勿以特征"小"而公知

梁麗霞 倪大建

摘 要：很多結構類技術方案看似簡單，其創(chuàng)造性尺度往往難以判斷，容易出現(xiàn)偏頗。本文針對這種情況，首先從法條分析尋找解決辦法，然后結合實際案例進行具體分析，給出了看似簡單的技術方案的創(chuàng)造性尺度判斷的思路。

關鍵詞：創(chuàng)造性；判斷；結構類；整體原則

0 引言

結構類技術方案在理解上比較通熟易懂，且大多數(shù)結構類產(chǎn)品已發(fā)展到較為成熟的階段，現(xiàn)有的發(fā)明專利往往都是在巨人的肩膀上作出的“小”改進，即改進性發(fā)明創(chuàng)造。而審查員往往是在明白了專利的具體內(nèi)容后才對其創(chuàng)造性進行判斷，因此該“小”改進在審查實踐的過程容易遭到忽視，被認為是顯而易見的，出現(xiàn)“事后諸葛亮”，割裂特征等問題。而專利法的立法宗旨是“保護專利權人的合法權益，鼓勵發(fā)明創(chuàng)造，推動發(fā)明創(chuàng)造的應用，提高創(chuàng)新能力，促進科學技術進步和經(jīng)濟社會發(fā)展”。因此，對“小”改進的忽視，與專利法的立法宗旨相違背的。由此可見，對于看似簡單的結構類權利要求，準確把握其創(chuàng)造性尺度尤為重要。

1 創(chuàng)造性尺度判斷的理論分析

創(chuàng)造性判斷的靈魂是“三步法”：步驟一，確定最接近的現(xiàn)有技術；步驟二，確定區(qū)別特征，并由此確定該發(fā)明實際解決的技術問題；步驟三，判斷要求保護的發(fā)明對本領域技術人員來說是否顯而易見。不難看出，創(chuàng)造性判斷的主觀因素主要存在與步驟三，因為它包含了較為抽象的概念，掌握起來有較大的伸縮余地：一是如何確定所屬領域技術人員的技術水準；二是如何判斷現(xiàn)有技術是否提供了將最接近現(xiàn)有技術與其他技術以及技術常識結合起來的教導或者啟示，使人相信普通技術人員有理由、有動機構思出要求保護的發(fā)明[1]。

即使在技術方案看似簡單，或者區(qū)別特征看似“小”時，我們也不能脫離“三步法”的判斷準則。專利審查指南[2]第二部分第四章第3.1 節(jié)規(guī)定：“在評價發(fā)明是否具備創(chuàng)造性時，審查員不僅要考慮發(fā)明的技術方案本身，而且還要考慮發(fā)明所屬技術領域、所解決的技術問題和所產(chǎn)生的技術效果，將發(fā)明作為一個整體看待。”專利審查指南第二部分第四章第6.1 節(jié)規(guī)定：“創(chuàng)造性的判斷，應當針對權利要求限定的技術方案整體進行評價，即評價技術方案是否具備創(chuàng)造性，而不是評價某一技術特征是否具備創(chuàng)造性”。

2 案例分析

結合具體案例進行分析，在審查過程中如何準確判定發(fā)明的創(chuàng)造性尺度。

【案例】一種PCB板組件，本申請的技術方案如下圖所示：

本申請的發(fā)明點是：通過在屏蔽罩3上設置呈中心對稱的第一避讓缺口32和第二避讓缺口，在屏蔽罩3進行貼片安裝時屏蔽罩3可以至少沿兩個方向進行，由此可以提高生產(chǎn)效率，且可以避免或降低貼片錯誤而導致的短路風險。

審查員在第一次審查意見通知書中將對比文件1（CN205282472U）作為最接近的現(xiàn)有技術，并結合對比文件2（CN201345309Y）評述了本申請的創(chuàng)造性。

對比文件1公開了一種具有屏蔽結構的集成電路，并公開連接板的底部設有多個缺口21（公開了第一避讓缺口和第二避讓缺口）。本申請的技術方案與對比文件1的區(qū)別在于：焊盤上設有適于導線穿過的過線缺口；第一避讓缺口和第二避讓缺口呈中心對稱設置，在所述屏蔽罩位于所述第一方向時，所述第一避讓缺口與所述過線缺口相對且所述第一避讓缺口與所述過線缺口之間限定出所述導線的過線空間，在所述屏蔽罩位于所述第二方向時，所述第二避讓缺口與所述過線缺口相對且所述第二避讓缺口與所述過線缺口之間限定出所述導線的過線空間。基于該區(qū)別特征可以確定本申請實際要解決的問題是：多方向安裝屏蔽罩。

對此，對比文件2公開了一種案件電路板和移動終端，并公開焊盤上設有適于導線穿過的過線缺口，以及避讓缺口和過線缺口之間限定出導線的過線空間。并認為，對比文件1已公開通過設置多個避讓缺口以實現(xiàn)在不同方向上均可限定出導線的過線空間，而采用“中心對稱”的方式設置避讓缺口則是本領域的慣用手段。

由此可知，對比文件1和對比文件2僅公開了設置避讓缺口，并未公開將避讓缺口中心對稱設置。然而，本申請所要解決的技術問題是現(xiàn)有的屏蔽罩安裝貼片時通常只能沿一個方向進行，生產(chǎn)效率低，同時也容易出現(xiàn)貼片錯誤導致屏蔽罩與PCB板上的布線發(fā)生短路。且本申請正是通過中心對稱設置避讓缺口解決上述技術問題。即“中心對稱設置避讓缺口”雖然是看起來很簡單的一個特征，但其正是解決本申請技術問題的關鍵技術特征。而對比文件1和對比文件2均未公開該特征，直接將其作為公知評述是不合適的。

進一步分析最接近現(xiàn)有技術對比文件1，其說明書記載：在窗口邊沿設置連接板和在連接板底部設置缺口，缺口為上小下大的梯形，每兩個缺口之間的連接板底部用于焊接，可大大節(jié)省焊錫膏使用量，同時利用空氣流通，提高散熱性能。因此，對比文件1的缺口是用于節(jié)省焊錫膏用量以及利于散熱，雖然同為缺口，但是作用完全不同。即對比文件1中不存在過線問題，因此沒有解決多方向安裝屏蔽罩問題的改進動機。

而對比文件2雖然公開缺口，但對比文件2的缺口的作用是防止導線被劃傷，因此對比文件2也沒有啟示將缺口設置成中心對稱的。

在判斷結構類權利要求是否具備創(chuàng)造性的過程中，切忌生硬地將長相看似一樣的特征認為公開或者認為具有結合啟示，還需進一步考量該結構實質所起的作用是否和本申請一樣。

3 總結

由以上案例可知，當結構類技術方案看似簡單不易判斷創(chuàng)造性尺度時，我們需牢記整體原則，從技術領域、解決的技術問題和產(chǎn)生的技術效果三個方面出發(fā)，整體考慮發(fā)明的全部技術特征以及全部技術特征的集合所能產(chǎn)生的技術效果，不能單獨的、割裂的評價發(fā)明與現(xiàn)有技術之間的區(qū)別技術特征的創(chuàng)造性，從而影響對作為一個整體的發(fā)明的創(chuàng)造性評價的正確性。[3]

參考文獻：

[1] 尹新天.中國專利法詳解[M].北京：知識產(chǎn)權出版社，2011：367.

[2] 中華人民共和國國家知識產(chǎn)權局.專利審查指南[M].知識產(chǎn)權出版社，2010.

[3] 陶洪.專利創(chuàng)造性評價的整體性原則分析[J]，《中國發(fā)明與專利》，2018.