為(10~15 mm/min),下文的研究主要針對(duì)不同位置的雜質(zhì)含量進(jìn)行研究。整個(gè)工藝過(guò)程分為裝料,抽真空,檢漏,加熱,熔化,長(zhǎng)晶,退火,冷卻。

2.4.2 定向凝固提純硅的研究

實(shí)驗(yàn)將鑄錠完成后的錠切開(kāi)后,分別取整個(gè)錠高度由下往上10%,30%,50%,70%,90%的位置進(jìn)行分析。 發(fā)現(xiàn),在70%的位置處,硅粉的金屬元素都到了檢測(cè)下限,而在90%的位置處,除了鋁含量在0.11 ppmw之外,其他的位置的金屬都在檢測(cè)下限,硼磷值由于其分凝系數(shù)接近1,降低較少。

根據(jù)上述,后續(xù)定向凝固的頂部去除高度選擇10%高度處。 3 結(jié)論與展望

①采用CaO-SiO2體系,渣金比為1,堿度為1,反應(yīng)時(shí)間為 20 min,溫度1 550 ℃,可以把硼從1 ppmw降到0.3 ppmw左右。

②濕法處理,采用HCl-HF體系,鹽酸濃度為10%,氫氟酸濃度選擇5%,固液比去1:2,硅粉粒度取80-200目,反應(yīng)時(shí)間為 2 h,溫度為常溫(20 ℃),鐵,鈣的去除效率都達(dá)到了97%,99%以上,同時(shí)硼,磷,鋁值的變化不大。

③把溫度控制在1 600~1 610 ℃之間,真空度保持在0.2 Pa以下,熔煉時(shí)間在3 h,可以把磷從8.1 ppmw降到小于0.1 ppmw,去除效率達(dá)到了98%以上,但是同時(shí)硅的損失也在10%左右。

④定向凝固,作為一種金屬高效的去除方式,可以深度去除對(duì)太陽(yáng)能有害的金屬元素。

⑤通過(guò)以上的流程,生產(chǎn)的冶金法太陽(yáng)能級(jí)多晶硅,滿足了太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)對(duì)硅的需求。

⑥太陽(yáng)能的各種雜質(zhì)都可以在冶金法中得到去除,冶金法作為一個(gè)低能耗,低成本,低 投入的綠色的方法,在未來(lái)的太陽(yáng)能級(jí)多晶硅生產(chǎn)中,必將占有一席之地。

參考文獻(xiàn):

[1] 伍繼君,馬文會(huì),謝克強(qiáng),等.冶金法制備太陽(yáng)能級(jí)硅研究進(jìn)展[J].昆明理 工大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版),2012,(5).

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