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環(huán)形氣液霧化裝置霧化因素研究與降塵試驗(yàn)

2019-09-19 10:58:52高貴軍劉春洋

高貴軍,劉春洋

(太原理工大學(xué) 礦山流體國(guó)家地方聯(lián)合工程實(shí)驗(yàn)室,機(jī)械與運(yùn)載工程學(xué)院,太原 030024)

隨著煤礦開采科技的進(jìn)步,尤其是綜掘綜采工作面機(jī)械化智能化的發(fā)展,井下作業(yè)環(huán)境的污染也越來(lái)越大,煤塵治理難度也相應(yīng)增大[1]。煤礦粉塵不但能夠引發(fā)塵肺病,而且能夠?qū)е路蹓m爆炸、設(shè)備磨損加劇、管路堵塞等問(wèn)題,給社會(huì)造成巨大危害。有些粉塵嚴(yán)重的掘進(jìn)工作面,其煤塵質(zhì)量濃度達(dá)到了1 200~1 300 mg/m3,細(xì)微粉塵(呼吸性)質(zhì)量濃度達(dá)到了[2]800~900 mg/m3,嚴(yán)重影響了煤礦井下工作人員健康以及生產(chǎn)的安全性。

目前礦井除塵的方式主要有干式除塵和濕式除塵。和歐美等西方國(guó)家不同的是,我國(guó)絕大部分的煤礦巷道狹窄潮濕,不太適用于干式除塵,濕式霧化降塵是我國(guó)煤礦降塵的主要方式[3]。因此綜掘工作面除塵也以濕式除塵為主[4-5],如內(nèi)外噴霧降塵、化學(xué)除塵[6]、泡沫除塵[7]、煤層動(dòng)壓注水[8]等。這些除塵方式雖然取得了一定的效果,但是仍然存在一些不足。例如,掘進(jìn)機(jī)內(nèi)外噴霧系統(tǒng)需要使用高壓做動(dòng)力源,但由于噴嘴較小,煤礦井下水質(zhì)較差,容易出現(xiàn)噴嘴堵塞等問(wèn)題;另外,高壓噴霧系統(tǒng)整體耗水量較大,容易在工作面形成積水,弄濕工人的衣服、影響視線、加速機(jī)械設(shè)備的銹蝕和磨損[10-11]。煤層注水措施在一些地方已取得較好的防塵效果,但存在注水工藝復(fù)雜、注水周期長(zhǎng)的問(wèn)題[9]。利用掘進(jìn)面通風(fēng)特點(diǎn)形成的長(zhǎng)壓短抽式除塵方法,是近幾年發(fā)展起來(lái)的掘進(jìn)除塵技術(shù),雖然取得了不錯(cuò)的效果,但在使用過(guò)程中需要根據(jù)斷面尺寸、掘進(jìn)深度等及時(shí)調(diào)整系統(tǒng)參數(shù),此外抽風(fēng)設(shè)備占用一定空間,因此該技術(shù)在掘進(jìn)工作面上的使用也受到限制[12-13]。

本文研究了一種環(huán)形氣液兩相流霧化裝置,本裝置屬于濕式噴霧降塵方式。它以工作面壓縮空氣為動(dòng)力,將壓縮空氣引入到環(huán)形霧化裝置中心的進(jìn)氣孔,并從中心噴嘴噴出;高速氣流沖擊沿環(huán)縫噴出的液體,使其進(jìn)一步霧化成很小的微霧液滴,并與噴出的壓縮空氣混合成為微霧群噴出。該裝置的環(huán)縫與軸線的夾角θ和氣管噴嘴到環(huán)縫的距離d對(duì)環(huán)形氣液霧化裝置霧化效果影響很大。本文應(yīng)用數(shù)值模擬方法分析環(huán)縫角度θ和氣管距離d對(duì)內(nèi)部流動(dòng)狀態(tài)的影響,以期為環(huán)形氣液霧化裝置提供理論依據(jù)。

