研發背景高管、職業成長路徑與高技術企業成長性研究

李慧聰，汪敏達，張慶芝

1 北京工商大學 商學院，北京 100048 2 東南大學 經濟管理學院，南京 211189 3 中國科學院大學 公共政策與管理學院，北京 100049

引言

“大眾創新、萬眾創業”背景下，科技人員創新創業成為社會熱點，探究其以往研發經歷給企業成長帶來何種影響受到研究人員的關注。理論上，科技人員擁有豐富的專業知識和研發經驗，可以在高技術企業成長過程中發揮相對優勢。然而，現實中相當數量的科技人員在向企業高管轉型的過程中折戟沉沙。由此可見，科技人員擔任企業高管后，其經營策略偏好及對企業成長性的影響存在較大不確定性，跨界轉型成功與失敗背后的“故事”值得探究。

高階理論認為高管職能背景可以通過影響其決策偏好進而作用于企業績效[1]，研究關注了高管財務、審計、營銷等從業經歷。近年來高管科研學術經歷的影響已逐漸受到學者重視[2]，相關研究方興未艾。自主研發是高技術企業生存和發展的重要保障，重視研發活動也是具有教學科研或技術開發經歷的高管，即研發背景高管的主要特征之一。根據高階理論和高管社會資本理論，高管以往研發經歷積累了知識發現以及技術創新方面的人力資本和社會資本，他們推動企業加大研發力度，強化技術積累，但至少在短期內，這一行為易導致研發成本上升，并且研發不確定性還可能降低企業績效。

針對這一現象，本研究基于高階理論和高管社會資本理論，試圖從研發活動的雙重作用機制入手，分析研發背景高管對企業績效的影響機理，從研發投入規模和研發投入效率兩個方面探究其作用機制；進一步根據高管職業成長路徑，分別探討出身高校或科研院所和一直在企業從事技術開發工作的兩類研發背景高管的行為和影響差異。本研究為高技術企業高管考核激勵、優化高管結構、提高投資決策的科學性提供有利證據和對策建議。

1 相關研究評述

1.1 高管職能背景與企業績效

高階理論認為高管的諸多人口特征因素影響其行為[3]，為考察高管背景對經濟績效的影響提供了依據。近年來，高管偏好與決策行為的研究[4]為深入分析其背景的作用機制提供了新的思路，即高管背景可能通過作用于高管決策偏好影響企業績效。職能背景是高管重要特征之一，高管往往依據某一從業經歷積累的經驗分析和處理問題[5]。姜付秀等[6]選擇與企業經營關聯度較高的財務工作經歷進行研究，發現具有財務背景的CEO有效降低了資本結構偏離目標的程度；賴黎等[7]關注與經營管理直接關聯度不高、主要影響高管個人認知模式的其他職能背景，發現軍隊背景高管偏好高風險，決策更為激進。這類研究側重于從各種職能背景塑造高管差異化的風險偏好和價值取向等主觀判斷的角度解釋上述效果的原因。

然而，職能背景除了在主觀因素角度作用于高管行為之外，還框定了決策的客觀約束條件，以此影響其行為和企業績效。有學者從社會資本理論角度分析，認為高管在長期工作過程中累積了各種稀缺資源，如政府人脈、政策支持、資金、市場、技術、知識和經驗等[8]，這有利于拓寬信息渠道[9]、有效控制風險、促進組織內外部交流合作[10]、降低交易成本[11]，進而提升企業績效。

高階理論和社會資本理論分別從影響高管決策的主客觀因素兩個視角解釋了職能背景對企業績效的影響，張潤宇等[12]將這兩種理論結合，闡述高管背景特征和社會資本如何共同調節企業過度投資，這為設計本研究框架提供了思路。綜合已有研究可以發現，目前探討高管職能背景的研究大多聚焦于與經營管理關聯密切的財務、營銷等職能，關注研發背景的較少；此外，已有研究多停留在分析職能背景對企業行為表象影響方面，探究其中內在機理還不夠深入，這都為本研究預留了研究空間。

1.2 高管職業成長路徑及其影響

形成同一職能背景的路徑多種多樣，即便某些高管表面上具有相同的職能背景，相異的職業成長路徑也會形成截然不同的主觀判斷和社會資本，使他們做出差異化決策，進而影響企業成長。王雪莉等[13]注意到這一現象，提出可以從職業晉升路徑的角度研究職能背景對企業績效的影響；姜付秀等[14]發現具有金融、會計或經濟管理類專業背景的高管更可能進行過度投資，但是其在同一領域的工作經歷卻顯著降低了過度投資，可能的原因是在實際工作中高管對風險和收益的理解更為深刻，說明職業成長路徑可能改變其在該專業領域中形成的既有觀念。

