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MOCVD石墨盤熱可靠性分析

2012-07-05 08:37:34甘志銀
科技傳播 2012年3期
關鍵詞:結構

沈 橋 ,甘志銀

1.華中科技大學機械科學與工程學院,湖北武漢 430074

2.廣東昭信半導體裝備制造有限公司,廣東佛山 528251

0 引言

石墨具備耐高溫,熱膨脹系數小,熱穩定性好,高溫下強度好,易加工等各種優點,被廣泛運用于各種加熱設備的加熱基座,但石墨材料耐磨損性較差,易產生石墨粉體,在真空下容易釋放吸附氣體,嚴重制約了石墨是使用,因此高溫真空下使用時,必須對石墨基材進行鍍膜處理。SiC涂層和石墨幾乎不發生界面反應,有很好的化學物理相容性,并且熱膨脹系數的差距較小(石墨為5E-6(1/K),SiC為3E-6(1/K)),容易在涂層與基體的界面處獲得良好的梯度過渡,是理想的改善石墨材料耐磨性和抗氧化性的涂層材料[1-3]。SiC涂層具有優異的抗氧化性能、高溫力學性能、耐磨損、耐腐蝕性能以及良好的導熱性能,MOCVD等半導體行業的石墨盤的表面鍍膜廣泛采用SiC。

LED產業的快速發展,MOCVD設備單爐產量的擴大,首先表現為石墨盤的尺寸擴大,從而導致高溫下石墨盤破損失效的幾率陡升,MOCVD設備對石墨盤的熱穩定的要求越來越高。本文結合石墨盤破損的實際例子,通過模擬仿真論證石墨盤破損的可能性,提出一種熱穩定性更好的石墨盤結構,對MOCVD石墨盤的設計具有指導意義。

1 石墨盤失效形式

石磨盤的CTE約為5E-6(1/K),楊氏模量為11.8GPa,抗拉強度為29 MPa。CVD制備SiC涂層的CTE為3E-6(1/K),楊氏模量為490GPa,抗拉強度為170MPa。由于兩者力學性能的差異,高溫熱膨脹的下,往往是由于SiC涂層先破損,然后導致石墨盤破損。在MOCVD設備中,石墨盤的失效形式有兩種:SiC涂層產生裂紋和石墨盤破裂。在MOCVD生長工藝中,一旦SiC涂層破損,即使石墨盤尚未破損,由于石墨顆粒以及石墨吸附的氣體從SiC縫隙中擴散到腔體中,污染工藝生長環境,極大降低LED薄膜的質量。石墨盤破裂則是石墨盤失效的最終形式,這種失效不僅直接導致本次工藝的失敗,而且加熱器熱邊界的突然變化,對加熱器產生動載荷影響加熱器的穩定性,石墨盤以及LED襯底(一般為藍寶石)破損產生的顆粒,對MOCVD設備的穩定運行以及設備的絕緣性產生潛在威脅。

圖1 裂紋失效

圖2 破裂失效

2 石墨盤結構及模擬模型

廣東昭信半導體裝備制造有限公司成功在國內首先研制出生產型MOCVD(37X2’),具有自主知識產權的BDS 反應腔體如圖3所示:

圖3 BDS 反應腔體示意圖

本文仿真模型里主要包括:腔體壁面、石墨載片臺、石英支撐、石英整流罩、電阻片、加熱器反射板,并將中心三路入口簡化為一路,將密集噴淋簡化為噴淋面整體氣體入口。零件全部為軸對稱結構,且實際運行過程中具有石墨盤旋轉運動,因此采用二維軸對稱模型計算。模型結構如圖4 所示。其中石墨盤直徑D=400mm,石墨盤距噴淋高度11mm。

圖4 幾何模型示意圖

2.1 加熱器正常下的石墨盤熱應力

GaN的最高生長溫度一般在1000℃~1100℃,MOCVD正常工作下,石墨盤上表面的徑向溫度分布如圖5,±1K溫差的有效區域達到石墨盤面積的88.6%。石墨表面在1000℃~1100℃下通過CVD工藝蒸鍍一層80μm~120μ m的SiC涂層[4-6],東洋碳素SiC工藝溫度一般為1000℃,模擬仿真時熱力應力參考溫度設為1000℃[7]。正常工作下的石墨盤最大熱應力如圖6,最大應力出現在SiC涂層內,達到為81.67MPa,遠小于CVD工藝SiC涂層170MPa的應力極限。石墨材質的最大熱應力為2.77MPa,遠低于石墨材質30MPa的應力極限。

圖6 正常工作下石墨盤最大熱應力

2.2 A、B、C三區失效對比

調整A、B、C三區加熱片的功率,分別模擬三區中某一區由于特定原因(例如電源故障,PLC控制失效)導致功率密度為零,這種意外情況下的石墨盤應力。

表1 熱應力對比

B區功率缺失 101K 8.47 175.6 C區功率缺失 210K 12.4 236.7

三區加熱中,C區加熱片失效導致石墨盤溫差最大,石墨盤和SiC涂層的熱應力也最大,SiC涂層的熱應力達到236.7MPa,遠大于CVD工藝SiC涂層170MPa的拉伸應力極限。A區加熱片失效導致石墨盤溫差達到135K,內部溫度梯度相對最小,熱應力也最小僅為92.5MPa,沒有超過SiC涂層的應力極限。B區電阻片失效,石墨盤溫差最低,但是相對于A區加熱片失效,石墨盤內部溫度梯度約為A區加熱片失效的1.5倍~2倍,其熱應力也遠大于A區失效,SiC涂層最大應力達到175.6MPa。