1 環(huán)形氣液霧化裝置工作原理

環(huán)形氣液霧化裝置主要由殼體、霧化腔、透蓋、進(jìn)氣管、進(jìn)水口等構(gòu)成,如圖1所示。裝置的霧化主要機(jī)理是沖擊破碎霧化原理。首先低壓液體通過(guò)進(jìn)水管進(jìn)入裝置的環(huán)型腔,再經(jīng)過(guò)與軸線成一定角度的環(huán)形縫隙噴射到裝置的霧化腔內(nèi),此時(shí)為一次霧化過(guò)程。同時(shí),由進(jìn)氣管噴嘴噴射出來(lái)的高速氣體在霧化腔內(nèi)對(duì)一次霧化后的液滴進(jìn)行沖擊剪切,形成二次沖擊霧化破碎,破碎后的微霧群在流動(dòng)氣體的作用下從霧化腔噴射出去。空氣中,高速運(yùn)動(dòng)的霧滴與相對(duì)速度較低的煤塵相碰撞結(jié)合形成較重的顆粒,在重力作用下加速沉降,達(dá)到噴霧除塵的目的。

該裝置采用壓縮空氣噴射沖擊環(huán)縫射流液體的破碎霧化方式,其氣源和水源分別來(lái)自現(xiàn)場(chǎng)的壓縮空氣和靜壓水,不需要另設(shè)高壓水泵。因此,該裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,無(wú)旋轉(zhuǎn)部件,易于維護(hù),無(wú)外接電源,適用于煤礦井下這種有爆炸性危險(xiǎn)氣體存在的環(huán)境。

1-殼體;2-霧化腔;3-密封圈;4-螺栓;5-透蓋;6-進(jìn)氣管;7-環(huán)腔;8-進(jìn)水口圖1 環(huán)形氣液霧化裝置示意圖Fig.1 Schematic diagram of annular gas liquid atomization device

2 理論基礎(chǔ)

該裝置的霧化理論基礎(chǔ)為在高速氣流中的橫向液體射流霧化機(jī)理,該技術(shù)的應(yīng)用十分廣泛,例如超燃沖壓發(fā)動(dòng)機(jī)、火箭推進(jìn)器的氫燃料噴射霧化等[14]。主要原理是當(dāng)液體從噴嘴噴射出來(lái)之后,在橫向風(fēng)流的沖擊作用下,射流液柱或液絲由于受力不均勻,開始變形、扭曲形成毛細(xì)波,在波動(dòng)的作用下較大的液塊或液絲開始破碎形成直徑更小的液滴。研究者們[15-16]經(jīng)過(guò)觀察,將氣流中的橫向射流分成了液柱、液塊和液滴,其過(guò)程分為一次霧化和二次霧化。描述霧化的模型主要有臨界準(zhǔn)則數(shù)選定法;液滴初始直徑修正法;TAB模型;Reitz波不穩(wěn)定性模型和附面層法[17]。

高速氣流沖擊霧化采用歐拉-拉格朗日法計(jì)算。其中,氣相采用歐拉法,控制方程來(lái)自三維N-S方程。液相采用拉格朗日法建立顆粒跟蹤模型,液氣兩相流的相互影響可通過(guò)方程中的源相來(lái)實(shí)現(xiàn)[18]。

三維N-S方程為:

(1)

其中:

式中:ρ為密度;u,v,w分別為x,y,z向速度;p為壓強(qiáng);E為單位質(zhì)量的總能量;S項(xiàng)為源項(xiàng);τxx,τyy,τzz,τyx=τxy,τzx=τxz,τyz=τzy為各項(xiàng)應(yīng)力。

如果把液滴在運(yùn)動(dòng)中受到的空氣阻力和重力的影響也考慮進(jìn)去,液滴受到的單位外力FY如下:

(2)

阻力系數(shù)Cd和氣體雷諾數(shù)Re的定義為

3 仿真模型的建立

環(huán)形氣液霧化裝置是軸對(duì)稱結(jié)構(gòu),因此可將計(jì)算簡(jiǎn)化為2D模型,以加快計(jì)算速度。根據(jù)環(huán)形氣液霧化裝置的結(jié)構(gòu)繪制2D計(jì)算模型,如圖2所示。計(jì)算模型總長(zhǎng)為220 mm,寬為35 mm,環(huán)縫與軸線的夾角為15°,環(huán)縫寬度b為1 mm;采用三角形單元?jiǎng)澐钟?jì)算區(qū)域[19];設(shè)水的入口邊界條件為Velocity inlet,其值設(shè)為0.4 m/s;水的出口邊界條件為Pressure outlet,壓力值設(shè)定成大氣壓101 325 Pa,同時(shí)設(shè)湍流強(qiáng)度為5%,水力直徑為0.035 m;整個(gè)裝置設(shè)置為以中心線為軸的軸對(duì)稱類型(Axis);其余邊界設(shè)置為壁面(Wall).在計(jì)算仿真中,通過(guò)改變環(huán)縫與軸線的角度θ和氣體射流管噴嘴與環(huán)縫距離d得到不同結(jié)構(gòu)的模型;其中,角度θ分別設(shè)為30°,35°,40°,45°,50°,60°,70°,距離d分別設(shè)為0,2,4,6,8,10 mm.