由此可見，已有研究大都停留在高管是否具有某種職能背景對績效的影響，沒有深究形成這種職能背景的路徑，實際上職業成長路徑可能是影響其決策的更為重要的因素。本研究在探討高管研發背景基礎上，進一步區分高管的職業成長路徑，分別研究出身高?；蚩蒲性核鸵恢痹谄髽I從事技術開發工作的兩類研發背景高管對企業成長性的影響。

1.3 高管研發背景與高技術企業成長性

研發背景高管在研發和研發管理方面的主觀判斷以及在社會資本方面的客觀積累對提升高技術企業成長性產生積極影響。一方面，這類高管傾向于通過技術創新獲得企業競爭優勢。他們在戰略決策方面更具創新性，側重于通過研發活動獲得先進的產品和技術[15]；他們更了解創新活動規律[16]，深諳所屬領域的技術發展趨勢，能夠看清市場對技術的需求，從戰略高度認識到創新帶給企業長期成長的益處。另一方面，研發背景高管可以利用專業知識和社會網絡對企業技術、知識等異質性資源進行交換、擴展和整合，更有能力開展研發活動。當然，也有研究認為研發經歷使這類高管更執迷于業務的技術方面而忽略經營管理[17]，高投入和高風險固然是研發活動的特點，但是不計成本的持續投入經常是拖垮高技術企業的原因之一。基于以上分析，本研究選擇從研發活動入手，分析研發背景高管對高技術企業成長性的影響；注意到人們對這類高管經營管理能力的質疑，著重考察其研發偏好的合理性。

2 理論分析和研究假設

2.1 理論框架構建

技術創新是高技術企業核心競爭力的重要來源，研發投入是面向創新的資源分配[18]，是高技術企業創新活動得以順利開展的保障，是創新成敗的決定因素。一方面研發投入為企業成長提供內生增長動力，另一方面其帶來的技術創新通過成本效應和品質效應促進企業成長[19]。由此可見，研發投入是高技術企業資源分配的核心，是影響技術創新成敗，進而關系企業成長的關鍵中介因素[20]。

一方面，根據高階理論，高管在以往工作中塑造的認知基礎和價值觀對情景形成不同的詮釋，導致差異化的行為選擇。具有不同職能背景的高管對研發活動的重視程度不盡相同，進而形成差異化的資源配置決策，最終影響高技術企業成長。在高階理論特征-行為-經濟后果的一般分析框架下，與財務背景高管側重于通過內控提升組織效率相比[21]，研發背景高管傾向于將有限的資源配置到研發活動中，以獲得先進的產品和技術，掌握企業核心競爭力[22]，進而驅動高技術企業成長。由此可見，研發投入是連接研發背景高管與高技術企業成長的橋梁。

另一方面，根據資源基礎觀，在投入-研發-產出的過程中，研發背景高管具備獨特屬性的創新資源；高管社會資本理論則認為高管通過在工作中建立起來的社會網絡掌握一定關鍵資源[23]。研發背景高管作為企業創新行為的主要決策者，大多負責企業創新資源的分配，其獨特的人力資本和社會資本對高技術企業資源配置起重要作用。他們將企業內外部資源加以整合，合理配置到研發活動中，進而影響高技術企業成長。

由此可見，在研究高管的研發背景和高技術企業成長的同時，還需要關注研發投入的中介作用。基于此，本研究根植于高階理論和高管社會資本理論，結合資源基礎理論對創新資源獨特屬性的強調，沿著高管特征-行為-經濟后果的路徑，探究研發背景影響高管研發行為，進而作用于企業成長性的機理，構建高管背景通過研發投入作用于高技術企業成長的中介作用模型，并據此提出研究假設。

研發投入的數量和質量是體現研發活動的兩個維度，數量是基礎，質量是核心，二者不可分割。本研究參考郝穎等[24]和李焰等[25]對投資行為的研究，從研發投入規模和研發投入效率兩個層面剖析研發背景高管的研發行為。研發投入規模反映研發投入的數量，研發投入效率從質量角度體現研發活動的管理水平；研發投入質量需要一定規模的研發投入支撐，而沒有質量保障的單純增加投入數量，會使研發本身背離其設定的初衷，失去創新的意義。必須找到兩者之間的平衡點，達到協調發展，才能對創新起到良好的助推作用。

考慮到不同的職業成長路徑塑造的表面上類似的職能背景、但實質上對高管主觀意志和客觀資源的影響仍有所差異，所以本研究區分高管“研”和“發”兩種職業成長路徑，即具有在高?；蚩蒲性核鶑氖陆虒W科研工作背景的高管和一直在企業從事技術開發工作經歷的高管，分別考察兩類研發背景高管的行為特征及其影響。

