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全譜直讀等離子發(fā)射光譜儀在二氧化硅測(cè)定中的應(yīng)用

2021-03-08 04:00:12
中國(guó)金屬通報(bào) 2021年24期
關(guān)鍵詞:二氧化硅分析

李 健

(四川省冶金地勘院測(cè)試公司,四川 成都 610000)

二氧化硅是巖石礦物中的主要造巖元素,二氧化硅的檢測(cè)在地質(zhì)找礦和礦物冶煉中具有重要意義。因此,對(duì)二氧化硅的測(cè)定尤為重要。現(xiàn)目前,在我國(guó)測(cè)試分析行業(yè)中,二氧化硅的檢測(cè)仍以化學(xué)法為主,主要有動(dòng)物膠凝聚重量法、氟硅酸鉀容量法、分光光度法等。這些檢測(cè)方法雖有檢測(cè)成本低、結(jié)果準(zhǔn)確等特點(diǎn),但操作繁瑣,實(shí)驗(yàn)條件要求苛刻,并且對(duì)環(huán)境的污染比較大。采用等離子體發(fā)射光譜法測(cè)定巖石礦物中的二氧化硅,通過(guò)研究樣品的分解方法和儀器的操作參數(shù),制定了等離子體發(fā)射光譜法測(cè)定巖石礦物中二氧化硅含量的操作規(guī)程,分析方法的標(biāo)準(zhǔn)曲線范圍為0-200μg/mL,使用多個(gè)國(guó)家一級(jí)標(biāo)準(zhǔn)樣品分別進(jìn)行全譜直讀等離子體發(fā)射光譜法與分光光度法的分析測(cè)試,兩種分析方法的檢測(cè)結(jié)果一致,且與標(biāo)準(zhǔn)值相符,精密度(n=6)RSD%<6%。

1 iCAP6300全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀

全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀主要應(yīng)用于環(huán)保、金屬、食品、地球化學(xué)等行業(yè),能同時(shí)測(cè)定地球化學(xué)樣品中的多種元素,如地殼巖石中的硅、鋁、鉀、鈉、鈣、鎂、釩、銅、鉛、鋅、鈷、鎳、稀土元素、稀有分散元素、土壤速效鉀、土壤緩效鉀、土壤有效銅鋅鐵錳、土壤有效硫等。iCAP6300是目前全世界體積最小的臺(tái)式全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀,系統(tǒng)提供兼容于Windows2000/XP操作系統(tǒng)的TEVA PC操作軟件。該軟件提供方便訪問(wèn)的操作界面平臺(tái),使得操作者在建立分析方法(增加、減少波長(zhǎng),增加、減少元素、扣干擾、扣背景等)、分析測(cè)試試樣和測(cè)試完成后的數(shù)據(jù)處理上都非常方便、直觀的圖形用戶界面結(jié)合整體的SQL服務(wù)器和以太網(wǎng)連接技術(shù)、提供多譜線參照的內(nèi)標(biāo)功能并具備多種不同的報(bào)告格式,具有獨(dú)特的智能攝譜研究系統(tǒng),可永久保存光譜圖,以便日后確定尚未分析的元素,該款儀器是地質(zhì)實(shí)驗(yàn)測(cè)試中不可多得的好幫手。

2 操作實(shí)驗(yàn)

2.1 原理

試樣用經(jīng)碳酸鈉熔融、鹽酸浸取,蒸發(fā)至濕鹽狀,加鹽酸,用動(dòng)物膠凝聚硅酸,過(guò)濾,稱重。加氫氟酸、硫酸處理,使硅以四氟化硅形式除去,再灼燒稱重。處理前后質(zhì)量之差即為沉淀中的二氧化硅含量。殘?jiān)媒沽蛩徕浫廴冢崛〔⑷攵趸铻V液中。經(jīng)解聚后用鉬藍(lán)光度法測(cè)定濾液中殘余的二氧化硅含量,兩者之和即為試樣中二氧化硅含量。同時(shí),分取部分濾液,鹽酸酸化,用全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定殘余的二氧化硅含量。