圖2 霧化裝置的2D模型Fig.2 2D model of the atomizing device

4 仿真結(jié)果分析

4.1 液相流場(chǎng)分析

圖3為角度θ=50°,距離d=4 mm時(shí)只考慮環(huán)縫射流時(shí)液體流場(chǎng)仿真結(jié)果。相較于圖2,圖3用霧化裝置整體結(jié)構(gòu)體現(xiàn)流場(chǎng)的完整性。從結(jié)果中看出,從環(huán)形縫隙中噴射出來(lái)的高速水射流,與對(duì)面噴射出來(lái)的水射流在霧化腔內(nèi)撞擊匯聚,并產(chǎn)生兩個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)。一個(gè)運(yùn)動(dòng)方向是朝著霧化裝置出口方向流動(dòng),占到液體的大部分體積,并在匯聚點(diǎn)前方(出口方向)一定距離處開始聚集,形成了混合區(qū);而另外一個(gè)方向是朝著進(jìn)氣管入口方向流動(dòng),占到匯聚液體的一小部分,在進(jìn)氣管出口處形成了回流區(qū)。

回流區(qū)和混合區(qū)之間有一個(gè)速度較低的區(qū)域,稱之為分離區(qū);液體射流在此處被分成沿兩個(gè)方向運(yùn)動(dòng)的區(qū)域,即回流區(qū)和混合區(qū)。經(jīng)過(guò)回流區(qū)向進(jìn)氣管方向運(yùn)動(dòng)的液體在進(jìn)氣管出口壁處發(fā)生了分化,有一小部分液體發(fā)生偏轉(zhuǎn),向靠近環(huán)形霧化裝置的壁面處流動(dòng),另外由于高速射流負(fù)壓吸附作用,這部分射流被高速射流所吸附并發(fā)生混合,偏轉(zhuǎn)了流動(dòng)方向,在環(huán)縫壁和進(jìn)氣管出口外壁之間形成了速度較高的渦流區(qū)域。渦流區(qū)、分離區(qū)、混合區(qū)及回流區(qū)位置見圖3,圖3表示不同區(qū)域的速度大小。

回流區(qū)所在位置處于進(jìn)氣管的出口,且回流的流動(dòng)方向與進(jìn)氣方向相反,對(duì)射流進(jìn)入進(jìn)氣管的氣體起阻礙作用;回流速度值越大,阻礙作用越明顯,不利于氣體對(duì)混合區(qū)的液滴沖擊破碎霧化。根據(jù)橫向射流霧化理論,氣液兩相的速度相差越大,越有利于液滴的霧化,并能獲得較小的霧滴[20-21]。

圖3 θ=50°,L=4 mm的液流場(chǎng)情況Fig.3 Liquid flow field with θ=50° and L=4 mm

4.1.1環(huán)縫角度影響液流場(chǎng)的情況

圖4是回流區(qū)的最大速度與角度θ的關(guān)系曲線。從圖中分析可知,在距離d不變時(shí),回流區(qū)速度最大值隨著角度θ的增大而減小;氣管距離d較長(zhǎng)且θ>45°時(shí)速度隨角度θ增加而遞減的趨勢(shì)明顯,d較小時(shí)速度隨角度θ遞減趨勢(shì)不明顯,其最大差值在0.1 m/s左右。產(chǎn)生這種情況的原因可能是由于角度θ增大,使得發(fā)生回流的液體射流減少,致使回流區(qū)內(nèi)最大速度值也隨之減小。

圖4 回流區(qū)最大速度值vr與角度θ的關(guān)系Fig.4 Relationship between angle θ and maximum velocity value in recirculation zone

