摘要:在大面積磁控濺射玻璃鍍膜中,使用等離子清洗技術可以有效地清潔靶面和陽極表面,徹底解決使用平面磁控濺射陰極進行反應性濺射時的“靶中毒”和“陽極消失”兩個問題。
關鍵詞:等離子;玻璃鍍膜;清洗技術
中圖分類號:TB43 文獻標識碼:A 文章編號:1674-7712 (2012) 10-0229-01
消費電子2012年9期
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