有機化學專項訓練(一)

■本刊編輯部

有機化學專項訓練(一)

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1.下列每組中各有三對物質,它們都能用分液漏斗分離的是( )。

A.乙酸乙酯和水,酒精和水,苯酚和水

B.二溴乙烷和水,溴苯和水,硝基苯和水

C.乙醇和水,乙醛和水,乙酸和乙醇

D.油酸和水,甲苯和水,己烷和水楊酸

2.下列有關除雜質(括號中為雜質)的操作中,錯誤的是( )。

A.福爾馬林(蟻酸):加入足量飽和碳酸鈉溶液充分振蕩,蒸餾,收集餾出物

B.溴乙烷(乙醇):多次加水振蕩,分液,棄水層

C.苯(苯酚):加溴水,振蕩,過濾除去沉淀

D.乙酸乙酯(乙酸):加飽和碳酸鈉溶液,充分振蕩,分液,棄水層

3.下列涉及有機物的性質或應用的說法不正確的是( )。

A.干餾煤可以得到甲烷、苯和氨等重要化工原料

B.用于奧運火炬的丙烷是一種清潔燃料

C.用大米釀的酒在一定條件下密封保存,時間越長越香醇

D.纖維素、蔗糖、葡萄糖和脂肪在一定條件下都可發生水解反應

4.歷史上最早應用的還原性染料是靛藍,其結構簡式如圖1所示,下列關于靛藍的敘述中錯誤的是( )。

圖1

A.靛藍由碳、氫、氧、氮四種元素組成

B.它的分子式是C16H10N2O2

C.該物質是高分子化合物

D.它是不飽和的有機物

5.一些中草藥中常存在下列四種香豆素類化合物,有關說法正確的是( )。

A.七葉內酯與東莨菪內酯互為同系物

B.四種化合物含有的官能團種類完全相同

C.它們都能使溴的四氯化碳溶液褪色

D.1mol上述四種物質與足量氫氧化鈉溶液反應,消耗氫氧化鈉最多的是亮菌甲素

6.在核磁共振氫譜中出現兩組峰,其氫原子數之比為3∶2的化合物是( )。

7.下列除去雜質的方法正確的是( )。

①除去乙烷中少量的乙烯:光照條件下通入Cl2,氣液分離

②除去乙酸乙酯中少量的乙酸:用飽和碳酸氫鈉溶液洗滌,分液、干燥、蒸餾

③除去CO2中少量的SO2:氣體通過盛飽和碳酸鈉溶液的洗氣瓶

④除去乙醇中少量的乙酸:加足量生石灰,蒸餾

A.①②

B.②④

C.③④

D.②③

8.下列命名中不正確的名稱是( )

A.1,5-二甲苯

B.間二甲苯

C.鄰二甲苯

D.1,4-二甲苯

9.下列對有機化合物的分類正確的是( )。

A.乙烯、苯、環己烷屬于脂肪烴

B.苯、環己烷屬于芳香烴

C.乙烯、乙炔屬于烯烴

D.環戊烷、環己烷屬于環烷烴

10.含苯酚的工業廢水處理的參考方案如下:

回答下列問題:

(1)設備①進行的操作是____(填寫操作名稱),實驗室這一步操作所用的儀器是:___。

(2)由設備②進入設備③的物質A是____,由設備③進入設備④的物質B是____。

(3)在設備③中發生反應的化學方程式為____。

(4)在設備④中,物質B的水溶液和CaO反應,產物是____、____和水,可通過____操作(填寫操作名稱)分離產物。

11.某酯A的化學式為C9H10O2,且A分子中只含有1個苯環,苯環上只有一個取代基。現測出A的1H-NMR譜圖有5個峰,其面積之比為1︰2︰2︰2︰3。利用紅外光譜儀可初步檢測有機化合物中的某些基團,現測得A分子的紅外光譜如圖2。

圖2

試回答下列問題。

(2)A的芳香類同分異構體有多種,請按要求寫出其中不含甲基且屬于芳香酸的B的結構簡式:____。

(3)已知C是A的同分異構體,分子中不含甲基,且遇FeCl3溶液顯紫色,苯環上只有兩個對位取代基的芳香醛,且有如下轉化關系。

①寫出D-→E的化學方程式:___。

②請用合成反應流程圖表示出由C合成F的最合理的合成方案(注明反應條件)。

提示:合成反應流程圖表示方法示例如下:

(R、R'可表示烴基或官能團)

A可發生如下轉化(方框內物質均為有機物,部分無機產物已略去):

請回答:

(1)F的蒸氣密度是相同條件下H2密度的31倍,且分子中無甲基。已知1molF與足量金屬鈉作用產生H222.4L(標準狀況),則F的分子式是____,名稱是____。

(2)G與F的相對分子質量之差為4,則G具有的性質是____(填字母)。

a.可與銀氨溶液反應

b.可與乙酸發生酯化反應

c.可與氫氣發生加成反應

d.1molG最多可與2mol新制Cu(OH)2發生反應

(3)D能與NaHCO3溶液發生反應,且兩分子D可以反應得到含有六元環的酯類化合物,E可使溴的四氯化碳溶液褪色,則D→E的化學方程式是____,該反應類型是____反應。

(4)H與B互為同分異構體,且所含官能團與B相同,則H的結構簡式可能是:____、____。

(5)A轉化為B和F的化學方程式是____。

1.B2.C3.D4.C5.C6.D7.B8.A9.D

10.(1)萃取 分液漏斗

(4)CaCO3NaOH 過濾

(5)NaOH__水溶液 CO2

(責任編輯 謝啟剛)