2.2 研發背景高管對高技術企業成長性的影響

基于高階理論分析，高管在研發工作中累積的經驗使其具備對技術導向型戰略的敏感性，在技術預見和研發管理方面更有能力做出合理的決策，形成高技術企業成長的關鍵因素。這類高管對技術創新活動的規律有更清晰、準確的認知[26]，可以更理性的對待失敗[27]，從而對高技術企業選擇創新戰略、提升創新能力產生積極影響。另外，根據高管社會資本理論，研發背景高管為高技術企業成長注入了技術創新方面的資源。這類高管在專業領域形成的關系網絡有利于獲得更多前沿信息、取得更領先的人才和技術資源，這些優勢有效促進了高技術企業的成長。

盡管研發背景高管在企業經營方面的能力受到一定程度的質疑，有的學者認為其缺乏關鍵的商業技能，研發經歷形成的路徑依賴使其過于注重研發活動，而忽視成本和風險[28]。本研究認為，上述研究多停留在短期效應分析，考慮到核心技術瞬息萬變的行業現實和高技術企業研發高投入的特征，從長遠角度分析，這類高管在研發方面的優勢能厚積薄發，對提升高技術企業成長性具有重要價值?；谝陨戏治觯狙芯刻岢黾僭O。

H1研發背景高管能夠顯著提升高技術企業成長性。

2.3 研發背景高管對高技術企業成長性的作用機制

2.3.1 研發背景高管與研發投入規模

首先，根據高階理論的觀點，高管以往經歷影響其行為決策。研發背景高管在長期的研發工作中培養起對技術創新的好感和關注[29]，更傾向于通過技術創新戰略捕捉商業機會[30]；對智力資源和無形資產等因素比較重視，有更強烈的技術情結[31]。

其次，高管團隊異質性理論認為高管背景差異越大，越容易在企業決策時集思廣益、博采眾長。研發背景高管熟悉并認可研發活動風險大、周期長的客觀規律[32]，能夠深刻意識到資金支持對研發活動的重要性，在分配資源時有意增加研發投入[33]，可以較好地避免管理層短視誘發的研發投入不足問題[34]。

最后，根據信號理論的觀點，高管個人的專業背景有助于增加投資者對企業核心技術的信心[35]，解決資本市場對高技術企業技術領先水平和持續研發能力不了解的問題，從而提升長期價值評估，使企業更容易從資本市場獲得融資以支撐高昂的研發投入?；谝陨戏治觯狙芯刻岢黾僭O。

H2a研發背景高管傾向于增加研發投入規模，即高管研發背景與研發投入規模正相關。

依據競爭優勢理論和企業成長理論，長期增加研發投入規模是提升企業核心競爭力的基礎和關鍵，能增加企業的“長跑體能”，獲得持續的競爭優勢，進而推動企業可持續成長。少部分研究對研發投入是否能夠提升企業成長性提出質疑，認為短期內研發活動投入高、風險大、回報期長的特點可能會減少當期現金流，為短期績效帶來巨大壓力[36]，從而影響企業成長[37]。然而事實上，研發投入不足仍然是當前制約中國企業可持續成長的關鍵因素之一。根據萬得的統計數據，2016年中國上市公司研發強度平均為4.57%，低于世界500強企業平均5%的水平。歐洲聯盟委員會公布的“2017全球企業研發投入排行榜”[38]中僅有華為一家中國公司入圍前50名。苗圩[39]認為，中國企業對基礎研究的投入僅占全國基礎研究投入的1.5%，而美國、日本和歐盟企業的基礎研究經費已經占到基礎研究總經費的20%，基礎研究支撐不夠導致制造業關鍵核心技術攻關動力不足、進展緩慢、效果欠佳。因此，本研究認為，從長遠角度考慮，大規模研發投入是對資金需求較大的研發活動得以順利開展的前提，研發背景高管傾向于通過持續增加研發投入規模建立企業的競爭優勢，進而對企業成長產生正向影響[40]?；谝陨戏治觯狙芯刻岢黾僭O。

H2b研發投入規模在研發背景高管對高技術企業成長性的提升作用中具有中介效應。

2.3.2 研發背景高管與研發投入效率

首先，根據高階理論，研發背景高管可以較為有效地避免由于信息不對稱導致的研發投入被低效配置的問題[41]。企業內部的科技含量是影響研發投入與企業成長性之間轉化關系的關鍵因素[42]，而研發背景高管能夠顯著提升高技術企業有效利用研發投入的能力。這類高管的知識和技能儲備有助于提高其在技術方面的判斷力，有效配置研發投入，規劃合理的創新戰略[43]，提出具有商業價值的技術解決方案[44]。

其次，依據高管社會資本理論和技術創新網絡理論，高管的社會資本在識別機會、獲取資源和促進企業成長方面具有顯著優勢[45]。因此，高管的研發經歷有利于其識別研發機會[46]，準確選擇研發項目，獲取研發信息和資金[47]等稀缺資源，并有效開展研發活動。

