KLA發(fā)布全新缺陷檢測(cè)與檢視產(chǎn)品組合

本報(bào)訊7月9日，KLA公司發(fā)布392x和295x光學(xué)缺陷檢測(cè)系統(tǒng)和eDR7380電子柬缺陷檢視系統(tǒng)。這些全新的檢測(cè)系統(tǒng)是該公司旗艦產(chǎn)品系列——圖案晶圓平臺(tái)的進(jìn)一步拓展，其檢測(cè)速度和靈敏度均有提升，代表了光學(xué)檢測(cè)的新水準(zhǔn)。全新電子束檢視系統(tǒng)的創(chuàng)新使其自身價(jià)值進(jìn)一步穩(wěn)固，并成為缺陷和發(fā)現(xiàn)其產(chǎn)生根源之間的必要一環(huán)。對(duì)于領(lǐng)先的3DNAND、DRAM和邏輯集成電路（IC），該產(chǎn)品組合將縮短整個(gè)產(chǎn)品周期，加快其上市時(shí)間。

“為了有利潤地制造下一代內(nèi)存和邏輯芯片，對(duì)所需的制程控制要求之高也是前所未有的?！盞LA國際產(chǎn)品部執(zhí)行副總裁Ah-mad Khan說，“元件結(jié)構(gòu)變得更小、更窄、更高、更深，并且形狀更為復(fù)雜，以及材料更為新穎。將缺陷與其他無害的物理變化分開，已成為一個(gè)非常棘手的難題。我很高興地宣布我們的光學(xué)和電子束工程團(tuán)隊(duì)開發(fā)了一系列創(chuàng)新的系統(tǒng)，將缺陷的檢測(cè)和檢視相結(jié)合，這將推動(dòng)我們的行業(yè)繼續(xù)向前發(fā)展?！?/p>