離子束刻蝕改善光通信濾光膜均勻性的研究

張靜，劉海成，付秀華，2，王升耆，楊飛

（1 長春理工大學(xué) 光電工程學(xué)院，長春 130022）

（2 長春理工大學(xué)中山研究院，廣東 中山 528436）

（3 光馳科技（上海）有限公司，上海 200444）

（4 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所，長春 130033）

0 引言

光通信技術(shù)的飛速發(fā)展對通信器件的需求不斷增加，密集波分復(fù)用技術(shù)（Dense Wavelength Division Multiplexing，DWDM）可以使光纖通信系統(tǒng)的容量成倍增加，具有廣闊的應(yīng)用前景。窄帶濾光膜在光纖通信的復(fù)用與解復(fù)用器件中起到重要作用，如何設(shè)計并制備通帶窄、通帶內(nèi)波紋小、插入損耗低、截止帶的透射隔離度大、尺寸大、效率高滿足現(xiàn)代光通信技術(shù)要求的窄帶濾光膜，成為行業(yè)內(nèi)亟待解決的問題。

2016 年，SCHOLTZ L 等研究了界面粗糙度和溫度變化對下一代密集波分復(fù)用無源光網(wǎng)絡(luò)（Dense Wavelength Division Multiplexing Passive Optical Networks，DWDM-PON）的下游通道阻塞濾波器最終透射率的影響［1］。2019 年，KATIA S 等針對多空間模式光子計數(shù)檢測器抑制光學(xué)背景噪聲這一需求，設(shè)計了在1 550 nm 處插入損耗小于0.7 dB 的窄帶濾波片，并對頻譜帶寬、空間帶寬、濾波器插入損耗和溫度引起的性能變化進行了研究［2］。2019 年，石澎等采用離子束濺射技術(shù)，設(shè)計了含有12 個諧振腔的帶通濾光膜，分析并解決了耦合層膜厚監(jiān)控的問題［3］。2019 年，張金豹等基于規(guī)整全介質(zhì)窄帶濾光膜系初始結(jié)構(gòu)，利用薄膜厚度誤差修正因子階躍式微小躍變思想，對變形光譜曲線進行擬合反演［4］。

目前國內(nèi)外對DWDM 濾光膜的研究較為成熟，但多數(shù)采用濺射成膜的方式，對于熱蒸發(fā)制備DWDM濾光膜的報道較少，熱蒸發(fā)成膜時膜料沉積速率大，所用時間相對較少，具有研究意義。……