最后，根據信號理論的觀點，研發背景高管在高技術企業內部象征著專業精神和對研發活動的重視。特別是在中國更為崇尚權威和專家的文化背景下，企業內部的研發人員更愿意追隨研發背景高管全身心投入到研發活動中，這有利于促使高技術企業持續積累核心技術和默會知識，從而提高研發成功的概率，取得技術方面的核心能力，最終憑借技術優勢獲得壟斷性的市場地位，占據產業鏈高端市場和利潤空間?；谝陨戏治?，本研究提出假設。

H3a研發背景高管有利于提高研發投入效率，即高管研發背景與研發投入效率正相關。

資源基礎理論和競爭優勢理論認為企業可以利用的、具有價值的、難以模仿和替代的稀缺資源是其競爭優勢的主要來源[48]，研發資源必然符合上述4個特征，因此，研發效率的策略適宜性至關重要，其投向和利用效率關系到企業能否獲得競爭優勢。一方面，研發背景高管通過提升研發效率優化資源配置，引導研發投入投向創新價值高、應用前景良好、投資回報率高的研發項目，將稀缺的研發資源“用在刀刃上”，從而促進企業高質量成長。另一方面，技術更新速度不斷加快，對高技術企業而言，研發速度也是其核心競爭力之一。研發背景高管通過提升研發效率可以避免低效或者無效的研發投入，加快技術優勢的建立，借此占據市場或獲取較大的利潤空間，從而促進企業快速成長?；谝陨戏治?，本研究提出假設。

H3b研發投入效率在研發背景高管對高技術企業成長性的提升作用中具有中介效應。

本研究構建的理論框架及各假設關系見圖1。

圖1 理論框架Figure 1 Theoretical Framework

3 研究設計

3.1 樣本選擇和數據來源

本研究選擇中國滬深兩市A股高技術上市企業作為研究對象，根據國家統計局2013年發布的《高技術產業(制造業)分類》和《高技術產業(服務業)分類》中的行業代碼篩選并確認高技術行業。本研究涉及由2009年至2015年高管背景和相應滯后1期的研發投入、經營業績構成的非平衡面板數據，剔除ST企業和*ST企業，共包括4 095條數據，涉及241家主板上市企業和384家創業板上市企業。以上數據主要來源于萬得數據庫和國泰安數據庫，部分缺失的數據根據公司年報和網站披露的信息補齊。

一般研究認為高管的定義涵蓋董事、監事和經理層人員，高技術企業中的技術董事、總工程師等人員從專業技術方面為企業重大研發決策提供參考意見。然而，中國企業董事會和管理層權力結構中存在明顯的“一把手”核心作用，高技術尤其是創業型企業中由于創始人身兼大股東和執行官等職，權力差距更為明顯。本研究旨在考察高管個人的研發背景對企業決策和成長性的影響，故選擇具有研發背景的、實際掌握經營決策權力的董事長和總經理作為研究對象，以期更好地凸顯高管研發背景對企業決策尤其是研發決策的影響，檢驗研發背景高管帶給企業的“烙印”。

3.2 主要變量

3.2.1 被解釋變量

(1)高技術企業成長性(Gro)。借鑒竇歡等[49]的研究，本研究選擇主營業務收入增長率作為高技術企業成長性的替代變量。已有研究還采用總資產增長率、凈資產增長率、凈利潤增長率等多種指標考察企業成長性，在穩健性檢驗中，本研究選擇凈利潤增長率替代主營業務收入增長率以驗證實證結果的準確性。

(3)研發投入效率(OR&D)。本研究借鑒RICHARDSON[51]的測量模型，并結合類似研究在此基礎上的拓展應用[52]，采用(1)式估計高技術企業研發投入的合理性，以其隨機誤差項表征研發投入效率。即

R&Di,t+1=α0+α1Inci,t+α2Levi,t+α3Sizi,t+ε1

(1)

其中，R&Di,t+1為第i個企業第(t+1)年的新增研發投入；Inci,t為第i個企業第t年的營業收入，取對數處理；Levi,t為第i個企業第t年的資產負債比；Sizi,t為第i個企業第t年的企業規模，用總資產測量；α0為常數項，α1～α3為變量系數；ε1為隨機誤差項。ε1為正表示當年新增研發投入超出正常研發投入水平，數值越大說明研發投入效率越低，ε1為負說明研發投入不足。

3.2.2 解釋變量

研發背景高管(Aca)。采用啞變量形式，逐一篩選樣本企業高管個人背景，董事長或總經理曾經在高?；蚩蒲性核鶑氖陆虒W科研工作和一直在企業從事技術開發工作的取值為1，否則取值為0；如果董事長和總經理都有這類經歷，則將賦值加總，所以這一變量的取值范圍是0～2?？紤]到在高?；蚩蒲性核鶑氖驴蒲泄ぷ髋c一直在企業從事技術開發工作的差別，在實證研究中，本研究將研發背景高管劃分為高?；蚩蒲性核?AcaU)和企業(AcaE)兩類。