圖5是分離區(qū)最大速度與角度θ關(guān)系曲線。由圖5可知,在距離d不變時(shí),隨著角度θ的增大,分離區(qū)速度最大值具有不規(guī)律變化;其速度最大值在0.10~0.16 m/s之間波動(dòng),說(shuō)明角度θ并未對(duì)分離區(qū)的速度值產(chǎn)生明顯影響。

圖5 分離區(qū)最大速度值vs與角度θ的關(guān)系Fig.5 Relationship between angle θ and maximum velocity value of separation zone

圖6是混合區(qū)最大速度值與角度θ的關(guān)系曲線。分析圖中曲線可知:在保持距離d不變時(shí),隨著角度θ的增大,混合區(qū)內(nèi)速度的最大值增加。這是因?yàn)樵诮嵌圈仍龃髸r(shí),液體流入環(huán)縫的流場(chǎng)路線發(fā)生變化,使環(huán)縫液阻降低速度增加,同時(shí)也改變了環(huán)縫的有效面積比值,最終使噴射速度增高。另外在速度合成上,由于角度θ的增大,使得環(huán)形射流液體在中心處,進(jìn)行速度合成時(shí)沿軸向速度的分量也增加,也導(dǎo)致了混合區(qū)速度的增加。綜合以上效果,最終使混合區(qū)最大速度值以較快的速度遞增。

圖6 混合區(qū)最大速度值vm與角度θ的關(guān)系Fig.6 Relationship between angle θ and maximum velocity value of mixing zone

綜上分析,在保持距離d不變時(shí),隨著角度θ的增大,回流區(qū)速度最大值也隨之增大,分離區(qū)速度最大值發(fā)生無(wú)規(guī)律的波動(dòng),其變化波動(dòng)值在0.10~0.16 m/s之間,混合區(qū)內(nèi)速度最大值也顯示出增加的趨勢(shì)。根據(jù)CHEN et al[15]和WU et al[16]的理論,為了取得更好的霧化效果,盡可能使氣液相對(duì)速度較大。因此應(yīng)在混合區(qū)、分離區(qū)取較低速度部分,同時(shí)保持較小范圍的渦流區(qū),所以環(huán)縫角度θ應(yīng)控制在40°~50°之間較好。

4.1.2氣管距離影響液流場(chǎng)的情況

圖7是回流區(qū)內(nèi)最大速度與距離d的關(guān)系曲線。當(dāng)角度θ一定時(shí),隨著距離d的增加,回流區(qū)速度最大值也隨之增大。主要原因是距離d變大時(shí),回流區(qū)空間變大,液流場(chǎng)在該區(qū)域流動(dòng)阻力減小,導(dǎo)致在該區(qū)域內(nèi)的最大速度值增加。

圖7 回流區(qū)內(nèi)最大速度vr與距離d的關(guān)系Fig.7 The relationship between the maximum speed in the recirculation zone vr and the distance d

圖8為分離區(qū)內(nèi)最大速度與距離d的關(guān)系曲線。由圖8可知,當(dāng)角度θ一定時(shí),隨著距離d的增加,分離區(qū)內(nèi)速度最大值顯示出不嚴(yán)格的遞增趨勢(shì),在個(gè)別地方有些反復(fù),最大速度值在0.10~0.16 m/s之間波動(dòng)。

圖8 分離區(qū)最大速度vε與距離d的關(guān)系Fig.8 The relationship between the maximum speed of the separation zone vε and the distance d

圖9為混合區(qū)最大速度與距離d的關(guān)系曲線。圖9表明,當(dāng)角度θ一定時(shí),隨著距離d增大,混合區(qū)最大速度值出現(xiàn)分段變化情況。距離d值在0~2 mm之間時(shí),最大速度值隨距離d的增大而減小;距離d值在2~6 mm之間時(shí),最大速度值呈現(xiàn)出平緩上升趨勢(shì),總體變化不大;當(dāng)d在6~10 mm之間時(shí),最大速度值隨距離d的增大而緩慢增加。整體看來(lái),隨著距離d的增加,在混合區(qū)域內(nèi)的最大速度變化值相差不大,在0.2 m/s內(nèi)波動(dòng)。在距離d為0~2 mm段產(chǎn)生遞減規(guī)律的原因可能是進(jìn)氣管出口的回流區(qū)空間較小,液體受到的限制作用較強(qiáng),回流區(qū)液體變少混合區(qū)液體增加,最終在較近段,隨距離d減小混合區(qū)內(nèi)的速度值增大。

