胡志杰 李爭顯
摘 要:闡述了雙金屬電弧離子蒸發源的設計原則及結構。利用雙金屬電弧離子蒸發源成功制備了TiAlN膜層,并對優化的制備參數做了簡要介紹。
關鍵詞:電弧離子鍍離子蒸發源研制
中圖分類號:TG174 文獻標識碼:A 文章編號:1674-098X(2012)05(a)-0014-02
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