2.2 儀器722S紫外-可見(jiàn)分光光度計(jì)

iCAP6300全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀。

2.3 試劑

(1)無(wú)水碳酸鈉,分析純。

(2)過(guò)氧化鈉,分析純。

(3)硼酸,分析純。

(4)焦硫酸鉀,分析純。

(5)甲醇,分析純。

(6)無(wú)水乙醇,分析純。

(7)濃鹽酸(ρ1.19g/mL),分析純。

(8)氫氟酸(ρ1.15g/mL),分析純。警告:氫氟酸有毒并有腐蝕性,作時(shí)應(yīng)戴手套,防止皮膚接觸。

(9)硝酸(ρ1.42g/mL),分析純。

(10)硫酸,分析純。警告:不當(dāng)?shù)南♂屢装l(fā)生危險(xiǎn)!

(11)鉬酸銨溶液(50g/L),存于塑料瓶中。

(12)氫氧化鈉溶液(100g/L),存于塑料瓶中。

(13)動(dòng)物膠溶液(10g/L),稱取1g動(dòng)物膠溶解于70℃的100mL水中,用時(shí)現(xiàn)配。

(14)抗壞血酸溶液(50g/L),用時(shí)現(xiàn)配。

(15)二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)溶液(20.0ρg/mL)。

(16)硝酸銀溶液(10g/L),保存于棕色瓶中。

(17)酚酞指示劑(1g/L),稱取0.1g酚酞溶解于100mL乙醇中。

2.4 分析與操作

(1)稱取1.0000g試樣于預(yù)先盛有6g無(wú)水碳酸鈉的鉑坩堝中,攪勻,再覆蓋1g無(wú)水碳酸鈉。蓋上鉑坩堝蓋,放入高溫爐中,于1000℃熔融40min,取出冷卻。

(2)用濾紙擦凈坩堝外壁,放入250mL燒杯中,蓋上表面皿,慢慢加入50mL(1+1)鹽酸,待劇烈反應(yīng)停止后,加熱使熔塊脫落,洗出坩堝和坩堝蓋。如有結(jié)塊,用玻璃棒壓碎。架上玻璃三角架后蓋上表面皿,放在沸水浴上蒸發(fā)至濕鹽狀,取下冷卻,用玻璃棒壓碎鹽類,加20mL濃鹽酸,加熱微沸1min,將燒杯置于70℃,水浴中,加入10mL動(dòng)物膠溶液,充分?jǐn)嚢?min,并在水浴上保持10min,取下用水沖洗表面皿,加水至約40mL,攪拌使可溶性鹽類溶解,用中速定量濾紙過(guò)濾,濾液收集于250mL容量瓶中,將沉淀全部轉(zhuǎn)入濾紙上,用(5+95)鹽酸洗滌沉淀與燒杯各數(shù)次,并用橡皮擦頭和一小片濾紙擦凈玻璃棒和燒杯,再用水洗沉淀和濾紙至無(wú)氯離子(用硝酸銀溶液檢查)。

(3)將濾紙連同沉淀放入鉑坩堝中,低溫灰化。將鉑坩堝放入高溫爐中,在1000℃灼燒1h,取出稍冷卻后,放入干燥器中,冷卻20min,稱重。再在同樣溫度下反復(fù)灼燒30min直至恒重。沿坩堝壁加3滴~5滴水潤(rùn)濕沉淀,加10滴(1+1)硫酸、5mL氫氟酸(ρ1.15g/mL),加熱蒸發(fā)至白煙冒盡,將坩堝連同殘?jiān)糜?000℃的高溫爐中灼燒30min,取出稍冷卻后,放入干燥器中,冷卻20min,稱重。再在同樣溫度下反復(fù)灼燒30min直至恒重。兩次稱重量之差為沉淀中二氧化硅量。