圖9 混合區(qū)最大速度vm與距離d的關(guān)系Fig.9 The relationship between the maximum speed of the mixing zone vm and the distance d

總之,當(dāng)角度θ保持一定時(shí),回流區(qū)最大速度值隨著距離d的增大而增加;分離區(qū)內(nèi)最大速度值隨著距離d的增大呈現(xiàn)出不嚴(yán)格的小幅遞增的趨勢(shì),個(gè)別地方有些反復(fù),最大速度值在0.10~0.16 m/s之間波動(dòng);混合區(qū)內(nèi)的最大速度值隨著距離d的增大表現(xiàn)分段遞增遞減趨勢(shì),2~6 mm之間時(shí)為遞減趨勢(shì),6~10 mm之間時(shí)為遞增趨勢(shì)。同理根據(jù)CHEN et al[15]和WU et al[16]的理論,為了取得更好的霧化效果,盡可能使氣液相對(duì)速度相差較大,所以氣管距離d的最佳范圍應(yīng)設(shè)在2~6 mm之間。

4.2 氣流場(chǎng)影響因素分析

壓縮空氣從圖1的進(jìn)氣管進(jìn)入,進(jìn)氣速度分別設(shè)為20,30,40,50,60 m/s,計(jì)算結(jié)果如圖10所示。圖10為進(jìn)氣速度為30 m/s時(shí)的速度云圖,其他速度的仿真結(jié)果也具有相同分布形狀。如圖所示,在中心線處速度較大,沿徑向方向速度越來(lái)越小;氣體離開進(jìn)氣管出口處沿軸向方向速度迅速降低并成“拋物線”狀的遞減:在距進(jìn)氣管入口100 mm內(nèi),空氣速度值介于28.8~32.1 m/s范圍內(nèi),在距進(jìn)氣管入口110~125 mm內(nèi)氣體運(yùn)動(dòng)降到25.6~28.8 m/s范圍內(nèi);與液流場(chǎng)回流區(qū)和混合區(qū)相對(duì)應(yīng)位置處的氣流場(chǎng)速度在28.8~32.1 m/s范圍內(nèi),此處保持氣體較大的沖擊速度,有利于液滴霧化。

vin=30 m/s的速度云圖(z=0處裝置中心平面)圖10 氣流場(chǎng)速度分布云圖Fig.10 Airflow field velocity distribution

圖11為進(jìn)氣管進(jìn)氣速度不同時(shí),沿霧化裝置的中心線上速度分布曲線圖。在0~25 mm段速度基本保持為氣體進(jìn)口的速度;在25~50 mm段,氣體運(yùn)動(dòng)速度略有上升,這是由于空氣在出口處部分壓力能轉(zhuǎn)化為動(dòng)能使射流速度提高;在50~100 mm段速度保持不變,與上一段的末速度相同,沿徑向方向的高速區(qū)域越來(lái)越小;在噴射距離大于100 mm的區(qū)域,空氣速度迅速減小,這是由于空氣阻力占主導(dǎo)作用的結(jié)果。從以上分析可以看出,從進(jìn)氣口端到100 mm處氣流速度基本保持最大值。該區(qū)域正是液滴破碎霧化的區(qū)域,入口速度值越大,越有利于液體的沖擊霧化破碎。

圖11 不同進(jìn)氣速度下的氣流場(chǎng)中心線上速度分布曲線Fig.11 Speed on the centerline of the airflow field

通過(guò)氣相流場(chǎng)與液相流場(chǎng)聯(lián)合分析可知,為了使液滴充分霧化,主要是二次霧化充分,必須獲得較大的液滴與氣體的相對(duì)速度,同時(shí)還要保證液滴在高速流動(dòng)氣體內(nèi)的停留時(shí)間。通過(guò)以上對(duì)圖11分析可知,液滴二次霧化最有利的區(qū)間段在距離進(jìn)氣管端100 mm之前,也就是d<6 mm的區(qū)間。根據(jù)圖4-圖9分析可知d不能太短,建議d取值區(qū)間2~4 mm.

