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屏蔽線(網(wǎng))不同的架設(shè)方式改善架空輸電線路工頻電場分布研究

2019-11-27 02:40:12陳曦鳴王炎煒
通信電源技術(shù) 2019年11期

陳曦鳴,王炎煒

(1.安徽電力工程監(jiān)理有限公司,安徽 合肥 230022;2.華北電力大學(xué) 河北省輸變電設(shè)備安全防御重點實驗室,河北 保定 071003)

0 引 言

隨著輸電線路工程的建設(shè),架空輸電線路將進入公共區(qū)甚至進入城市地區(qū)。輸電線路引起的電磁污染將影響線路附近的居民,這種影響引起了社會各界的廣泛關(guān)注,輸電線路引起的環(huán)境投訴和糾紛也有所增加[1-2]。因此,降低輸電線路電場強度的方法已成為環(huán)境保護和能源部門的一個重要問題。自1972年國際大電網(wǎng)會議召開以來,國內(nèi)外對高壓輸電線路引起的電磁環(huán)境污染的研究和電場相關(guān)的計算方法得到了廣泛研究[3-14],多是研究如何計算和測量工頻電場強度,但是對于抑制電場強度的研究很少。

對于已建成和運行中的輸電線路,通常很難調(diào)整輸電線路參數(shù)。因此,有必要降低輸電線路下的電場強度,特別是有人員定期活動或有特殊需要時,必須將輸電線路下的電場控制在一定范圍。這種情況下,可以在相導(dǎo)體和地面之間安裝屏蔽線或屏蔽網(wǎng),降低電場強度。本文基于CDEGS軟件建立高壓架空輸電線路工頻電場三維仿真計算模型,研究架設(shè)屏蔽線和屏蔽網(wǎng)改善高壓輸電線路下方工頻電場的效果,分析討論屏蔽線架設(shè)高度、橫向位置、根數(shù)以及屏蔽網(wǎng)網(wǎng)格數(shù)等對線路下方及表面工頻電場影響的規(guī)律和特征。

1 CDEGS理論基礎(chǔ)

CDEGS軟件是以電磁理論為基礎(chǔ)的工程商業(yè)軟件,廣泛應(yīng)用于電磁干擾研究和接地系統(tǒng)設(shè)計分析。此外,CDEGS可計算輸電線路的電磁場環(huán)境并可進行實驗驗證,因此該軟件既能結(jié)合實驗反映線路間的電磁耦合,又能反映線路接地體的狀態(tài)。CDEGS軟件應(yīng)用的理論基礎(chǔ)為矩量法。矩量法是一種將連續(xù)方程離散化為代數(shù)方程組的方法,對求解微分方程和積分方程均適用。

已知邊界條件為:

設(shè)在給定邊界條件的場方程統(tǒng)一表達式為:

式(2)為算子方程,L為線性算子。設(shè)待求函數(shù)u的近似解為,則誤差(又稱余量)為:

取一組權(quán)函數(shù)集合{W},令:

按式(4)所構(gòu)成的求解積分或微分方程近似解的方法統(tǒng)稱為加權(quán)余量法。式(4)中按給定權(quán)函數(shù)展開,意味著余量對Wj取矩的一組平衡式,故,也被稱為矩量法。

2 屏蔽線對線下場強的改善

架設(shè)屏蔽線的根數(shù)、高度、距線路中心的水平距離等,都對改善效果都很大影響。因此,本節(jié)基于CDEGS軟件建立如圖1所示的線路,分析架設(shè)屏蔽線后對線下場強的改善作用,并實施各種不同屏蔽線架設(shè)方案的情況進行仿真計算,以分析比較屏蔽線架設(shè)的最優(yōu)方案。屏蔽線(網(wǎng))的架設(shè)方法如圖1所示。

圖1 屏蔽線(網(wǎng))架設(shè)位置示意圖

2.1 屏蔽線水平距離的影響

圖2為在水平位置-10 m、-12 m、-14 m、-16 m、-18 m處分別架設(shè)一根屏蔽線(高20 m)后,輸電線下方電場強度的水平分布。由圖2可見,當(dāng)在水平位置-18~-10 m之間架設(shè)屏蔽線后,在架設(shè)屏蔽線的一側(cè),線下電場強度改善明顯,且電場強度隨水平位置的增大而減小。

