氣流控制裝置

授權(quán)公告號(hào)：CN205319132U

授權(quán)公告日：2016.06.15

專利權(quán)人：昆山國(guó)顯光電有限公司

地址：215300江蘇省蘇州市昆山市開(kāi)發(fā)區(qū)龍騰路1號(hào)4幢

發(fā)明人：朱琨；鐘立華；王冰；陳亮；王石

Int. Cl.：H01L21/67（2006.01）I

摘要：本實(shí)用新型提供一種氣流控制裝置，本實(shí)用新型的氣流控制裝置，包括氣體輸送構(gòu)件和噴頭；噴頭包括腔體和多個(gè)噴嘴；腔體上設(shè)置有進(jìn)口端，氣體輸送構(gòu)件上設(shè)置有出口端，所述進(jìn)口端與所述出口端連通，噴嘴設(shè)置在腔體的外殼上遠(yuǎn)離所述進(jìn)口端的一側(cè)，且均與腔體相通，每個(gè)噴嘴與出口端的軸心線均呈0-90°的夾角設(shè)置，且所有所述噴嘴將氣體噴射在平面的面積大于所述出口端在所述基板平面的投影面積。采用本實(shí)用新型的技術(shù)方案，能夠減少整個(gè)基板的表面上HMDS氣體的擴(kuò)散區(qū)，使HMDS氣體噴向基板的表面時(shí)，與基板的表面有足夠的接觸力，從而很容易附著在基板上，進(jìn)而在該基板涂布光刻膠時(shí)，增強(qiáng)了光刻膠與基板的粘合度，使光刻膠不易從基板上剝離。