(4)殘?jiān)?g~2g焦硫酸鉀在600℃~700℃熔融5min,加幾毫升水及幾滴(1+1)鹽酸加熱溶解,并入收集濾液的250mL容量瓶中,冷卻至室溫,用水稀釋至刻度,搖勻,放置待測(cè)。此為濾液A。

(5)分光光度法測(cè)定濾液中的二氧化硅含量:分取10mL濾液A置于50mL聚四氟乙烯燒杯中,加10mL氫氧化鈉溶液,攪勻。置于電熱板上加熱微沸數(shù)分鐘,取下冷卻,加1滴酚酞指示劑,先用濃鹽酸中和大量的堿,再用1mol/L鹽酸中和至紅色褪去并過(guò)量6mL,移入100mL容量瓶中。此為試液B。

取0mL、1mL、2mL、3mL、4mL、5mL二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)溶液,置于一系列盛有10mL1mol/L鹽酸的100mL容量瓶中,加水至40mL左右。此為試液C。

向試液B和試液C中加10mL無(wú)水乙醇,搖勻。加5mL鉬酸銨溶液,搖勻。放置20min后,加10mL(1+1)硫酸,搖勻。放置10min,加5mL抗壞血酸溶液,搖勻。用水稀釋至刻度,搖勻。放置1h后,在分光光度計(jì)上,用2cm比色皿,波長(zhǎng)660nm處以試劑空白為參比測(cè)量吸光度。

以濃度為橫坐標(biāo),吸光度為縱坐標(biāo),繪制標(biāo)準(zhǔn)曲線。從校準(zhǔn)曲線上查得相應(yīng)的二氧化硅含量即為濾液中的二氧化硅含量。

(6)全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定濾液中的二氧化硅含量:以濾液空白為底液,配置好二氧化硅標(biāo)準(zhǔn)溶液0μg/mL、50μg/mL,使用iCAP6300全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀在波長(zhǎng)251.6nm處測(cè)定濾液A中的二氧化硅含量(如若溶液鹽分含量過(guò)高,儀器測(cè)定就會(huì)不穩(wěn)定)。

將沉淀中的二氧化硅含量與濾液中的二氧化硅含量相加,即為樣品中的二氧化硅含量。

3 數(shù)據(jù)處理及對(duì)比

經(jīng)過(guò)測(cè)定,50mg/L二氧化硅溶液在全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀波長(zhǎng)251.6nm處的強(qiáng)度達(dá)到6000左右,非常穩(wěn)定,線性范圍也很廣(可以達(dá)到200mg/L),并且背景也非常明顯、沒(méi)有其它元素的譜線干擾、峰形非常完美,很容易分辨。如圖1和圖2所示。

圖1 二氧化硅中元素參數(shù)測(cè)定圖

圖2 二氧化硅溶液在全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀中的波長(zhǎng)測(cè)定圖

以下是分光光度法測(cè)定二氧化硅的標(biāo)準(zhǔn)曲線和線性圖,雖然線性相關(guān)系數(shù)都很好,但是它的線性范圍小,只適合測(cè)定一些二氧化硅結(jié)果含量比較接近的樣品,一旦超出這個(gè)線性范圍,就要進(jìn)行稀釋,或者重新取樣再加顯色劑再在分光光度計(jì)上進(jìn)行分析測(cè)定。如圖3所示。

圖3 SiO2線形圖

將全譜直讀等離子體發(fā)射光譜法的分析結(jié)果與分光光度法的分析結(jié)果進(jìn)行對(duì)比,獲得以下數(shù)據(jù):見(jiàn)表1。

表1 全譜直讀等離子體發(fā)射光譜法的分析與分光光度法分析結(jié)果對(duì)比

所分光光度法與全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定的分析結(jié)果間的相對(duì)偏差的絕對(duì)值都小于允許相對(duì)偏差,完全符合DZ/T0130-2006《地質(zhì)狂插實(shí)驗(yàn)室測(cè)試質(zhì)量管理規(guī)范》中第三部分:巖石礦物樣品化學(xué)成分分析的質(zhì)量控制要求。