圖3為在水平位置-18 m、-20 m、-22 m、-24 m、-26 m處分別架設(shè)一根屏蔽線(高20 m)后,輸電線下方電場強度的水平分布。由圖3可見,當(dāng)在水平位置-26~-18 m之間架設(shè)屏蔽線后,在架設(shè)屏蔽線的一側(cè)線下電場強度較另一側(cè)有明顯改善,但此時電場強度隨水平位置的增大而呈增大趨勢。當(dāng)屏蔽線水平位置較遠時,圖4為水平距離為40 m、50 m時,線下的電場強度分布曲線趨近于原始未架設(shè)屏蔽線時的電場強度分布。

表1 屏蔽線不同對地高度時線下的最大場強值

2.2 屏蔽線高度的影響

考慮在雙回特高壓交流輸電線路外側(cè)屏蔽線處于不同高度對地面電場強的影響,建立屏蔽線距雙回特高壓交流輸電線路中心30 m處不同高度的電場強度,最大值見表1。屏蔽線在14 m增高至22 m時,線下場強的最大值在下降,而當(dāng)屏蔽線在22 m增高至26 m時,線下場強的最大值卻呈上升趨勢。因此,對于臨近雙回特高壓交流輸電線路時,為有效降低地面電場強度分布,屏蔽線的高度不可過高,應(yīng)找到屏蔽效果最優(yōu)的高度為宜。

圖2 架設(shè)屏蔽線水平位置不同時的電場強度橫向分布

圖3 架設(shè)屏蔽線水平位置不同時的電場強度橫向分布

圖4 架設(shè)屏蔽線水平位置不同時的電場強度橫向分布

2.3 屏蔽線根數(shù)的影響

圖5為分別架設(shè)1、2、3、4、5、6、7、8根屏蔽線(高20 m,水平位置在-18 m左邊每隔1 m處)后,輸電線下方電場強度的水平分布。由圖5可見,架設(shè)了屏蔽線一側(cè)的電場強度大幅減小,而未架設(shè)屏蔽線一側(cè)基本沒有改變;電場強度的減小程度隨著屏蔽線的根數(shù)的增加而增加,但并不成正比,在一定范圍內(nèi)減小的程度顯著,后減小程度逐漸緩慢。當(dāng)架設(shè)1根屏蔽線時,最大場強減小了0.83 kV/m;分別架設(shè)2根、3根屏蔽線后,最大場強依次減小0.37 kV/m、0.25 kV/m,而后屏蔽線數(shù)目依次增大場強仍有減小,但減小速度依次降低。因此,考慮到經(jīng)濟因素,對于一般需要降低場強的區(qū)域只需架設(shè)4根屏蔽線即可將最大場強降低到50%。若對場強要求更嚴(yán)格,可再增加適當(dāng)數(shù)量的屏蔽線。

圖5 架設(shè)屏蔽線不同數(shù)目時的電場強度橫向分布

3 屏蔽網(wǎng)對線下場強的改善

為研究屏蔽網(wǎng)的屏蔽效果,對架設(shè)屏蔽網(wǎng)和屏蔽線的計算結(jié)果進行分析和比較。以圖6所示導(dǎo)體搭建的簡易屏蔽網(wǎng)為例,在水平位置-18 m、高20 m時架設(shè)一根屏蔽線和架設(shè)不同寬度的簡易屏蔽網(wǎng)的線下電場分布如圖7示。

圖6 簡易屏蔽網(wǎng)示意圖

圖7 簡易屏蔽網(wǎng)不同寬度的電場強度橫向分布

圖7中,曲線1為在水平位置-18 m、高20 m時,架設(shè)一根屏蔽線時的線下電場強度分布,最大電場強度為2.50 kV/m,而架設(shè)寬為2 m的簡易屏蔽網(wǎng)后,線下最大電場強度為2.07 kV/m,場強橫向分布如曲線2所示,場強分布改善良多。增大簡易屏蔽網(wǎng)的寬度后,雖然線下的最大電場強度依次降為2.03 kV/m、2.01 kV/m,但是場強分布改善較小。由圖7可見,對于線下場強分布較為強烈的地區(qū),可選用簡易屏蔽網(wǎng)達到較好的屏蔽效果,但寬度不宜過寬,否則將帶來過大的經(jīng)濟損耗和技術(shù)難度。

