專利名稱:一種氮化鉬/氧化鈰復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用

專利申請(qǐng)?zhí)?CN201911024347.9

公開號(hào):CN110721720A

申請(qǐng)日：2019.10.25

公開日：2020.01.24

申請(qǐng)人:山東大學(xué)

本發(fā)明提供一種氮化鉬/氧化鈰復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用。所述復(fù)合材料包括氧化鈰納米薄層,以及負(fù)載在氧化鈰納米薄層表面的多孔片狀氮化鉬。本發(fā)明通過引入氧化鈰納米薄層,并在其表面生長了片狀結(jié)構(gòu)的氮化鉬,提高了氮化鉬催化劑的分散性,增加了氮化鉬表面的反應(yīng)活性位點(diǎn);并且氧化鈰層可以增加對(duì)水的吸附與解離,從而提高整個(gè)電極體系的電催化活性,該電極的制作原料成本低,制備方法簡單,可以大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn),在實(shí)際應(yīng)用中具有潛在的應(yīng)用前景。