陳 正,鄧 旭*
(電子科技大學,四川 成都 610054)
最近,研究人員試圖通過使用陶瓷和聚合物來模仿珍珠層復合材料。例如,冰模板法1,逐層排列法2,磁性片層排列法和真空過濾輔助排列法3。金屬鎳是一種具有高拉伸強度,高斷裂韌性和高熔點的金屬,是一種很好的替代品。然而,常規的滲透法不適用于制備納米層狀復合材料。滲透壓力與金屬和陶瓷界面的相互作用、熔融相的粘度和孔隙的直徑直接相關。基于此,將金屬滲透到100nm孔徑的陶瓷支架中可能需要數十千兆帕斯卡。為了解決這個問題,我們開始構建基本單體來進行處理。我們首先將金屬鎳層涂覆在氧化鋁納米片上,然后使用該“殼-核”結構鎳/氧化鋁納米片來制備仿生珍珠層金屬/陶瓷復合材料。結合超聲輔助法,在納米片層沉降后,我們可以很容易地得到具有水平排列的“殼-核”納米片層結構。在放電等離子體燒結(SPS)之后,我們成功地制造了一種輕質高強高韌的仿生珍珠層鎳/氧化鋁基復合材料[1]。
10μm氧化鋁片(Alusion?)由(Antaria Limited,Australia)提供,七水合硫酸鎳(Sigma-Aldrich),碳酸氫銨(Sigma-Aldrich),聚(乙二醇),Mn=4600(Sigma-Aldrich)
儀器和設備
超聲波浴:超聲水(Branson B5510超聲波清潔器,40 kHz)
放電等離子燒結:用于燒結的設備是SPS-625(Fuji Electronic Industrial Co.,Ltd-Sumitomo,Japan)。
材料表征
使用場發射掃描電子顯微鏡(JSM-5700F,JEOL,Japan)
機械測試
Instron 5944測試系統上,以15mm的支撐跨度進行彎曲強度和斷裂韌性測量。
“殼-核”結構鎳/氧化鋁納米片由氧化鋁納米片通過溶液法制備。氧化鋁納米片直徑為8μm~10μm,厚度為500nm~800nm,(圖1a和圖1b),直徑和厚度縱橫比約為10~20。為了在氧化鋁納米片上合成鎳殼,將氧化鋁納米片懸浮在去離子水(20g/L)中。在磁力攪拌下將七水合硫酸鎳物(0.8M)和碳酸氫銨溶液(1.5M)逐漸加入懸浮液中。繼續在室溫下攪拌12h。反應完全后,洗滌沉淀物并用去離子水過濾4次,然后在60℃下干燥12h。將干燥的片層在600℃下加熱2h,然后在700℃下氫氣還原2h。其“殼-核”結構鎳/氧化鋁納米片制備過程圖如圖1c所示。通過掃描電子顯微鏡(SEM)和能量色散X射線譜(EDS)對該納米片的形貌和元素分布進行表征。圖1d顯示鎳元素完全覆蓋在氧化鋁片表面并形成均勻的殼層[2]。
為了制備類似珍珠層結構的陶瓷/金屬復合材料,鎳/氧化鋁納米片必須水平密集地排列。在這里,我們采用了超聲輔助沉降法,使納米片層高度水平密集排列。首先,將5g金屬鎳涂覆的氧化鋁薄片懸浮在15ml,PH=4的去離子水中,加入1g聚(乙二醇)作為粘合劑。攪拌30分鐘后,將漿料轉移到內徑30mm的圓柱形鐵氟龍模具中并超聲。保持超聲輔助沉降30分鐘,然后在45℃干燥箱中干燥2天。超聲處理可以幫助納米片層水平密集排列。將干燥后的圓柱狀塊體放入內徑30mm的圓柱形模具中進行單軸靜壓。之后通過在400℃下燒結2h來去除塊體中的聚合物。單軸靜壓后的氧化鋁納米片層顯微組織的橫截面顯示在圖2b中。之后通過等離子體放電燒結(SPS)將鎳/氧化鋁納米片結合在一起并形成均勻相。鎳/氧化鋁片層復合材料在30Mpa,1100℃下燒結2分鐘。之后切割燒結的樣品,打磨拋光以進行微觀結構觀察。SEM圖如圖2c所示,暗部是金屬鎳相,亮部是氧化鋁相。通過排水法得到陶瓷相體積分數約為78%。水平排列的氧化鋁納米片在鎳相中均勻分布。(圖2d)

圖3 仿生珍珠層復合材料的機械性能
通過三點彎曲試驗測試鎳/氧化鋁復合材料的抗彎強度。樣品尺寸為總長度20mm,寬度2mm,厚度2mm。用于三點彎曲測試的樣品,需要打磨拋光以避免產生側邊裂紋。鎳/鋁復合材料的抗彎強度如圖3a所示,強度值為280±20MPa。通過單邊缺口彎曲試驗測試鎳/氧化鋁復合材料的斷裂韌性,樣品尺寸為總長度20mm,寬度2mm,厚度2mm。每個樣品使用金剛石刀片加工切口,預制切口至其厚度的約40%~45%,再使用1μm金剛石懸浮液涂抹的刀片進行預制裂紋。由最大載荷計算的初始韌性KIC為3±0.4MPa·m1/2。該KIC略高于氧化鋁的典型值。(圖3b)。

圖1 “殼-核”結構鎳/氧化鋁納米片的制備

圖2 仿生珍珠層復合材料的制備
在本文中,我們成功地制造了基于鎳/氧化鋁納米片的仿生珍珠層復合材料并進行力學性能表征。首先通過溶液法制備“殼-核”結構單體,然后結合超聲輔助沉降法使片層高度取向排列,最后通過放電等離子體燒結(SPS)處理,得到金屬/陶瓷層狀結構復合材料,隨著進一步改進,輕質高強高韌的仿生珍珠層陶瓷金屬復合材料可具有廣泛的應用[3]。