3.2.3 控制變量

(1)所屬大類(Typ)。高技術產業分類目錄區分了制造業和服務業，二者在研發和經營方面有差異，制造業相對側重于核心技術，服務業更側重于利用核心技術滿足消費者需求的商業模式創新。本研究以此變量控制樣本企業行業差異。

(2)企業生命周期(Lc)。本研究希望區別特定指標的長遠效果，需要嵌入企業生命周期進行分析。借鑒李維安等[53]的研究，用留存收益資產比反映企業所處生命周期的階段。當企業處于初創期或者成長期時，投資機會較多且利潤較少，該指標數值較小；隨著企業發展，利潤增加而投資機會減少，該指標數值較大。

(3)控股股東性質(Soe)?？萍既藛T創新創業或者依托公立機構(如校辦企業)和國有企業，或者脫離體制單打獨斗。前一種模式能利用一定組織資源，但需要遵守體制內各種制度約束；后一種模式風險較大，但是自主決策空間更充分。本研究區分樣本企業的所有權性質，以分析不同制度約束的影響。該指標采用啞變量形式，國有控股取值為1，非國有控股取值為0。

(4)上市板塊(Lm)。由于創業板上市條件更為寬松，大量新興高技術企業選擇在創業板上市，因此目前主板企業更多為老牌成熟企業，創業板企業主要是新興成長型企業，本研究根據這一特征按照主板與創業板進行區分，開展深入研究。在主假設檢驗階段，以此對樣本企業進行分組檢驗；在進一步研究階段，將此作為控制變量。

3.3 研究方法

檢驗中介效應最常用的是BARON et al.[54]提出的逐步法，但這一方法一直備受質疑，為此溫忠麟等[55]專門撰文加以回應，認為如果依次檢驗可以取得顯著效果，其合理性不存在問題。經過慎重分析，本研究認為逐步法沒有明顯技術瑕疵，僅是容易錯失顯著結果，因此獲取的顯著結果也更加穩健，故仍然選擇這一經典的做法分別檢驗研發投入規模和研發投入效率對研發背景高管與高技術企業成長性的中介作用。

本研究采用面板數據回歸的方法驗證其他假設，主要模型為

DepV=β0+β1Aca+β2Con+ε2

(2)

其中，DepV分別為Gro、R&D、OR&D這3個變量，Con為控制變量，β0為常數項，β1為自變量回歸系數，β2為控制變量回歸系數，ε2為隨機誤差項。該模型已通過異方差檢驗?？紤]到高管研發經歷對企業成長性的影響具有滯后效應，模型中被解釋變量比研發背景高管指標滯后1期。

4 實證分析

4.1 描述性統計

表1給出主要變量的描述性統計分析結果。全樣本情況下，主營業務收入增長率的均值為27.458，方差較大，說明各樣本企業成長性差異較大；研發投入規模的均值為1 230萬元人民幣，與一般制造業企業相比，可以看出高技術企業的研發投入規模顯著較高；研發投入效率的極值和均值都為正，說明樣本企業的研發投入水平普遍高于正常研發投入，或多或少存在過度研發問題，即高技術企業收入水平難以支撐當前的研發投入，有資金鏈斷裂的風險；各企業總資產水平差距很大，可見樣本企業規模相差較大；區別主板和創業板后，結果反映出主板上市企業規模整體較大、研發投入更多，企業之間差別也更大；在創業板上市的高技術企業各方面指標數值更為集中。

表1 描述性統計結果Table 1 Results for Descriptive Statistics

4.2 多元回歸結果分析

表2給出研發背景高管對高技術企業成長性影響的實證結果。模型1中Aca的系數顯著為正，說明全樣本范圍內研發背景高管確實有效提升了高技術企業成長性，模型2和模型3中Aca的系數均顯著為正，反映出這一現象在主板上市企業和創業板上市企業都非常明顯，H1得到驗證?？毓晒蓶|性質的檢驗結果表明，國有產權背景顯著抑制了高技術企業的成長性，反映出簡政放權是釋放高技術企業創新活力的關鍵。

表3給出研發投入規模對研發背景高管與高技術企業成長性關系的中介效應檢驗結果。表3的模型4、模型5和模型6給出在全樣本、主板和創業板上市企業范圍內研發背景高管對研發投入規模的影響，Aca的結果均顯著為正，反映出研發背景高管具有明顯的研發傾向，H2a得到驗證。高技術企業非常依賴核心技術，故研發投入高并不罕見，而本研究所有樣本企業均為高技術企業，因此控制行業特征進行橫向對比，即可以反映出研發背景高管對研發活動格外偏愛。

