等離子清洗技術在大面積磁控濺射玻璃鍍膜中的應用
2012-04-12 00:00:00王樹立
消費電子 2012年9期
摘要：在大面積磁控濺射玻璃鍍膜中，使用等離子清洗技術可以有效地清潔靶面和陽極表面，徹底解決使用平面磁控濺射陰極進行反應性濺射時的“靶中毒”和“陽極消失”兩個問題。
關鍵詞：等離子；玻璃鍍膜；清洗技術
中圖分類號：TB43 文獻標識碼：A 文章編號：1674-7712 (2012) 10-0229-01
摘要：在大面積磁控濺射玻璃鍍膜中，使用等離子清洗技術可以有效地清潔靶面和陽極表面，徹底解決使用平面磁控濺射陰極進行反應性濺射時的“靶中毒”和“陽極消失”兩個問題。
關鍵詞：等離子；玻璃鍍膜；清洗技術
中圖分類號：TB43 文獻標識碼：A 文章編號：1674-7712 (2012) 10-0229-01
