中國成為全球第二大專利布局目標(biāo)市場

中國成為全球第二大專利布局目標(biāo)市場

近日發(fā)布的《全球?qū)＠麆?chuàng)新活動研究報(bào)告2016》顯示，中國已成為僅次于美國的專利布局目標(biāo)市場。日本、美國高度關(guān)注中國市場，兩國在華授權(quán)發(fā)明專利份額約占整個(gè)中國市場授權(quán)量的1/5。

報(bào)告顯示，2012年至2015年，在世界知識產(chǎn)權(quán)組織劃分的35個(gè)技術(shù)領(lǐng)域中，中國在測量、有機(jī)精細(xì)化學(xué)等13個(gè)技術(shù)領(lǐng)域中的發(fā)明專利授權(quán)量位居第一。

報(bào)告指出，在成為僅次于美國的全球第二大專利布局目標(biāo)市場的形勢下，我國的專利技術(shù)創(chuàng)新仍面臨挑戰(zhàn)，專利數(shù)量與質(zhì)量不協(xié)調(diào)、專利技術(shù)創(chuàng)新的區(qū)域發(fā)展不平衡等難題亟待解決。報(bào)告為我國市場的專利技術(shù)創(chuàng)新活動提出參考建議：一是堅(jiān)持政策扶持和戰(zhàn)略引領(lǐng)，提升我國技術(shù)創(chuàng)新質(zhì)量。二是鼓勵各地基于地區(qū)優(yōu)勢有針對性地進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新和專利布局。三是提倡產(chǎn)業(yè)界和學(xué)界深入交流和合作研發(fā)，共同推進(jìn)專利產(chǎn)學(xué)研結(jié)合。四是優(yōu)化新形勢下我國專利信息工作，為專利技術(shù)創(chuàng)新提供支撐。

《全球?qū)＠麆?chuàng)新活動研究報(bào)告》是國家知識產(chǎn)權(quán)局“基于專利信息全球技術(shù)創(chuàng)新活動研究”專題課題組的重大研究成果，自2014年首次發(fā)布以來，為了解和掌握全球主要國家特別是中國的專利創(chuàng)新活動提供了重要參考。