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探秘Intel80核處理器

2007-01-01 00:00:00
電子產(chǎn)品世界 2007年6期

如今多核已不算是什么新鮮的詞匯,甚至很多人對多核技術(shù)感到厭煩——因為已經(jīng)看得多了。而在各種文獻和媒體中,常常會看到關(guān)于多核處理器缺乏相應(yīng)的軟件的評論與報道,這些評論與報道來自專家、媒體甚至是芯片設(shè)計者本身。

多核芯片往往如潮水般來去匆匆,過去人們?yōu)槎嗪诵酒械脚d奮與激動,點燃著瞬間激情,可是又像黑夜中的煙花那樣空留絢麗的色彩后就歸于寂靜。

這次卻不同了,在今年的ISSCC(國際固態(tài)電子電路會議)上,Intel展示了80核Tera-Scale研究芯片。留意一下Intel所用的詞匯,“Tera-Scale”的定義可將其從能夠把TRP(TeraFLOPS Research Processor)從其他的雙核、四核等處理器區(qū)分開。雖然按照Intel的定義,“Tera-Scale”只是多核處理器的一個系列,但卻是下一代多核架構(gòu)。Intel指出,“它將帶我們進入TeraFLOP(每秒兆兆級浮點運算)和兆兆位處理能力的全新領(lǐng)域中。”

Intel的戰(zhàn)略:多核原理

長久以來,將理想化的工程與商業(yè)戰(zhàn)略分離并且使其獲得成功,是非常困難的。Intel一直致力于在性能開發(fā)上做執(zhí)牛耳者。從用戶的角度上來講,在挑選臺式機和筆記本這樣的產(chǎn)品時,性能是首要考慮的因素。處理器的性能與其內(nèi)部時鐘頻率息息相關(guān),可是高頻和高功耗產(chǎn)生的漏電,將會導(dǎo)致高溫。Intel將在45nm工藝中采用high-k(高介電率)絕緣體技術(shù)。借助于metal gate(金屬柵極技術(shù)),Intel希望其能夠全面改善芯片漏電情況若,若漏電降為原先的十分之一,則性能可提高20%。同時,由于45nm的低寄生效應(yīng),晶體管開關(guān)功耗也會降低百分之三十。為了更好地理解IntelTRP芯片的基本原理,這里對high-k和45nm硅技術(shù)結(jié)合的效益進行一個估算。……

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