金 哲 李俊杰 蓋同樣 林景波 李哲奎 張 壽 彭鴻雁 金曾孫
提要:在不同溫度下(200—800℃)將高功率準分子激光濺射方法沉積的類金剛石膜進行退火實驗.利用Raman和XPS光譜分析類金剛石膜在退火過程中的化學鍵合結構變化.結果表明,類金剛石膜是由少量的SP2C鍵和大量的SP3C鍵組成的非晶態碳膜.在退火溫度小于600℃范圍內,類金剛石膜的熱穩定性較好;退火溫度高于600℃時,類金剛石膜中的SP3C鍵逐漸向SP2C鍵轉變,當退火溫度升到800℃時,類金剛石膜中SP3C鍵含量由退火前的大約70%下降到40%.可見,高溫退火能導致類金剛石膜的石墨化趨勢.
關鍵詞:準分子激光沉積;類金剛石膜;熱穩定性;退火溫度
中圖分類號:0484.5
文獻標識碼:A
文章編號:167l—5489(2003)04—0497—04