韋錦慧,汪政紅
(中南民族大學 數學與統計學學院,武漢 430074)
均勻設計是一種非常強大的試驗設計方法,被廣泛應用于紡織工業、制藥、航空航天等領域,空間填充的均勻性是其最重要、最本質的特征,早期采用Lp-星偏差來衡量均勻性,為了克服Lp-星偏差的弱點,HICKERNELL[1]基于泛函分析中的再生核給出了偏差的統一表達式,同時定義了許多新的偏差,如中心化偏差、可卷偏差、離散偏差等,其中,中心化偏差適用于定距尺度因子,對不同設計的均勻性的區分度合理[2],因此得到廣泛應用.
尋找偏差的下界是一個不可忽視的課題.下界可用作隨機搜索算法的基準,也可用于比較一些設計的優劣.當一個設計的偏差達到偏差下界時,該設計是均勻設計.文獻[3]首次研究兩水平正規部分因子設計在中心化L2-偏差的下界,文獻[4]在其基礎上擴展到非正規情形.與文獻[3]相比,文獻[5-7]進一步得到了更緊的下界,文獻[8]研究了三水平和四水平設計的中心化L2-偏差的下界,文獻[9]提供了一個針對四水平設計更緊的下界.
文獻[10]考慮所有通過水平置換技術得到的組合同構設計,定義了平均中心化L2-偏差(Average centeredL2-discrepancy,ACD),并推導了三水平設計的平均中心化L2-偏差與它的廣義字長型(Generalized word length pattern,GWP)之間的關系,提出了均勻最小低階混雜的概念.文獻[11]將文獻[10]的結論從三水平推廣至任意q 水平對稱設計.文獻[12]進一步將中心化偏差推廣至一類滿足條件的偏差,含有中心化L2-偏差、可卷偏差、混合偏差與Lee 偏差,得到任意q 水平設計的平均偏差與GWP 之間的解析表達式.由于二三混水平設計在實踐中應用最為廣泛,本文考慮采用水平置換技術,研究二三混水平U型設計的平均中心化L2-偏差.
其中,0 ≤k1≤s1,0 ≤k2≤s2.
文獻[13]定理4給出了非對稱設計的廣義字長型,定義如下:
向量B=(B1(d),B2(d),…,Bs(d))描述了設計d的正交性程度,序貫最小化向量B,即為正交性準則.
文獻[10]和文獻[11]分別給出了三水平和q水平對稱設計的ACD 的計算公式及其證明,但關于混水平設計的ACD 計算公式在文獻中未見,本節首先給出二三混水平U 型設計的ACD 公式及詳細證明,然后由此導出ACD與GMA之間的聯系.
給定設計d中的某一試驗點x,考慮所有可能的水平置換,對二水平部分而言,其f1值保持不變,都是;對三水平部分而言,每個s2維數組會重復2s2次,故:
證畢.
偏差是從均勻性刻畫設計的填充特性,Hamming距離分布刻畫了試驗空間中,具有某種距離的試驗點成對的數量,Hamming距離分布與GWP存在緊密的聯系,下述定理刻畫了平均中心化L2-偏差與GMA的聯系.
其中R={(k1,k2):k1=0,…,s1,k2=0,…,s2,k=k1+k2}.
代入(3)式,即可證得(4)式成立.證畢.
定理2 表明,序貫最小化廣義字長型(A0(d),A1(d),…,As(d)),即較小的k且較小的Ak(d)值會得到較小的ACD(d)值,即GMA 設計擁有較小的ACD(d)值,說明了以ACD 度量的均勻性準則與GMA 準則的一致性.
正交性準則刻畫了設計d與正交設計隨強度遞增時的偏離程度,本節主要討論以ACD 度量的均勻性準則與正交性準則之間的聯系.
定理3對二三混水平設計d∈U(n;),有:
將(6)式代入,結合Bij(d) 的定義即可證得定理3.證畢.
平均中心化L2-偏差精確的下界可以作為尋找均勻設計的基準,在推導下界之前,先給出如下重要引理.
代入(3)式,即可證得結果.證畢.
例1考慮設計d1∈U(6;24× 32) 與設計d2∈U(6;24× 3),
根據定理1~定理4,計算可知:[ACD(d1)]2=LBC(6,4,2)=0.2130,e=1,[ACD(d2)]2=LBC(6,4,1)=0.1606,e=1,設計d1、d2都是基于平均中心化L2-偏差的均勻設計.