在模型1和模型4的基礎上，表3模型7同時將研發背景高管和研發投入規模作為解釋變量納入回歸模型，Aca和R&D的系數均顯著為正，即研發投入規模對研發背景高管與企業成長性之間關系存在部分中介效應，證明大規模研發投入是這類高管能夠提升高技術企業成長性的機理之一，H2b得到驗證。根據同樣的方法，模型9中Aca和R&D的系數均顯著為正，證實這一現象在創業板上市企業更為顯著，但是在模型8主板上市企業中并不顯著?？赡艿脑蚴侵靼迳鲜衅髽I與創業板上市企業所處階段不同，其核心技術類型和企業成長對技術的依賴程度有所差異。創業板企業尚處于起步階段，其未來發展與相對單一的核心技術密切相關，并且這種核心技術一般較為前沿，早一步取得研發成果意味著可能在行業內占據明顯的市場優勢，因此創業板企業往往出現孤注一擲的粗放式研發行為，以大規模研發投入贏得先機。而主板企業處于生命周期較為成熟的階段，影響其成長的因素更為復雜，在開展研發活動的同時也要考慮成本控制和盈利模式等問題，更適合采用集約式創新的模式，所以單純增加研發投入規模對企業成長性的影響并不突出。

表2 研發背景高管對高技術企業成長性影響的檢驗結果Table 2 Test Results for the Impact of Executive with R&D Background on the Growth of High-tech Enterprises

注：括號內數據為z檢驗值；***為在1%水平上顯著，**為在5% 水平上顯著。下同。

表3 研發投入規模對研發背景高管與高技術企業成長性關系的中介效應檢驗結果Table 3 Test Results for Mediation Effect of R&D Expenditure Scale between the Executive with R&D Background and the Growth of High-tech Enterprises

注：*為在10%水平上顯著，下同。

表4給出研發投入效率對研發背景高管與高技術企業成長性關系的中介效應檢驗結果。模型10、模型11和模型12中Aca的系數均顯著為負，表明研發背景高管有效降低了研發投入非效率部分，說明其能夠更為有效的利用研發投入，H3a得到驗證。在模型1和模型10的基礎上，模型13將研發背景高管和研發投入效率作為解釋變量納入回歸模型，結果表明Aca的系數顯著為正，說明這類高管與高技術企業成長性顯著正相關；OR&D的系數顯著為負，即研發投入效率與高技術企業成長性顯著負相關，說明研發投入效率對研發背景高管與高技術企業成長性存在部分中介效應，證明提高研發投入效率是這類高管能夠提升高技術企業成長性的機理之一，H3b得到驗證。模型14和模型15中Aca和OR&D的系數呈現類似特點，表明這一現象在主板上市企業和創業板上市企業中同樣顯著。

上述實證研究中，在全樣本和主板上市企業樣本中，控制變量控股股東性質的檢驗結果反映出國有控股股東能夠顯著抑制研發背景高管的研發傾向。在國有企業中，高管在確定研發投入方向和程度這類重大戰略決策方面可能偏向保守。一方面，國有企業問責機制日益嚴厲，研發投入越大則風險越大，且當期收益越不確定，而出現決策失誤或造成國有資產損失可能影響高管績效考核結果，從而影響其當期收益和未來晉升，這使高管的決策偏好趨于謹慎。另一方面，隨著國企改革的深入，國有資產監督管理委員會、上級黨委、其他對口監管部門以及國企內部的黨委和紀委等開展越來越多的監督，國有控股企業決策流程更為復雜，權力正從失衡走向制衡。以上原因使國企董事長和總經理反而不如民營企業領導敢于破釜沉舟，故較少投資于風險大且前景模糊的研發活動。創業板上市企業中這一結果恰好相反，其原因可能是創業板上市企業中國有股份比重較少，國有控股股東投資創業板企業的態度更為開放，但最終結果與主板企業相似，都顯著降低了企業成長性。

上述兩種機理的實證分析結果表明，研發背景高管不僅傾向于大規模的研發投入，更能夠提高研發投入效率，既沒有浪費也沒有吝嗇，能夠將有限的研發投入“用在刀刃上”，最大限度地為企業創造價值。

4.3 進一步分析

高管研發背景包括在高校或科研院所從事教學科研工作的經歷和在企業從事技術開發工作的經歷，考慮到這兩種職業成長路徑對高管認知和行為的影響不同，本研究進一步分析其對高技術企業成長性影響的差異，檢驗結果見表5。模型17和模型18按照職業成長路徑區分兩類高管，AcaU的系數顯著為負，表明有高?；蚩蒲性核ぷ鹘洑v的高管對高技術企業成長性有顯著的負向影響；AcaE的系數顯著為正，說明一直在企業從事技術開發工作的高管對高技術企業成長性的提升作用更為明顯。

表4 研發投入效率對研發背景高管與高技術企業成長性關系的中介效應檢驗結果Table 4 Test Results for Mediation Effect of R&D Expenditure Rationality between the Executive with R&D Background and the Growth of High-tech Enterprises

