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鎳鍍層水性無鉻鈍化后的耐腐蝕性能研究

2019-09-21 01:14:48羅貫虹
科技與創(chuàng)新 2019年17期
關(guān)鍵詞:實(shí)驗(yàn)研究

羅貫虹

鎳鍍層水性無鉻鈍化后的耐腐蝕性能研究

羅貫虹

(福建宏貫路橋防腐科技股份有限公司,福建 龍巖 364000)

電鍍鎳層在生活以及生產(chǎn)中具有非常廣泛的應(yīng)用,因此,加強(qiáng)對電鍍鎳層化學(xué)屬性的研究,能夠最大化地加強(qiáng)電鍍鎳層的使用。同時,加大對電鍍鎳耐腐蝕性的研究,對于國民經(jīng)濟(jì)的進(jìn)步也能產(chǎn)生非常重要的影響。電鍍鎳層本身具備相應(yīng)的防腐蝕性能,但是遠(yuǎn)遠(yuǎn)達(dá)不到使用要求。利用兩種無鉻鈍化液對電鍍鎳層進(jìn)行鈍化處理,希望對提高電鍍鎳層的腐蝕性能有一定的幫助。

水性無鉻鈍化液;電鍍鎳層;硅烷偶聯(lián)劑;有機(jī)-無機(jī)緩蝕劑

電鍍鎳層在生活以及工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)中具有非常重要的作用,由于電鍍鎳層具有較好的耐腐蝕性,能夠極大地延長金屬物體的使用壽命,所以對電鍍鎳層的耐腐蝕性進(jìn)行研究具有較強(qiáng)的現(xiàn)實(shí)意義。

電鍍鎳層具有耐腐蝕以及耐磨的特點(diǎn),但是對于鋼鐵材料來說,卻具有相應(yīng)的空隙,因?yàn)槠涫顷帢O性鍍層,而這些通孔的存在將會加速金屬的腐蝕。相關(guān)研究表明,大多數(shù)金屬的銹蝕都是因?yàn)橥椎脑颉H绻褂枚鄬与婂兓蛟黾渝冩噷拥暮穸龋m然能夠消除通孔,但是對于非常細(xì)微的通孔卻不能消除,而增加鎳的厚度也會帶來不利影響,即降低其加工性能。提高電鍍鎳層性能的方法可采用鉻酸鹽鈍化,但其會對環(huán)境造成較大的污染。在此情況下使用TiO2-SiO2溶膠-凝膠法對鎳層封孔,需要450 ℃以上熱處理1 h。如果使用防銹油來對電鍍鎳層進(jìn)行處理,雖然能夠防止外界物質(zhì)對鎳層的腐蝕,但是由于防銹油黏度高、油膜厚的特點(diǎn),會影響到產(chǎn)品后續(xù)的處理。

本文的實(shí)驗(yàn)利用到了硅烷偶聯(lián)劑(KH-550)和有機(jī)-無機(jī)緩蝕劑兩種無鉻鈍化液,使得電鍍鎳層更加鈍化,在實(shí)驗(yàn)中對兩種鈍化液的穩(wěn)定性以及水解過程進(jìn)行觀察,并分析它們的耐腐蝕性以及外貌,最后根據(jù)實(shí)驗(yàn)的結(jié)果,來得出關(guān)于電鍍鎳層耐腐蝕性的實(shí)驗(yàn)結(jié)果[1]。

1 實(shí)驗(yàn)

1.1 電鍍鎳基材的前處理

用Q235B低碳鋼鍍鎳作為基本材料,其尺寸為4 cm× 1 cm,鍍鎳層厚度為21 μm,首先使用質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5%的鹽酸,將其加熱到25 ℃,并且使用超聲除銹2 min,得到蒸餾水;進(jìn)行堿性清洗,溫度為75 ℃,進(jìn)行5 min的活化,最后使用蒸餾水進(jìn)行沖洗并吹干。在這個過程中所使用的材料需要達(dá)到實(shí)驗(yàn)的要求,尤其對于蒸餾水以及溫度的把握不能有差錯。

