屈寶鵬 張喜鳳
摘要:磁控濺射靶槍中磁通量密度的橫向分布情況對靶材的利用率、沉積薄膜的質量及磁控濺射過程的穩定性等都有重大的影響。利用有限元理論對靶表面磁通量密度的橫向分量進行了模擬分析。同時,也使用高斯計對靶表面磁場強度的橫向分布進行了實際測量。比較得知,模擬結果和實際測量結果在很高的精度上是一致的。這個結果對于優化磁控濺射靶槍的設計及提高膜層的特性等方面都具有很高的實用價值。
關鍵詞:磁控濺射;有限元;橫向分量;磁通量密度
中圖分類號:TB43文獻標識碼:A文章編號:1004—373X(2009)13—202—02