進一步深入分析上述結果的內部機制，表6給出兩類高管的研發投入規模對研發背景高管與高技術企業成長性關系的中介效應。模型19、模型20和模型21中Aca、AcaU和AcaE的系數均顯著為正，說明兩類高管均傾向于提高研發投入規模，但是模型22、模型23和模型24中AcaU的系數不再顯著，AcaE的系數依然顯著為正，這一差異性結果反映出有高校或科研院所工作經歷的高管并沒有將大規模的研發投入轉化為高技術企業的成長性，而一直在企業從事技術開發工作的高管則能夠通過增加研發投入規模顯著提升高技術企業成長性。

表7給出兩類高管對研發投入效率的影響以及研發投入效率對研發背景高管與高技術企業成長性關系的中介效應，模型25和模型27中Aca和AcaE的結果顯著為負，模型28和模型30這兩個變量的系數顯著為正，表明一直在企業從事技術開發工作的高管更有利于研發投入的理性回歸，說明這類高管能夠通過提高研發投入效率提升企業成長性。與這一結果相反，模型26中AcaU的系數顯著為正，說明有高?；蚩蒲性核ぷ鹘洑v的高管加重了過度研發投入，模型29中AcaU的系數為負，但不顯著。這一結果表明，有高?；蚩蒲性核ぷ鹘洑v的高管在技術方面的專業理念置于成本控制或市場開發方面未必有效。高投入和高風險固然是研發活動的特點，但是不計成本的持續投入經常是拖垮企業的原因之一。

表5 兩類高管對高技術企業成長性影響差異的檢驗結果Table 5 Test Results for the Differences Influences on the Growth of High-tech Enterprises between the Two Types of Executives

表6 兩類高管的研發投入規模對研發背景高管與高技術企業成長性關系的中介效應檢驗結果Table 6 Test Results for Mediation Effect of the Two Types of Executive R&D Expenditure Scale between Executive with R&D Background and the Growth of High-tech Enterprises

表7 兩類高管的研發投入效率對研發背景高管與高技術企業成長性關系的中介效應檢驗結果Table 7 Test Results for Mediation Effect of the Two Types of Executive R&D Expenditure Rationality between Executive with R&D Background and the Growth of High-tech Enterprises

4.4 穩健性檢驗

穩健性檢驗從3個方面展開，①替換主要變量。如用凈利潤增長率替代主營業務增長率測量企業成長性?？紤]到樣本企業分別在主板和創業板上市，描述性統計分析結果也反映出企業規模、研發投入規模和營業收入等都差距很大，所以穩健性檢驗用相對指標研發強度替代研發投入規模。②采用邏輯回歸方法替代前述面板回歸的方法再次檢驗研發背景高管的研發偏好。以每年中國企業500強平均研發強度為標準，區分樣本企業研發投入的程度，即研發強度大于或等于該年度平均研發強度的為強研發企業，取值為1；小于該年度平均研發強度的為弱研發企業，取值為0。邏輯回歸結果更為顯著地支持這類高管的研發傾向。③采用傾向得分匹配的方法進行實證分析。上述穩健性檢驗結果與本研究結論基本保持一致，受篇幅所限，未列出具體穩健性檢驗結果。

5 結論

高階理論、高管社會資本理論和資源基礎觀為研發背景高管影響企業戰略決策和績效提供了可能的解釋。本研究按照研發經歷-研發行為-企業成長性這一路徑，以2009年至2016年中國滬深兩市A股上市高技術企業為樣本，聚焦于董事長和總經理等高管，利用面板數據進行回歸，分析具有高?；蚩蒲性核ぷ鹘洑v和一直在企業從事技術開發工作經歷的高管對高技術企業成長性的影響及其機理，得到以下結論。

(1)研發背景高管對高技術企業成長具有顯著的促進作用。研究結果驗證了這類高管能夠顯著提升高技術企業成長性，進而發現加大研發投入規模和提高研發投入效率是這一影響的兩條作用路徑，但短期內，過度研發投入在一定程度上降低企業成長性。國有控股股東能夠顯著抑制研發背景高管的研發傾向，特別是有利于降低過度研發投入。本研究支持已有研究得出的比較一致的結論，即技術背景高管提高了研發投入規模，傾向于尋求與高技術相關的成長機會。但是本研究并未用隨機前沿方法探討研發投入的效率，而是從企業短期財務績效和長期成長性角度發掘研發背景高管的特征，即其研發投入行為影響企業的短期績效，形成過度研發的效應，雖然這在長期有助于企業成長。這一觀點肯定了李四海等[34]提出的長期有效性，并進一步補充了短期內的“短板效應”。