1.2 鈍化工藝

將純KH-550液輕輕滴到蒸餾水和乙醇的混合溶劑中,其中蒸餾水與乙醇的比例為9∶10,溶劑中KH-550的體積分?jǐn)?shù)達(dá)到5%,將溶劑水解10 min,然后放入電鍍鎳件,使用常溫將其鈍化20 s。由5 g/L硫脲、10 g/L六偏硫酸鈉、10 g/L七水硫酸鋅構(gòu)成緩腐蝕劑鈍化液,使用磷酸將其酸堿度調(diào)節(jié)為2.5~3.0,然后將電鍍鎳件放進(jìn)鈍化液中,在30 ℃的溫度下進(jìn)行20 min鈍化,最后在150 ℃環(huán)境中干燥1 min。通過以上兩步的處理,能夠讓電鍍鎳件得到相應(yīng)的鈍化,降低其與空氣中氧氣的接觸,避免發(fā)生更嚴(yán)重的氧化反應(yīng)。電鍍鎳試樣鈍化前后在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為3.5%NaCl溶液中的Tafel曲線如圖1所示。

圖1 電鍍鎳試樣鈍化前后在3.5%NaCl溶液中的Tafel曲線

1.3 測試分析

對KH-550和純KH-550水解液的分子結(jié)構(gòu)進(jìn)行測量,方法如下:將純KH-550液體滴入兩個鹽片之間,使用2 mg的KH-550水解液將200 mg的純KBR研磨均勻,放入模具中,通過壓力將其壓成透明的薄片。在此需要說明的是,所使用的KH-550水解液的濃度需要達(dá)到相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn),并且所產(chǎn)生的透明薄片需要滿足實(shí)驗(yàn)的要求[2]。

2 結(jié)果與討論

2.1 KH-550的水解狀況

KH-550在水解后形成的紅外光譜在3 364.85 cm處,其﹣NH的特征吸收峰不見,在3 357.41 cm處的Si-OH強(qiáng)峰覆蓋,說明在水解后硅烷偶聯(lián)劑通過化學(xué)反應(yīng)變成了Si-OH。2 974.11 cm處的﹣CH3對稱伸縮振動吸收峰,與 2 927.34 cm-1處的﹣CH2不對稱伸縮振動吸收峰合并為一個峰,其原因是水解反應(yīng)后的硅烷偶聯(lián)劑,其中的﹣OC2H5被﹣OH所取代,內(nèi)部的分子結(jié)構(gòu)有一定的改變,而不是簡單的伸縮運(yùn)動。通過對KH-550紅外光譜的研究,能夠發(fā)現(xiàn)其水解情況。從KH-500的水解情況能夠看出,其化學(xué)性質(zhì)較為活潑,容易與其他液體發(fā)生化學(xué)反應(yīng),但是在水解后KH-550相對較為穩(wěn)定。KH-550水解前后的紅外光譜如圖2所示。

圖2 KH-550水解前后的紅外光譜

2.2 鈍化液的穩(wěn)定性

KH-550除了會發(fā)生紅外光譜的反應(yīng)外,其在水解的過程中還會存在競爭的縮合變化,也就是Si-OH基團(tuán)間的 ﹣OH反應(yīng)交聯(lián)成Si-O-Si低聚體,當(dāng)硅上的羥基數(shù)量不斷變多時,其交聯(lián)反應(yīng)就會變快,此時可以通過水和乙醇的混合液來制作成相關(guān)的水解液,這樣可以有效降低反應(yīng)速度。需要注意的是,KH-550水解后的溶劑為堿性,通過堿性的催化能夠加劇縮合反應(yīng)的進(jìn)行,并且7 d之內(nèi)水解液都可以儲存[3]。通過提升鈍化液的穩(wěn)定性,能夠有效降低硅的反應(yīng)速度,從而提高其耐腐蝕性,并且經(jīng)過與堿化溶劑相互發(fā)生作用,其水解液能夠保存更長的時間。