2.3 升溫過程中的熱應力

圖7 加熱器升溫曲線

MOCVD加熱器通過PID三區獨立控溫,一個典型的升溫曲線如圖7。可以看到,溫度曲線是收斂的,這說明采用PID控制方法,在一定的時間內,可以使石墨盤表面的溫度達到設定值。另一方面,三區獨立控溫造成三區升溫不同步,某一時刻的最大溫差可以達到50℃,最大熱應力達到70MPa左右,雖然沒有超過最大允許應力,但是在反復的升降溫過程中,非常容易導致疲勞損壞,導致石墨盤產生裂紋而失效。

2.4 石墨盤結構對熱可靠性的影響

MOCVD生產廠家中,一般采用如下兩種石墨盤結構,第一種以德國Aixtron和廣東昭信半導體裝備制造有限公司為代表,如圖8,第二種以美國VECCO為代表,如圖9。分別模擬兩種石墨盤結構在正常溫差±1K情況下和C區加熱器失效的最大熱應力情況下的應力分布情況,兩種結構最大外徑200mm,厚度9mm,模擬結果如表2。

圖8 U型結構石墨盤

圖9 平板型結構石墨盤

比較兩種結構,可以看出,無論是正常溫差下還是最大熱應力情況下,平板型結構石墨盤 的熱應力明顯小于U型結構石墨盤,平板型結構石墨盤的石墨盤即使在最大熱應力情況下,熱應力也沒有超過材料的應力極限。平板型結構石墨盤 的石墨盤在熱可靠性方面明顯由于U型結構石墨盤,這主要是由于U型結構石墨盤的石墨盤有相當部分的結構位于側面,這部分結構的溫度遠低于石墨盤有效區域的溫度,從而約束了石墨盤的熱脹冷縮,產生大量熱應力。

表2 兩種結構的熱應力對比

平板型結構 2K 0.3 9.73

基于以上分析,平板型結構石墨盤的石墨盤在熱可靠性方面明顯由于U型結構石墨盤 ,下面分析平板型結構石墨盤的兩個主要參數厚度h和半徑R對熱應力的影響。

2.5 石墨盤厚度對熱可靠性的影響

假設石墨盤溫度為最大熱應力工況,此時C區溫度失效,熱應力最大。改變石墨盤的有效厚度,可以看出,石墨盤有效厚度從7mm增加到9mm,熱應力從136.3MPa上升到138.6MPa,熱應力略有上升,但都未超過材料的極限熱應力。厚度對石墨盤的熱可靠性影響很小。

圖10 石墨盤厚度對熱應力的影響

2.6 石墨盤直徑對熱可靠性的影響

假設石墨盤溫度為最大熱應力工況,此時C區溫度失效,熱應力最大。在保證石墨盤內部溫度梯度相同的情況下,改變石墨盤的有效半徑,可以看出,石墨盤有效半徑從150增加到250mm,熱應力從118.7MPa迅速上升到166.8MPa,半徑250mm時都已經接近材料的極限熱應力。石墨盤半徑對石墨盤的熱可靠性影響很大,這也印證了隨著MOCVD單爐產量的越來越大,石墨盤裂紋失效和破損失效越來越頻繁的發生。

3 結論

1)概括了MOCVD設備石墨盤失效的兩種失效方式,即裂紋失效和破損失效;

2)結合實際情況,模擬了正常工況下和三區中某一區加熱失效情況下的熱應力,從理論上論述了C區加熱失效最容易導致石墨盤破損;

3)加熱器三區獨立控溫,石墨盤升溫不同步,導致產生較大的熱應力,在反復升降溫的過程中極易導致疲勞損壞,產生裂紋失效;

4)對比兩種主流的石墨盤結構,平板型結構石墨盤 在熱可靠性方面明顯優于U型結構石墨盤;

5)分析影響平板型結構石墨盤 熱可靠性的兩個主要因素,石墨盤的熱應力隨著直徑的增大而明顯增大,但是熱應力對石墨盤厚度的變化不敏感。

圖11 直徑對熱應力的影響

[1]付志強.SiC涂層對高溫氣冷堆用石墨摩擦磨損性能的影響[J].金屬熱處理,2005,30(9):13-16.

[2]張玉娣,張長瑞,劉榮軍,等.C/SiC復合材料與CVD SiC涂層的結合性能研究[J].航空材料學報,2004,24(4):27-29.

[3]張青,成來飛,張立同,等.界面相對3D一C/SIC復合材料熱膨脹性能的影響[J].航空學報,2004,25(5):508-512.

[4]Y.M.Lu,I.C.Leu Microstructural study of residual stress in chemically vapor deposited b-SiC [J].200,124,262-265.

[5]劉榮軍,張長瑞,周新貴,曹英斌,劉曉陽.CVD SiC致密表面涂層制備及表征[J].金屬熱處理,2002(12):3-6.

[6]劉榮軍,張長瑞,劉曉陽,周新貴,曹英斌.CVD過程中溫度對SiC涂層沉積速率及組織結構的影響[J].航空材料學報,2004,24(4):22-26.

[7]Data in‘Carbon Graphite’.the catalogue of Toyo Tan So Co.

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