(2)職業成長路徑的不同導致研發背景高管行為和其對企業成長性的影響呈現明顯差異。有高?；蚩蒲性核ぷ鹘洑v的高管，由于其固定的思維偏向和在企業經營管理方面的經驗缺失，會加劇過度研發投入；這類高管更執著于研發活動，但是不能有效利用研發投入，表現出“創新偏執”，某種程度上會損害企業的當期收益和長期成長，暴露出這類高管的“短板效應”。一直在企業從事技術開發工作的高管能夠顯著提高研發投入效率，更有助于企業的長期成長，體現了其“長板優勢”。進一步分析則反映出行業、板塊以及所有權性質的差別造成的影響，研發背景高管在不同類型(制造業與服務業、國有或非國有)高技術企業中的作用存在差異。

(3)揭示了某類研發背景高管的過度研發傾向。本研究從研發活動這一機制證明研發背景高管對高技術企業成長性的正面影響，也揭示出其中存在的問題。本研究選擇的樣本為滬深兩市A股上市企業，其中有一項潛在的標準即這些企業已經度過風險最大的初創期，結果依然發現具有高?；蚩蒲性核ぷ鹘洑v的高管存在過度研發傾向，這將給企業帶來一定的資金壓力。在起步階段“任性”研發可能導致脆弱的資金鏈斷裂，尚未待核心技術產生價值企業就夭折了。研發投入為企業未來高成長提供重要支撐，但需要處理好企業長遠發展與現實利益之間的關系，并適時、適度研發，有效控制成本。雖然已有研究從隨機有效前沿角度探討企業的研發效率，但本研究提出過度研發概念，從而更集中地概括了這一類行為的特征及其與高管研發背景的關系。

本研究的理論貢獻有以下3個方面。

(1)將高管背景拓展到研發背景層面，進而著重刻畫職業成長路徑對高管行為的深刻影響。與已有研究主要關注高管的教育程度、專業背景、財務經歷、從軍經歷、海外經歷等對企業政策的影響，以及少數關于高管學術經歷對企業創新影響的研究不同，本研究細分了高管研發方面的專業背景的來源，區分了高管學術科研背景與企業內研發背景的不同，細化了研發背景高管特征；將學術科研背景高管與企業內研發背景高管的決策偏好進行對比，從研發戰略績效后果角度說明了兩類背景高管的差異，為高管研發背景的影響補充了比較研究結論。

(2)提供了研發背景高管對企業成長性影響的經驗證據。在已有研究關注高管個人特征和職能背景與企業績效關系的基礎上[11,13-14]，本研究關注企業長期成長性，對已有研究形成有效的補充。本研究從技術研發戰略績效方面補充了對研發背景高管的財務戰略及其后果的研究，這一結果對比了兩類研發背景高管相異的決策影響后果，從而揭示了研發背景高管在企業經營管理方面的“短板效應”和“長板優勢”，深化了對高管特征-研發行為-企業成長性這一作用路徑的系統認識，彌補了相關研究的不足。

(3)不同于已有研究多從研發投入規模的角度進行分析，本研究深入探討了研發投入效率的中介作用，以更為全面的視角刻畫研發活動和研發投入的概念。本研究剖析了研發背景高管通過研發活動施加影響的作用路徑，這一典型行為特征加深了對研發投入的理解，進而提供了高管特征作用于資源配置并影響經濟后果的新經驗證據。

本研究對管理實踐的啟示有以下3個方面。

(1)研發背景高管對高技術企業成長性的影響不僅體現在研發投入規模方面，還在于提高了研發投入效率。因此，企業在預算、考核和高管激勵的具體實踐中，應高度重視研發投入后的產出轉化問題，建立研發投入效率與企業成長相掛鉤的激勵相容制度，并在制度設計中注重對短期、中期和長期投入產出的匹配。

(2)職業成長路徑的不同導致研發背景高管的行為和其對企業成長性的影響呈現明顯差異。因此，高技術企業在構建高管團隊、優化團隊結構的過程中，要注重不同研發背景高管的“短板效應”和“長板優勢”，將不同類型高管的決策偏好進行有效結合，進而發揮高管團隊合力。具有研發背景的董事長或總經理，需要從企業戰略層面通盤考慮，防范“創新偏執”，開展適度研發，合理把握商機。

(3)國有企業相對而言更能控制研發背景高管的過度研發傾向，從而能有效提升長期效應。因此，國有企業在治理實踐中應繼續發揮不同機構的監督制衡作用，持續提升高管決策的全面性和科學化水平，進而限制科技型高管對企業成長性的不利影響，保障和擴大其對企業成長性的長期有利影響。

本研究尚存在一定局限，①僅從研發活動這一角度分析研發背景高管的行為和后果，后續研究可以進一步探討這類高管的經營管理能力、投融資行為等；②后續研究可通過其他中介變量以全方位了解研發背景高管的特征；③可以通過更長的研究周期觀察研發背景高管對企業成長性的長期影響。