2.3 鈍化膜的耐蝕性

鍍鎳層在鈍化處理前后,其服飾電位具有一定的差距,其范圍大約為0.2 V,經(jīng)過鈍化后的電鍍鎳層對陰極具有極大的保護(hù)作用,使得服飾電流的密度以及發(fā)生腐蝕的速度都會大大降低,緩腐蝕在93%以上。這種方法是提高電鍍鎳層耐腐蝕性的有效手段之一,現(xiàn)實(shí)情況表明通過對鍍鎳層進(jìn)行鈍化處理后,能夠有效提高其耐腐蝕性。雖然鈍化處理具有明顯的防腐蝕效果,但是兩種鈍化膜對電鍍鎳層的保護(hù)效果并沒有明顯的區(qū)別。因此無論是從提高電鍍鎳層耐腐蝕性能,還是從保護(hù)電鍍鎳層的角度來說,將鍍鎳層進(jìn)行鈍化是行之有效的方法之一。在進(jìn)行電鍍鎳層耐腐蝕性實(shí)驗(yàn)的同時,需要加強(qiáng)對鍍鎳層進(jìn)行鈍化處理。

2.4 鈍化膜的形貌

電鍍鎳層有其特有的形貌,在對電鍍鎳層進(jìn)行研究后發(fā)現(xiàn),電鍍鎳層表面存在許多針孔,這些孔對其耐腐蝕性具有較大的影響,需要采取相應(yīng)的方法對這些孔進(jìn)行填平處理。經(jīng)硅烷偶聯(lián)劑處理后鍍鎳層的針孔被硅烷膜所覆蓋,有利于防止腐蝕的加劇,但此時鈍化膜并不是非常的均勻。不均勻的鈍化膜也會對電鍍鎳層的耐腐蝕性產(chǎn)生影響,并且鈍化劑雖然能夠有效覆蓋鍍鎳層的空隙,但是對于較小的空隙卻不能覆蓋,最終電鍍鎳層的耐腐蝕性能得到提高。所以在對電鍍鎳層進(jìn)行鈍化的同時,還需要對其表面的空隙進(jìn)行處理,以提高其耐腐蝕性能。

3 結(jié)論

硅烷偶聯(lián)劑KH-550水解后生成了硅醇,硅醇發(fā)生縮合交聯(lián)反應(yīng),水解液不穩(wěn)定。不穩(wěn)定的水解液不僅不利于長期保存,同時也會對電鍍鎳層的耐腐蝕性能產(chǎn)生影響。因此,提高電鍍鎳層耐腐蝕性的前提之一,就是要提高水解液的穩(wěn)定性。通過觀察得知電鍍鎳層的耐腐蝕性能,在經(jīng)過鈍化后有明顯提升,但是兩種鈍化膜的均勻性卻仍需提升。下一步工作的重點(diǎn)一方面是要提高電鍍鎳層的耐腐蝕性;另一方面,要對鈍化膜的均勻性進(jìn)行研究,以滿足電鍍鎳層的使用需要。

[1]張明康,穆松林,楊鴻斌,等.化學(xué)鍍鎳磷合金鍍層堿性無鉻鈍化膜的耐蝕性研究[J].電鍍與涂飾,2015,34(17):972-977.

[2]鄒敏敏.電鍍鎳層表面無鉻鈍化膜的制備及性能研究[D].長沙:中南大學(xué),2012.

[3]楊春.碳鋼化學(xué)鍍鎳層無鉻鈍化工藝的研究[J].電鍍與環(huán)保,2018(1):36-39.

TG174.44

A

10.15913/j.cnki.kjycx.2019.17.061

2095-6835(2019)17-0131-02

〔編輯:張思楠〕

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