諸葛曉春 周宏



【摘要】本文以15萬(wàn)噸/年離子膜燒堿項(xiàng)目配套的氫氣處理及輸送系統(tǒng)為例,闡述DCS系統(tǒng)對(duì)生產(chǎn)及輸送易燃易爆物質(zhì)的工況進(jìn)行最優(yōu)控制,避免事故的產(chǎn)生。
【關(guān)鍵詞】氫氣處理;DCS控制系統(tǒng);組態(tài)
一、工藝流程簡(jiǎn)介
來自于離子膜電解工序的濕H2通常在85℃,并帶有堿霧等雜質(zhì),需要從氫冷塔的底部進(jìn)入,與塔內(nèi)冷卻水接觸,使得高位水蒸氣冷凝,并凈化堿霧。冷卻后的氫氣進(jìn)入液環(huán)式氫壓機(jī)組進(jìn)行增壓,加壓后的氫氣壓力約在0.01MPa,溫度約在40℃。此時(shí)的氫氣中仍帶有部分水汽,需進(jìn)入汽水分離器。分離后,水進(jìn)入到潔凈水回收池中待用;氫氣則通過分配臺(tái)去往下一工序。
二、控制系統(tǒng)的要求
在此生產(chǎn)過程中,為了使電解槽氫氣壓力處于穩(wěn)定狀態(tài),需在氫氣分配臺(tái)分配出一路回流氫氣到氫壓機(jī)進(jìn)口總管,當(dāng)系統(tǒng)壓力波動(dòng)無(wú)法通過調(diào)節(jié)閥及時(shí)調(diào)整時(shí),可突破正壓水封,釋放壓力。因此需對(duì)氫氣的回流、放空壓力,氫冷塔液位,正壓水封的液位、氫壓機(jī)組汽水分離器的液位等參量用現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)儀表進(jìn)行檢測(cè),并按照工藝給定的參數(shù)加以實(shí)時(shí)控制,以保證電解工序與本工序氫氣壓力穩(wěn)定,避免易燃易爆介質(zhì)溢出,造成事故。
三、DCS系統(tǒng)配置
1、硬件部分
本項(xiàng)目的DCS系統(tǒng)采用的是橫河公司的CS3000系統(tǒng)(FIO型)。該系統(tǒng)硬件部分配置了1臺(tái)現(xiàn)場(chǎng)控制站FCS(Field Control Station),1臺(tái)工程師站ENG(Engineering Station),2臺(tái)人機(jī)界面站HIS(Human Interface Station)以及一套UPS電源,通信總線Vnet。
1.1人機(jī)界面站(HIS)
人機(jī)界面站即操作站主要功能是為了讓操作人員在生產(chǎn)流程圖上快速地了解生產(chǎn)運(yùn)行中的各參數(shù)當(dāng)前值、系統(tǒng)運(yùn)行狀況、是否有異常發(fā)生和報(bào)警的顯示等。……