通過(guò)對(duì)比,說(shuō)明使用全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定濾液中的二氧化硅含量,是可行的。

地質(zhì)礦產(chǎn)實(shí)驗(yàn)測(cè)試中,低含量的二氧化硅一般采用的都是鉬藍(lán)分光光度法。這個(gè)方法是非常經(jīng)典的,雖然分析出來(lái)的結(jié)果再現(xiàn)性好且準(zhǔn)確,但是要用到大量的化學(xué)試劑,一是成本高,容易給分析測(cè)試單位造成負(fù)擔(dān)(購(gòu)買化學(xué)試劑、廢液處理及排放等),二是鉬酸銨等試劑使用后很難徹底將廢液中的鉬元素處理干凈,一旦排放出去很容易對(duì)周圍環(huán)境和水體造成污染,三是分光光度法分析時(shí)間長(zhǎng)、操作復(fù)雜,很難進(jìn)行大量的分析測(cè)試工作,一旦此類樣品數(shù)量稍多,就會(huì)嚴(yán)重影響分析測(cè)試工作的進(jìn)度,送樣單位即客戶也不能盡快拿到分析測(cè)試結(jié)果,從而影響我公司的業(yè)務(wù)和聲譽(yù)。但是使用全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定二氧化硅含量的話,就可以大大減少化學(xué)試劑的使用(只使用過(guò)氧化鈉、碳酸鈉、焦硫酸鉀、鹽酸等幾種試劑,這幾種試劑在進(jìn)行廢液處理時(shí)也比較容易),并且全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定二氧化硅含量所用的時(shí)間是分光光度法分析測(cè)試所用時(shí)間的五分之三甚至二分之一,這就大大提高了分析測(cè)試工作的效率,再加上全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定的結(jié)果也準(zhǔn)確、穩(wěn)定,所以我想到了使用全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定二氧化硅含量。

除了以上數(shù)據(jù)我還將一些二氧化硅含量較低的碳酸鹽、灰?guī)r進(jìn)行了堿熔、酸化,然后稀釋交給全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀進(jìn)行測(cè)定,測(cè)定后的結(jié)果完全符合DZ/T0130-2006《地質(zhì)礦產(chǎn)實(shí)驗(yàn)室測(cè)試質(zhì)量管理規(guī)范》中第三部分:巖石礦物樣品化學(xué)成分分析的質(zhì)量控制要求。

4 分析注意事項(xiàng)

(1)全譜直讀等離子體發(fā)射光譜法測(cè)定溶液中的二氧化硅含量,所用的標(biāo)準(zhǔn)溶液,必須用測(cè)定溶液的同底空白進(jìn)行配置,以保證測(cè)定溶液與標(biāo)準(zhǔn)溶液中酸度和可溶鹽含量的一致性。

(2)熔融樣品時(shí)一定要定量加入無(wú)水碳酸鈉和過(guò)氧化鈉,這樣就能保證測(cè)定溶液中酸度和可溶鹽含量的一致性。

(3)加入熔樣試劑無(wú)水碳酸鈉和過(guò)氧化鈉前,一定要保證無(wú)水碳酸鈉為較為均勻的粉末,并要全部將樣品蓋住。

(4)浸取熔融物前,一定要用濾紙將坩堝外壁擦拭干凈,避免帶入外部殘?jiān)ㄒ驗(yàn)橛泻芏嗉?xì)小的粉塵時(shí)肉眼看不到的),使得分析結(jié)果偏高。

(5)浸取熔融物時(shí),先用表面皿將燒杯蓋住,然后再將鹽酸溶液加入坩堝中,避免因熔融物的劇烈反應(yīng),使得樣品飛濺出燒杯,是結(jié)果偏低。

(6)儀器測(cè)定前,全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀一定要穩(wěn)定足夠的時(shí)間,以免因儀器不穩(wěn)定造成重復(fù)分析測(cè)試。

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