5 試驗(yàn)結(jié)果

根據(jù)以上研究,設(shè)計(jì)了環(huán)形氣液霧化裝置,并進(jìn)行了霧化試驗(yàn)。試驗(yàn)中的環(huán)形氣液霧化裝置環(huán)縫與中心線夾角θ取45°、距離d取4 mm,通過(guò)改變進(jìn)氣壓力實(shí)現(xiàn)改變氣體入射速度的目的,并對(duì)結(jié)果進(jìn)行分析。該試驗(yàn)裝置主要包括環(huán)形氣液霧化裝置、氣源系統(tǒng)(如空氣壓縮機(jī)、壓力流量調(diào)節(jié)閥、壓力表)、水源系統(tǒng)(供水泵、壓力流量調(diào)節(jié)閥、壓力表)和激光粒度分析儀等組成,如圖12所示。

圖13是霧滴直徑與氣壓的關(guān)系曲線。從圖中可以看出,在水流量保持不變的情況下,環(huán)形氣液霧化裝置產(chǎn)生的霧滴粒徑隨進(jìn)氣壓力的增加而減小。主要原因是隨著進(jìn)氣壓力的增加氣流氣體噴射速度也相應(yīng)增加,霧化腔內(nèi)氣液兩相的相對(duì)速度增加,液柱和液絲的扭曲、變形、波動(dòng)加劇促進(jìn)液滴霧化,使粒徑變小,與以上理論分析結(jié)果相一致。

1-空氣壓縮機(jī);2-電機(jī);3-水箱;4-供水泵;5-調(diào)節(jié)閥;6-水壓力表;7-計(jì)算機(jī);8-粒度檢測(cè)儀接收器;9-粒度檢測(cè)儀發(fā)射器;10-環(huán)形氣液霧化裝置;11-氣體壓力表;12-調(diào)節(jié)閥圖12 環(huán)形氣液霧化實(shí)驗(yàn)裝置原理圖Fig.12 Schematic diagram of annular gas-liquid atomization experimental device

圖13 霧滴直徑D與入射氣體壓強(qiáng)pg的關(guān)系Fig.13 Relationship between droplet diameter D and incident gas pressure pg

利用本裝置在燕子山礦模擬巷道內(nèi)進(jìn)行了模擬霧化降塵試驗(yàn),該模擬巷道為半圓拱形,長(zhǎng)9.3 m,寬3.18 m,高2.75 m.試驗(yàn)過(guò)程中利用AKFC-92型礦用粉塵采集儀進(jìn)行粉塵質(zhì)量濃度的測(cè)定。粉塵取自燕子山礦工作面,利用揚(yáng)塵器在模擬巷道內(nèi)產(chǎn)生揚(yáng)塵,利用環(huán)形氣液霧化裝置進(jìn)行噴霧降塵,測(cè)試噴霧前后的空氣中粉塵含量。環(huán)形氣液霧化裝置布置在水平方向的中線上,距離地面2 m,距離巷道一端1.5 m處,粉塵測(cè)量點(diǎn)設(shè)為3個(gè),分別距離霧化裝置1.5 m、2.5 m、3.5 m處,距離地面高度1 m.試驗(yàn)結(jié)果如表1所示,結(jié)果顯示利用環(huán)形氣液霧化裝置產(chǎn)生的霧滴降塵,在3個(gè)測(cè)塵點(diǎn)的降塵效率均達(dá)到了85%以上。

表1 測(cè)定結(jié)果對(duì)比Table 1 Comparison of measurement results

6 結(jié)論

環(huán)形氣液霧化裝置的霧化理論基礎(chǔ)為在高速氣流中的橫向射流霧化機(jī)理,其霧化過(guò)程十分復(fù)雜。本文利用Fluent仿真方法對(duì)環(huán)形氣液霧化裝置的關(guān)鍵參數(shù)進(jìn)行分析討論,根據(jù)液相流動(dòng)特性可將流場(chǎng)分為回流區(qū)、渦流區(qū)、分離區(qū)和混合區(qū)。聯(lián)合氣相仿真結(jié)果分析得出,環(huán)縫角度θ控制在40°~50°之間,環(huán)縫出口至氣管出口距離控制在2~6 mm之間時(shí),液滴和氣體具有足夠大的相對(duì)速度,并且有充分的二次霧化時(shí)間和距離,能取得較好的霧化效果。在此基礎(chǔ)上對(duì)優(yōu)化后的環(huán)形氣液霧化裝置進(jìn)行了霧化與降塵試驗(yàn),獲得較好的霧化降塵效果,為霧化降塵的研究提供一定的理論基礎(chǔ)。

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