奧美拉唑碳酸氫鈉干混懸劑雜質分析

【摘要】目的：對奧美拉唑碳酸氫鈉干混懸劑產生的雜質進行分析。方法：LC-MS法，辛烷基鍵合硅膠柱。結果：經LC-MS數據分析，奧美拉唑碳酸氫鈉干混懸劑共產生5種雜質。結論：該方法能推斷出樣品中雜質的結構和來源。

【關鍵詞】奧美拉唑碳酸氫鈉；LC-MS；雜質分析

【DOI編碼】10.3969/j.issn.1674-4977.2024.04.006

Analysis of Impurities in Sodium Bicarbonate Dry Suspension

PAN Li， ZHONG Kanzhi

（Haikou Pharmaceutical Factory Co.， Ltd.， Haikou 570311， China）

Abstract： Objective： To analyze the impurities produced by forced degradation of omeprazole sodium bicarbonate dry suspension. Methods： Silica gel column is bonded with octyl by LC-MS method. Results： By LC-MS spectrum analysis， 5 impurities are produced of omeprazole sodium bicarbonate. Conclusion： This method can infer the structure and source of the impurities in the sample.

Keywords： omeprazole sodium bicarbonate； LC-MS； impurity analysis

奧美拉唑是一種取代苯并咪唑類質子泵抑制劑，可通過特異性抑制胃壁細胞質子泵，減少胃酸分泌。奧美拉唑在酸性條件下不穩定，極易被胃酸降解。奧美拉唑碳酸氫鈉干混懸劑是一種速釋干混懸劑配方，其中包括了抑酸成分（碳酸氫鈉），可以增加胃酸的pH值從而保護奧美拉唑不被酸降解。

1儀器與試藥

安捷倫公司的Agilent 6540 LC/MS，色譜柱：辛烷基鍵合硅膠柱（4.6 mm×250 mm，5μm），色譜乙腈，水，樣品（200711批）。

2雜質分析

2.1色譜條件

流動相A：0.01 mol/L乙酸銨（調節pH值至6.9）；流動相B∶乙腈-水（80∶20）；進樣量：20μL；檢測波長：280 nm；柱溫：40℃；流速：1.0 mL/min。梯度洗脫程序見表1。

2.2質譜條件

離子源：ESI源（+）、（-）；去溶劑氣：N2；干燥氣溫度： 300℃；干燥氣流速：5 L/min；鞘氣溫度：350℃；鞘氣流速：5 L/min；霧化氣壓力：45 psig（約310 kPa）；掃描范圍：80～1000。

2.3實驗操作

1）雜質混合溶液的制備

精密稱取雜質A對照品1.01 mg、雜質B對照品1.05 mg、雜質C對照品0.98 mg、雜質D對照品0.95 mg、雜質E對照品0.95 mg、雜質F對照品1.03 mg、雜質G對照品0.99 mg、雜質H對照品1.06 mg、雜質I對照品1.03 mg，置于同一10 mL量瓶中，加溶劑（流動相A∶流動相B=75∶25）溶解并稀釋至刻度，搖勻，再精密移取上述溶液1.0 mL置于100 mL量瓶中，加溶劑稀釋至刻度，搖勻，即得。

2）樣品

溶劑：流動相A∶流動相B=75∶25。

空白輔料溶液的制備：按處方配制不含奧美拉唑的空白輔料溶液，稱取空白輔料約1.8 g，置于50 mL量瓶中，加溶劑溶解并稀釋至刻度，搖勻，即得。

供試品溶液的制備：取本品適量（約相當于奧美拉唑10 mg）置于50 mL量瓶中，加溶劑溶解并稀釋至刻度，搖勻，即得。

光照降解供試品溶液的制備：取本品適量（約相當于奧美拉唑10 mg）置于50 mL量瓶中，加30 mL溶劑溶解，在4500 lx日光燈下放置24 h后，加溶劑定容，濾過，取續濾液。

氧化降解供試品溶液的制備：取本品內容物適量（約相當于奧美拉唑10 mg）置于50 mL量瓶中，加30 mL溶劑溶解，加30%過氧化氫0.5 mL，放置0.5 min，加溶劑定容，濾過，取續濾液，配制完成后應迅速進樣。

高溫降解供試品溶液的制備：取本品適量（約相當于奧美拉唑10 mg）置于50 mL量瓶中，加30 mL溶劑溶解，在水浴中放置0.5 h，取出，放冷，加溶劑稀釋至刻度，濾過，即得。

酸降解供試品溶液的制備：取本品1袋置于容量瓶中，用膠頭滴管加0.1 mol/L鹽酸48滴，室溫放置5 min，加溶劑稀釋至50 mL，濾過。

堿降解供試品溶液的制備：取本品1袋置于容量瓶中，加30 mL溶劑溶解，加5.0 mol/L氫氧化鈉溶液1 mL，放置4 h，用 5.0 mol/L鹽酸溶液調節pH值至中性，加溶劑稀釋至50 mL，搖勻，取續濾液。

制備以上各破壞溶液時同步制備其空白輔料破壞溶液。

取上述溶液適量加入自動進樣瓶中，按設定程序進行LC-MS測試。奧美拉唑主要雜質峰數據見表2。奧美拉唑碳酸氫鈉干混懸劑LC-MS主要雜質峰數據見表3。

2.4雜質解析

經LC-MS數據分析，奧美拉唑碳酸氫鈉干混懸劑樣品共產生5個雜質，參考國內外相關文獻，以及奧美拉唑裂解規律，推斷出其雜質結構。

樣品中產生了UNIMP-9、雜質D、雜質C、UNIMP-12、雜質E共5個雜質。通過高溫、光照、酸、堿、氧化破壞的結果得出，只有雜質D在破壞條件下有不同程度的增大，表明其為降解雜質，且雜質D僅在氧化條件下變化較為明顯，表明其為氧化雜質；依據UNIMP-9的結構推斷，其可能為合成中間體雜質C在進行下一步反應時產生的雜質，UNIMP-12則為奧美拉唑氮原子甲基化的產物，因此二者均為合成過程中產生的工藝雜質；而雜質E作為奧美拉唑吡啶環上氮原子氧化的產物極不穩定，在高溫、光照、酸、堿條件下均會消失，僅在氧化條件下存在，這也進一步證實了雜質E為合成過程中產生的工藝雜質。依據奧美拉唑裂解規律，參考國內外相關文獻，樣品中雜質的產生途徑大概有以下幾種。

3結束語

本次通過高溫、強光、氧化、酸、堿破壞研究考察了奧美拉唑碳酸氫鈉干混懸劑的雜質情況，通過液相質譜對其結構進行確證，進而推斷出樣品中雜質的來源。雜質D為降解雜質，UNIMP-9及UNIMP-12為工藝雜質，雜質C為合成中間體雜質，雜質E為氧化雜質。

【參考文獻】

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【作者簡介】

潘麗，女，1984年出生，高級工程師，學士，研究方向為藥物分析。

（編輯：侯睿琪）