低濃度溶液中金的旋流電積

陳俊雪，李中林，王 丁，吳成志，廖貴朗，李義兵

(桂林理工大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院，廣西 桂林 541000)

目前，從含金溶液中回收金主要有置換法、電沉積法、活性炭吸附法、溶劑萃取法、離子交換法等[1-2]。其中，電沉積法研究較多，氰化浸出液、硫脲浸出液及碘化浸出液等都有用電沉積法回收金的研究[3-6]。然而，對(duì)于金濃度低或離子組分復(fù)雜的含金溶液，采用電沉積法時(shí)金回收率不很理想[7-8]。

旋流電積法通過高速液流消除濃差極化等對(duì)電積不利因素，在低濃度、目標(biāo)金屬和非目標(biāo)金屬濃度差較小的多金屬溶液體系中實(shí)現(xiàn)對(duì)目標(biāo)金屬的選擇性電積，具有高選擇性、高電流效率、高產(chǎn)品回收率等特點(diǎn)[9-11]。這種電沉積技術(shù)已用于鈀、銠、金和銀等貴金屬的提取[12-13]；但有關(guān)其用于從低濃度溶液中電積金的研究尚未見有文獻(xiàn)報(bào)道。因此，以配制的低濃度金溶液為對(duì)象，研究了采用旋流電積法回收金，以期為低濃度金溶液中金的回收提供一種可供選擇的方法。

1 試驗(yàn)部分

1.1 試驗(yàn)原料

低濃度含金溶液：以金標(biāo)準(zhǔn)溶液(1 000 μg/mL)稀釋至所需濃度。

1.2 旋流電積裝置及工作原理

旋流電積裝置和電解槽示意如圖1所示。

圖1 旋流電積裝置和電解槽示意

陰極為鈦板，面積0.04 m2。旋流電積裝置的核心部分為電解槽。金溶液從電解槽底部切向流入，并在槽內(nèi)壁形成螺旋向上流動(dòng)。金溶液在螺旋上升過程中，Au3+向陰極運(yùn)動(dòng)并在陰極得到電子而沉積析出[12-13]。電解液的高速循環(huán)流動(dòng)，極大地加強(qiáng)了電解液傳質(zhì)，有效消除了濃差極化，可以實(shí)現(xiàn)從低濃度、復(fù)雜溶液中高效選擇性提取目標(biāo)金屬，對(duì)金屬濃度范圍有更寬的適應(yīng)性。……