將屏蔽網(wǎng)看做a×b網(wǎng)格,其中a為寬的格子數(shù),b為長的格子數(shù)。為詳細研究屏蔽網(wǎng)網(wǎng)格數(shù)目的屏蔽效果,對架設(shè)屏蔽網(wǎng)的不同網(wǎng)格數(shù)目計算結(jié)果進行分析和比較。在水平位置-18 m、高20 m時,屏蔽網(wǎng)寬2 m,長300 m,架設(shè)屏蔽網(wǎng)的網(wǎng)格數(shù)目分別為1×1、2×10、4×10、40×40時的線下電場強度分布如圖8所示。線下的電場強度分布依次降低,最大電場強度依次為2.07 kV/m、1.74 kV/m、1.56 kV/m、1.37 kV/m,場強分布隨著屏蔽網(wǎng)的網(wǎng)格數(shù)目增多而降低。

圖8 屏蔽網(wǎng)不同網(wǎng)格數(shù)目的電場強度橫向分布

在水平位置-18 m、高20 m時,屏蔽網(wǎng)寬2 m,長300 m,架設(shè)屏蔽網(wǎng)的網(wǎng)格數(shù)目分別為2×10、4×10、2×40時的線下電場強度分布如圖9所示。由圖9可見,屏蔽網(wǎng)網(wǎng)格數(shù)目增多時,線下的電場強度均有所改善,但最大電場強度依次為1.74 kV/m、1.56 kV/m和1.69 kV/m,屏蔽網(wǎng)網(wǎng)格數(shù)目為2×40時,電場強度比屏蔽網(wǎng)網(wǎng)格4×10時的電場強度大,可見屏蔽網(wǎng)格a的網(wǎng)格數(shù)越多,越能有效降低線下的電場強度。

圖9 屏蔽網(wǎng)不同網(wǎng)格數(shù)目的電場強度橫向分布

在水平位置-18 m、高20 m時,屏蔽網(wǎng)為2 m×300 m,架設(shè)屏蔽網(wǎng)的網(wǎng)格數(shù)目分別為2×40、4×40、40×40時的線下電場強度分布如圖10所示。由圖10可見,僅增多a的網(wǎng)格數(shù)目時,線下的電場強度均有所改善,線下的最大電場強度依次為1.69 kV/m、1.55 kV/m、1.37 kV/m。電場強度隨著屏蔽網(wǎng)a的網(wǎng)格數(shù)目增多而下降,與上述分析結(jié)果一致。

圖10 屏蔽網(wǎng)寬度不同網(wǎng)格數(shù)目的電場強度橫向分布

4 結(jié) 論

本文建立高壓架空輸電線路工頻電場三維仿真計算模型,分析討論屏蔽線架設(shè)高度、橫向位置、根數(shù)以及屏蔽網(wǎng)網(wǎng)格數(shù)等對線路下方及表面工頻電場影響的規(guī)律和特征,得到如下結(jié)論:

(1)屏蔽線(網(wǎng))的架設(shè)可以改善輸電線路下方的電場;

(2)增大屏蔽線水平距離,輸電線路下方的電場強度先減小后增大,橫向布置上存在最佳位置;

(3)屏蔽線的高度較低時,能夠有效降低局部區(qū)域電場強度,但范圍較小;增大屏蔽線的高度,輸電線路下方最大電場先減小后增大,縱向布置上存在最佳位置;

(4)工頻電場強度的減小程度隨著屏蔽線根數(shù)的增加而增加,但并不成正比,在一定范圍內(nèi)減小程度顯著,以后減小的程度逐漸緩慢;考慮到經(jīng)濟因素,一般以4根為宜;

(5)對于線下場強分布較為強烈的地區(qū),選用屏蔽網(wǎng)可以達到較好的屏蔽效果,其中電場強度隨著屏蔽網(wǎng)的網(wǎng)格數(shù)目增多而下降。

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